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公开(公告)号：JP6335103B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2014231817
申请日：2014-11-14
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68728
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公开(公告)号：JP2021106209A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019236617
申请日：2019-12-26
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B55/06 , B08B1/04 , H01L21/304
Abstract: 【課題】洗浄部材を退避位置から洗浄位置まで移動可能な洗浄装置において、洗浄槽のフットプリントを小さくできる洗浄装置を提供する。 【解決手段】洗浄装置16は、ウェハWの洗浄を行う洗浄空間を画定する洗浄槽41と、洗浄槽41の内側に配置され、ウェハを保持して回転させるウェハ回転機構42と、ウェハの表面に接触して洗浄する洗浄部材43であって、横方向に延びる中心軸線回りに回転可能な洗浄部材43と、洗浄部材43を、洗浄槽41の内側に位置する揺動軸線回りに揺動させて、ウェハWの外側の待避位置からウェハWの直上の洗浄位置まで移動させる揺動機構44と、を備える。洗浄部材43の長さは、ウェハWの半径よりも長く、洗浄部材43の中心から揺動軸線までの距離は、ウェハWの直径より小さく、揺動機構44が洗浄部材43を揺動軸線回りに揺動させる際に、洗浄部材43はウェハWの中心の直上を通過する。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2019186320A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018072976
申请日：2018-04-05
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 【課題】基板洗浄装置に適切に洗浄液を供給できる、あるいは、メンテナンス性が向上する洗浄液供給システム、そのような洗浄液供給システムを備える基板処理装置、および、そのような基板処理装置を備える基板処理システムを提供する。 【解決手段】一端が洗浄液供給装置の供給口に接続され、他端が前記洗浄液供給装置の回収口に接続され、内部を洗浄液が流れる循環ラインと、前記循環ラインから分岐し、基板洗浄ユニットに接続される分岐管と、前記分岐管に設けられ、前記循環ラインから前記基板洗浄ユニットへの洗浄液供給を制御する弁と、前記循環ラインに流れる洗浄液の流量を調整する流量調整手段と、を備える洗浄液供給システムが提供される。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6181438B2
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：JP2013131409
申请日：2013-06-24
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/687
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公开(公告)号：JP2016096256A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：JP2014231817
申请日：2014-11-14
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68728
Abstract: 【課題】基板を支持する支柱を付勢するためのばねに大きな遠心力が加わっても、ばねの変形を最小とすることができる改良された基板保持装置を提供する。 【解決手段】基板保持装置は、軸方向に移動自在な支柱2と、支柱2に設けられた、基板Wの周縁部を把持するチャック3と、支柱2をその軸方向に付勢するばね30と、ばね30の上側部位の、軸方向に対して垂直な方向への移動を制限する第1の構造体31と、ばね30の下側部位の、軸方向に対して垂直な方向への移動を制限する第2の構造体33とを備える。 【選択図】図6
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种改进的基板保持装置，其能够使弹簧的变形最小化，如果向弹簧添加大的离心力，以激励支撑基板的支撑柱。解决方案：基板保持装置包括：支撑柱2 可自由移动到轴向; 设置在支撑柱2上用于保持基板W的周边部分的卡盘3; 弹簧30，用于使支撑柱2沿其轴向方向受力; 第一结构31，其将弹簧30的上侧部分的运动限制到与轴向垂直的方向; 以及第二结构33，其限制弹簧30的下侧部分与垂直于轴向方向的运动。图6
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016064480A
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：JP2014195584
申请日：2014-09-25
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B53/12 , B24B37/00
Abstract: 【課題】ウェハに対する処理をドレスリンスと同時並行して行っても、ドレスリンスで使用される洗浄液によりウェハの汚染を防止できるコンディショニング部を提供すること。 【解決手段】基板処理装置1000のバフパッド502をドレスするためのドレッサ820を備えたコンディショニング部800であって、ドレッサ820に洗浄液を噴射して洗浄するドレッサ洗浄機構840を更に備え、ドレッサ820の表面はドレッサ820に隣接配置されたバフテーブル400よりも低い位置となっている。 【選択図】図8
