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公开(公告)号:KR102235755B1
公开(公告)日:2021-04-08
申请号:KR1020190082104A
申请日:2019-07-08
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: H01L29/788 , H01L21/02 , H01L21/768 , H01L29/66 , H01L29/778 , H01L29/78 , H01L29/808
CPC classification number: H01L29/788 , H01L21/0228 , H01L21/76838 , H01L29/66825 , H01L29/778 , H01L29/785 , H01L29/8083
Abstract: 본 발명은 반도체 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 소자는 기본 소자, 상기 기본 소자의 적어도 일 방향에 형성되는 중간층 및 상기 기본 소자에 대향하는 방향에서 상기 중간층에 형성되는 금속층을 포함할 수 있으며, 중간층 내부에는 중간층에 대한 전압의 인가에 따라서 전도성 필라멘트가 생성될 수 있다.