基板洗浄装置及び基板洗浄方法
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018182116A

    公开(公告)日:2018-11-15

    申请号:JP2017081228

    申请日:2017-04-17

    Abstract: 【課題】金属層を有する基板を洗浄する場合であって、異なる種類の洗浄液を用いるときであっても、金属層にダメージが入ってしまう可能性を低減する。 【解決手段】基板洗浄装置は、金属層90を有する基板Wを洗浄する基板洗浄装置であって、薬液を供給する薬液供給部60と、リンス液を供給するリンス液供給部70と、前記薬液中の前記金属層90の電極電位と前記リンス液中の前記金属層90の電極電位との間の電極電位を前記金属層90に発生させる中間液を供給する中間液供給部75と、前記薬液を前記基板Wに供給し、その後で前記中間液を前記基板Wに供給し、その後で前記リンス液を前記基板Wに供給させる制御部50と、を有する。 【選択図】 図7

    洗浄装置、洗浄方法、洗浄液製造装置および洗浄液製造方法
    2.
    发明专利
    洗浄装置、洗浄方法、洗浄液製造装置および洗浄液製造方法 审中-公开
    清洁装置,清洁方法,清洁液制备单元和清洗制造方法

    公开(公告)号:JP2017017099A

    公开(公告)日:2017-01-19

    申请号:JP2015130062

    申请日:2015-06-29

    Abstract: 【課題】金属層が形成された基板を好適に洗浄できる洗浄装置および洗浄方法、ならびに、そのような基板を洗浄するための洗浄液を製造する洗浄液製造装置および洗浄液製造方法を提供する。 【解決手段】金属層が形成された基板(W)を洗浄する洗浄装置(100)であって、前記金属層に用いられる金属および/またはその酸化物に由来する金属イオンを洗浄液に供給する金属イオン供給部(2)と、前記金属イオンが供給された洗浄液を用いて前記基板(W)を洗浄する洗浄ユニット(3)と、を備える洗浄装置(100)が提供される。 【選択図】図2

    Abstract translation: 一种清洗装置,和在其上形成金属层可以适当地清洗,并提供一种清洗液制备单元和清洗制造方法用于制造用于清洁这种衬底的清洁溶液的衬底的清洗方法。 本发明提供一种清洗装置用于清洗金属层已经形成,其在基板(W)(100),从所述金属得到的金属供给金属离子和/或它们的氧化物在金属层中使用的清洗液 离子供给(2),(3),用于使用在其中金属离子被供给的清洗液清洗基片(W),清洁装置(100),包括设置单元的清洁单元。 .The

    研磨液の研磨性能判定方法及び装置
    3.
    发明专利
    研磨液の研磨性能判定方法及び装置 有权
    用于确定抛光液抛光性能的方法和装置

    公开(公告)号:JP2015226959A

    公开(公告)日:2015-12-17

    申请号:JP2014113915

    申请日:2014-06-02

    Abstract: 【課題】研磨後スラリーの成分の濃度もしくは成分の濃度に対応する物理量を測定することでスラリーの促進剤成分と阻害剤成分とを評価することによりスラリーの鮮度を判定することができる研磨液の研磨性能判定方法を提供する。 【解決手段】被研磨物の溶解を促進する促進剤および被研磨物の溶解を阻害する阻害剤を含む研磨液の研磨性能を判定する研磨液の研磨性能判定方法であって、研磨廃液を分光法により分析し、促進剤または阻害剤または促進剤と被研磨金属との錯体化合物を識別可能な波長の中から複数の波長を選択し、選択した複数の波長の吸光度を測定することにより研磨液の研磨性能を判定する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种抛光液的抛光性能测定方法,其可以通过测量抛光后的浆料组分的浓度或通过测量浆料的组分的浓度来评估浆料的助催化剂组分和抑制剂组分来确定浆料的新鲜度 物理量对应于组分的浓度。溶液:抛光液性能测定方法确定含有促进待抛光制品的溶解促进剂的抛光液和抑制物质溶解的抑制剂的研磨液的抛光性能。 通过光谱分析废抛光液体,以从能够区分启动子和抑制剂或促进剂和抛光金属之间的复合化合物的波长中选择多个波长,使得抛光液的抛光性能通过测量吸光度 选择多个波长。

    回転式機械およびその部品
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020172909A

    公开(公告)日:2020-10-22

    申请号:JP2019076188

    申请日:2019-04-12

    Abstract: 【課題】ケーシング内の液の漏れ流れを抑制し、かつ部品の摩耗を少なくできる回転式機械およびその部品を提供する。 【解決手段】回転式機械100は、回転軸1を有する回転構造体10と、回転構造体10を収容するケーシング3と、回転構造体10とケーシング3との間における液Lの流れを制限する部品4と、を備える。回転構造体10とケーシング3のうち少なくとも一方は、部品4に対面する対面領域を有する。部品4と前記対面領域のうち少なくとも一方に、ポリマーブラシ層50が形成されている。 【選択図】図1

    配管用加熱装置
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021173360A

    公开(公告)日:2021-11-01

    申请号:JP2020079059

    申请日:2020-04-28

    Abstract: 【課題】ヒーターから配管への熱伝達効率を向上させることができる加熱装置を提供する。 【解決手段】加熱装置は、配管100の外面に沿った形状の内面1a,2aをそれぞれ有する第1金属板1および第2金属板2と、第1金属板1および前記第2金属板2の外側にそれぞれ配置された第1断熱材5および第2断熱材6と、第1金属板1および第2金属板2にそれぞれ取り付けられた第1ヒーター7および第2ヒーター8を備えている。 【選択図】図1

    浸水部材、ポンプ
    9.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020115028A

    公开(公告)日:2020-07-30

    申请号:JP2019006571

    申请日:2019-01-18

    Abstract: 【課題】耐用寿命を延長できる浸水部材、ポンプの提供。 【解決手段】液体に浸る浸水部(吸込ベル11Aと揚水管11Bとの接続部A)に、ナノサイズの複数のピラーを有するナノピラー構造体84が設けられている。ナノピラー構造体84は、ピラー間のナノサイズの隙間に空気を保持し、空気溜まりを形成することができる。この空気溜まりによって、接続部Aの隙間において発生する毛細管力を低減し、その隙間への液体の浸入を抑制することができる。また、ピラー間の空気溜まりによって液体が侵入しなければ、液体との接液面積も減るため、吸込ベル11Aと揚水管11Bの液中での腐食速度を低下させることができる。 【選択図】図2

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