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种调节部件，即使在与洗涤剂冲洗同时进行处理的同时，也可以防止由洗衣液中使用的清洗液引起的晶片的污染。解决方案：调理部分800包括修整器 820，用于修整衬底处理设备1000的抛光垫502.调理部分800还包括敷料清洁机构840，其将清洁流体喷射到修整器820以清洁修整器820.修整器820的表面定位成低于 抛光台400设置在修整器820附近。选定的图示：图8
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公开(公告)号：JP2021190643A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020097110
申请日：2020-06-03
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683 , B08B1/04 , H01L21/304
Abstract: 【課題】洗浄部材アセンブリを洗浄部材保持部に容易に取り付けることができる洗浄部材取付機構及び基板洗浄装置を提供する。 【解決手段】洗浄部材取付機構は、基板Wを洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリ100を取り付け可能となる洗浄部材保持部200と、前記洗浄部材保持部200で保持された前記洗浄部材アセンブリ100を回転させる部材回転部180と、前記洗浄部材アセンブリ100を取り外した状態で前記洗浄部材保持部200を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部200の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部150と、を有する。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2021106214A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019236734
申请日：2019-12-26
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 【課題】ロールスクラブ洗浄工程の前もしくは後に、同じ洗浄槽内にて、ウェハの中心を通過するように第2洗浄手段を揺動させてウェハの表面を洗浄できる洗浄装置を提供する。 【解決手段】洗浄装置は、ウェハの洗浄を行う洗浄空間を画定する洗浄槽と、洗浄槽の内側に配置され、ウェハを保持して回転させるウェハ回転機構と、ウェハの表面に接触して洗浄する洗浄部材であって、横方向に延びる中心軸線回りに回転可能であり、軸線方向の長さがウェハの半径よりも長い洗浄部材と、洗浄部材を、洗浄槽の内側に位置する揺動軸線回りに揺動させて、ウェハの外側の待避位置からウェハの直上の洗浄位置まで移動させる揺動機構と、ウェハの表面を洗浄する第2洗浄手段と、第2洗浄手段を、洗浄槽の内側に位置する第2揺動軸線回りに揺動させてウェハの中心の直上を通過させる第2揺動機構と、を備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2017107900A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2015238395
申请日：2015-12-07
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B29/00 , B24B41/06 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67219 , H01L21/67196 , H01L21/6838 , H01L21/68742
Abstract: 【課題】本発明は、リフトピンによって、基板にダメージを与えることなく基板をテーブルから脱着する基板処理装置を提供する。 【解決手段】基板を載置可能な真空吸着テーブル400と、真空吸着テーブルの外周に沿って配置される複数のリフトピン48と、を備える基板処理装置であって、複数のリフトピンの各々は、基板WFの外周端面を案内可能な基板案内面を含む先端部と、基板案内面からリフトピンの径方向外側に延びる基板保持面を含む基端部と、を備えている。複数のリフトピンは、基板案内面が真空吸着テーブルの吸着面より下方に配置される下端位置、基板保持面が真空吸着テーブルの吸着面402より上方に配置される上端位置及び下端位置と上端位置との間の中間位置で、停止可能であり、中間位置において、基板案内面は、真空吸着テーブルの吸着面より上方に配置されており、基板保持面は、真空吸着テーブルの吸着面より下方に配置される。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2016043471A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2014171837
申请日：2014-08-26
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B29/00 , H01L21/304 , B24B37/34
Abstract: 【課題】研磨処理において基板が取り付けられるテーブル、バッキング材の洗浄度を向上させる基板処理装置を提供する。 【解決手段】処理対象物をバフ処理するための装置であるバフ処理モジュール300Aは、処理対象物を支持するための支持面402を備えるバフテーブル400と、バフテーブル400の支持面402を洗浄するための薬液を支持面402に供給するための薬液供給手段である第1薬液ノズル720、第2薬液ノズル720−2と、を有する。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够提高在抛光期间安装基板的工作台的洗涤程度和背衬材料的基板处理装置。解决方案：抛光处理模块300A是用于对抛光处理模块执行抛光处理的装置 处理对象，包括：抛光台400，其包括用于支撑处理对象的支撑表面402; 以及用作化学溶液供应装置的第一化学喷嘴720和第二化学喷嘴720-2，其构造成提供用于将抛光台400的支撑表面402洗涤到支撑表面402的化学溶液。选择的图示：图2
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