公开(公告)号：JP2020104240A

公开(公告)日：2020-07-09

申请号：JP2018247920

申请日：2018-12-28

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 上村 健司 ,  山野邊 北斗 ,  石川 翔

IPC: B24B47/22 ,  B24B9/00 ,  B24B21/08 ,  H01L21/304 ,  H01L21/677 ,  B24B41/06

Abstract: 【課題】基板のベベル研磨の際のバラつきを抑制する態様を提供する。 【解決手段】移載機80は基板Wの裏面を保持する基板吸着保持部20へと基板Wを搬送する。移載機80は、一対のハンド810と、前記ハンド810に設けられ、基板Wの裏面を支持する支持部材821と、前記ハンド810に設けられ、前記支持部材821で支持されている基板Wの側面を保持する保持部材831と、を有している。前記支持部材821は3つ設けられ、前記支持部820は、一方のハンド810に2つの支持部材821が設けられ、他方のハンド810に1つの支持部材821が設けられている。 【選択図】 図1

公开(公告)号：JP2021015873A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2019129198

申请日：2019-07-11

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 山野邊 北斗 ,  石川 翔 ,  上村 健司

IPC: B24B21/00 ,  B24B9/00 ,  B24B55/00 ,  B24B55/02 ,  H01L21/304

Abstract: 【課題】基板の周縁部の研磨時に基板に付着した異物を研磨中に除去し、かつ研磨中の基板の逆汚染を防ぐことができる研磨装置および研磨方法を提供する。 【解決手段】研磨装置1は、基板Wを保持するための保持ステージ4、および保持ステージ4を回転させるステージ回転装置14を有する基板保持部10と、研磨具31を保持ステージ4上の基板Wの周縁部に接触させる研磨ヘッド50と、基板Wの周縁部を含む環状のターゲット領域71,72を向いて配置されたオゾンナノバブル水供給ノズル21,22と、オゾンナノバブル水供給ノズル21,22に連結されたオゾンナノバブル水供給源100とを備えている。 【選択図】図2