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公开(公告)号：JP2016143657A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015021503
申请日：2015-02-05
申请人： 王子ホールディングス株式会社
摘要： 【課題】プラズモニック構造体を備えるEL表示装置において互いに隣り合う画素間における混色を抑えることのできるEL表示装置を提供する。 【解決手段】陰極層16は、EL層と接する面に、前記EL層の出光する光の波長帯に含まれるプラズモン光を励起するように最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造を備え、陽極層14R,14Gを基準とした高さ方向において、画素定義壁40の側面40Sにおける高さ方向の途中まで前記側面40SはEL層に覆われ、画素定義壁40の有する高さはEL層の有する高さよりも大きい。 【選択図】図2
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种包括等离子体激元结构的EL显示装置，其中彼此相邻的像素之间的混色可以最小化。解决方案：在EL显示装置中，阴极层16包括与 EL层，等离子体结构，其中设置最频繁的间距以激发包括在从EL层发射的光的波长带中的等离子体光。 在垂直于阴极层14R，14G的高度方向上，像素限定壁40的侧面40S部分地在侧面40S的高度方向上被EL层覆盖，像素限定壁40的高度为 高于EL层的高度。选择图：图2
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公开(公告)号：JPWO2017126590A1
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017001691
申请日：2017-01-19
申请人： 王子ホールディングス株式会社
CPC分类号： G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/10 , H05B33/12 , H05B33/22 , H05B33/26 , H05B33/28
摘要： この発光素子は、基板と、前記基板の一方の面側に設けられた第1電極層と、前記第1電極層上に前記第1電極の表面の一部を露出させた状態で設けられた透明部材と、前記透明部材の表面と、露出した第1電極層とを被覆する透明導電層と、前記透明導電層上に設けられた有機発光層と、前記有機発光層の前記第1電極層と反対側に設けられた第2電極層とを備え、前記第2電極層の、前記第1電極層と対向する側の表面が、前記透明部材の存在箇所に対応する凹凸形状を有する。
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公开(公告)号：JP6206336B2
公开(公告)日：2017-10-04
申请号：JP2014124552
申请日：2014-06-17
申请人： 王子ホールディングス株式会社
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205 , C30B25/18 , H01L33/22
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公开(公告)号：JP2021051107A
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：JP2019172107
申请日：2019-09-20
申请人： 王子ホールディングス株式会社
IPC分类号： C08L101/06 , C08F20/28 , G03F7/40 , G03F7/26 , H01L21/3065 , G03F7/11
摘要： 【課題】本発明は、優れたエッチング加工性を発揮するパターン形成用膜を形成し得るパターン形成用組成物を提供することを課題とする。 【解決手段】本発明は、ポリマーを含むパターン形成用組成物であって、ポリマーの自由体積半径をPrとし、パターン形成用組成物からパターンを形成する際に導入される金属の原子核半径をMrとした場合、2≦Pr/Mr≦3.3の条件を満たす、パターン形成用組成物に関する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021148831A
公开(公告)日：2021-09-27
申请号：JP2020045512
申请日：2020-03-16
申请人： 王子ホールディングス株式会社 , DIC株式会社
IPC分类号： C08F222/20 , C08F290/06 , G03F7/11
摘要： 【課題】有機溶剤に対する残存率が高く、かつエッチング耐性に優れた下層膜を形成し得る下層膜形成用組成物を提供すること 【解決手段】コポリマー及び有機溶剤を含み、パターン形成に用いる下層膜形成用組成物であって、前記コポリマーが、(a)糖誘導体に由来する単位と、(b)光反射防止機能を有する化合物に由来する単位と、(c)前記コポリマーをクロスカップリングし得る化合物に由来する単位と、(d)下層膜へのガス透過を促進する官能基を有する単位とを含み、前記(a)糖誘導体に由来する単位は、ペントース誘導体に由来する単位及びヘキソース誘導体に由来する単位から選択される少なくとも一種であり、 前記下層膜形成用組成物は金属導入用である、下層膜形成用組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021051108A
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：JP2019172108
申请日：2019-09-20
申请人： 王子ホールディングス株式会社
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/3065 , C08F220/28 , C08F212/08 , G03F7/11
摘要： 【課題】本発明は、優れたエッチング加工性を発揮するパターン形成用膜を形成し得るパターン形成用組成物を提供することを課題とする。 【解決手段】本発明は、ポリマーを含むパターン形成用組成物であって、パターン形成用組成物を基板上に塗布して、厚みが300nmのパターン形成用膜を形成し、パターン形成用膜に500Paの圧力下で300秒間金属ガスを導入した場合、パターン形成用膜に含まれる金属の総含有量が4.0atom%以上となり、パターン形成用膜の厚み方向における最大金属含有率をAatom%とし、パターン形成用膜の厚み方向の中間点における金属含有率をBatom%とした場合、A/Bの値が10.0以下となる、パターン形成用組成物に関する。 【選択図】なし
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