基板処理装置
    1.
    发明专利
    基板処理装置 有权
    基板处理设备

    公开(公告)号:JP2016168541A

    公开(公告)日:2016-09-23

    申请号:JP2015049896

    申请日:2015-03-12

    Abstract: 【課題】 ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできる基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板処理装置は、チャンバ内において基板処理を行う基板処理部3と、チャンバ内において洗浄処理を行う洗浄ユニット40を備えている。洗浄ユニット40は、液体供給口41と液体放射口42とを有する本体43と、液体供給口41と液体放射口42との間に形成される流路44と、流路44に設けられるバルブ45を備えている。洗浄ユニット40では、バルブ45が開状態にされると、流路44が開通して液体放射口42からの液体の放射が行われ、バルブ45が閉状態にされると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体の放射が停止される。流路44には、バルブ45が閉状態になるときに作動してウォーターハンマー現象による流路44へのダメージを低減するウォーターハンマー低減機構48が設けられている。 【選択図】 図5

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种能够减少水锤现象造成的损伤的基板处理装置。解决方案:一种基板处理装置,包括:在室内进行基板处理的基板处理部3;进行清洗处理的清洗部40 在房间里 清洁单元40设置有具有液体供给口41和液体排出口42的主体43,形成在液体供给口41和液体排出口42之间的流路44,以及配置在流体 在清洁单元40中,当阀45处于打开状态时,流动通道44打开,液体从液体排出口42排出。当阀45处于关闭状态时,流路 44被封闭,并且液体从液体排出口42的排出停止。 流路44具有在阀45处于关闭状态时动作的水击减少机构48,并且通过水击现象减少流路44的损坏。图5

    ハンドシャワーガンおよびウォーターハンマー低減機構
    4.
    发明专利
    ハンドシャワーガンおよびウォーターハンマー低減機構 有权
    手水枪和水锤减少机制

    公开(公告)号:JP2016163926A

    公开(公告)日:2016-09-08

    申请号:JP2015045278

    申请日:2015-03-06

    Abstract: 【課題】 ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできるハンドシャワーガンを提供する。 【解決手段】 ハンドシャワーガン40は、液体供給口41と液体放射口42とを有する本体43と、液体供給口41と液体放射口42との間に形成される流路44と、流路44に設けられるバルブ45と、バルブ45の開閉操作を行う操作ハンドル46を備えている。操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体の放射が行われ、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体の放射が停止される。本体43の内部の流路44には、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構48が設けられている。 【選択図】 図5

    Abstract translation: 要解决的问题:提供能够减少水锤现象造成的损害的手持式淋浴枪。解决方案:手持式淋浴枪40包括:具有液体供应口41和液体喷射口42的本体43; 形成在液体供给口41和液体喷出口42之间的流路44; 设置在流路44中的阀45; 以及执行阀45的切换操作的操作手柄46.当操作手柄46打开并且阀45处于打开状态时,流动通道44被打开以从液体辐射端口42辐射液体。当 关闭操作手柄46并且阀45处于关闭状态,流动通道44被关闭以便停止从液体辐射端口42喷射液体。主体43内部的流动通道44设置有减少水锤 机构48,其在操作手柄46关闭并且阀45处于关闭状态时操作。选择的图示:图5

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