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公开(公告)号：JP2019132637A
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：JP2018013472
申请日：2018-01-30
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 【課題】欠陥観察装置において、欠陥サイズによらず高精度で欠陥を検出する。 【解決手段】光学顕微鏡105、光学顕微鏡305及び電子顕微鏡106の中から、試料101上の観察対象を観察する撮像構成を一つ選択して、選択した撮像構成の撮像条件を制御する。 【選択図】図1
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