パターン検査システム
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020035282A

    公开(公告)日:2020-03-05

    申请号:JP2018162607

    申请日:2018-08-31

    Abstract: 【課題】 学習データの真値作成作業の手間を省き、学習データの少量化を図ることで、学習時間の短期間化を可能とするパターン検査システムを提供する。 【解決手段】 電子デバイスの検査対象パターンの画像102と、検査対象パターンを製造するために使用するデータ101に基づき、機械学習により構成された識別器302を用いて検査対象パターンの画像を検査するパターン検査システムであって、電子デバイスの複数のパターン画像と前記電子デバイスのパターンを製造するために使用するパターンデータ101を格納する記憶部と、記憶部に格納されたパターンデータ101とパターン画像に基づき、前記複数のパターン画像から機械学習に用いる学習用パターン画像を選択する画像選択部103と、を備える。 【選択図】 図1

    画像評価方法及び画像評価装置
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019129169A

    公开(公告)日:2019-08-01

    申请号:JP2018007803

    申请日:2018-01-22

    Abstract: 【課題】 本発明は、虚報を多発させることなく、システマティック欠陥の検出が可能な画像生成方法、及び画像生成装置の提供を目的とする。 【解決手段】 上記目的を達成するために、設計データを画像化する設計データ画像生成部と、画像化した設計データ画像を教師とし、それに対応する検査対象画像を用いて、検査対象画像から設計データ画像を生成するためのモデルを作成する機械学習部と、前記機械学習部で作成したモデルを用いて、検査対象画像から設計データ画像を予測する設計データ予測画像生成部と、検査対象画像に対応する設計データを画像化する設計データ画像生成部と、前記設計データ予測画像生成部で生成した設計データ予測画像と、前記設計データ画像とを比較する比較部を備えることで、欠陥の画像を用いずに、虚報を多発させることなく、システマティック欠陥の検出が可能な画像評価方法及び装置を提案する。 【選択図】図1

    露光条件評価装置
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018056143A

    公开(公告)日:2018-04-05

    申请号:JP2014263805

    申请日:2014-12-26

    CPC classification number: G03F7/7055 G03F7/705 G03F7/70558 G03F7/70641

    Abstract: 【課題】FEMウエハの形成状態に依らず、FEMウエハから得られる情報に基づいて、適正にウエハの露光条件を評価、或いは適正な露光条件を算出する露光条件評価装置を提供する。 【解決手段】縮小投影露光装置によって試料上に露光されたパターン情報に基づいて、複数の異なる露光条件の設定によって形成された複数のパターンの第1の特徴量を、露光条件を一律にすることによって形成された複数のパターンの第2の特徴量を用いて補正し、縮小投影露光装置の露光条件を算出する露光条件評価装置。 【選択図】図1

    画像処理システム及び画像処理を行うためのコンピュータープログラム

    公开(公告)号:JP2018163524A

    公开(公告)日:2018-10-18

    申请号:JP2017060351

    申请日:2017-03-27

    CPC classification number: G06T7/00

    Abstract: 【課題】 本発明は、識別器を用いた画像識別に用いられる照合画像を学習する画像処理システムのデータ量の抑制と識別器の識別性能向上の両立を目的とする。 【解決手段】 上記目的を達成するために、照合画像を用いて画像を識別する識別器(9)を備えた画像処理システムであって、画像識別に要する照合画像データを機械学習する機械学習エンジン(1)を備え、当該機械学習エンジンは、識別に失敗した画像(2)を用いて、識別に成功した画像(3)の探索を行い、当該探索によって得られた識別に成功した画像に、前記入力装置によって選択された前記識別に失敗した画像の部分画像に基づいて得られる情報を付加して補正照合画像データ(13)を生成する画像処理システムを提案する。 【選択図】図14

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