酸化装置
    6.
    发明专利
    酸化装置 审中-公开
    氧化剂

    公开(公告)号:JPWO2015025809A1

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:JP2015532845

    申请日:2014-08-18

    IPC分类号: H01L21/31 H01L21/316

    CPC分类号: C30B35/00 C30B33/005

    摘要: ウェハの温度分布のバラツキをなくし、均一に酸化を進行させることが可能な酸化装置を提供する。本発明に係る酸化装置は、内部を気密にすることが可能なチャンバ1と、チャンバ1の内部にて、酸化対象となるウェハ10を載置するステージ2と、酸化ガスをチャンバ1内へ供給する酸化ガス供給部20とを備える。酸化ガスは真空雰囲気中で加熱することにより気化した水蒸気ガスであり、酸化ガス供給部20は、水蒸気ガスを、内部を真空雰囲気としたチャンバ2内へ流量制御して供給する。

    摘要翻译: 消除晶片的温度分布的不均匀性,提供能够均匀地超前于氧化的氧化剂。 根据本发明,供应和腔室1能够将内部气密的在腔室1的内部,用于安装的晶片10的阶段2氧化设备被氧化靶,氧化性气体向腔室1 和用于氧化剂气体供给单元20。 氧化剂气体是通过加热在真空气氛中蒸发的水蒸汽的气体,氧化剂气体供给单元20,蒸汽气体被供给到流量控制内部到腔室2中的真空气氛。