ORゲートデバイス
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021141319A

    公开(公告)日:2021-09-16

    申请号:JP2021024628

    申请日:2021-02-18

    摘要: 【課題】コンパクトなORゲートデバイスなどのゲート制御型半導体デバイスを提供する。 【解決手段】ORゲートデバイスは、2つの十字形構造を含む。各十字形構造はチャネルを含む。各チャネルの端部には、2つの十字形構造を接続するオーミックコンタクトがある。各十字形構造はInAlN/GaNなどのIII−Nヘテロ構造を含むエピタキシャル層を含む。ここで、InAlN/GaNのIn濃度の量は、GaNと格子整合するように調製され、電子移動度をもたらして、弾道電子e ー を発生させる。フィン構造は、チャネルの長手方向軸に対して横断するように形成されたゲートを含む。ゲートは、フィン構造にかかる電圧を使用して制御される。フィン構造は、エネルギ場構造を誘導するように形成される。エネルギ場構造は、ある量の該電圧によってシフトして、弾道電子の流れが通過するゲートの開口を制御し、空乏幅を変化させ、弾道電子に干渉を受けさせる。 【選択図】図2A

    縦型窒化物半導体トランジスタ装置

    公开(公告)号:JP2021114496A

    公开(公告)日:2021-08-05

    申请号:JP2020005312

    申请日:2020-01-16

    摘要: 【課題】閾値電圧ばらつきの少ないノーマリオフ型の縦型窒化物半導体トランジスタを提供する。 【解決手段】縦型窒化物半導体トランジスタは、窒化物半導体からなるドリフト層101、ドリフト層に電気的に接続されたチャネル領域117、ソース電極111、ドレイン電極112、ゲート絶縁膜及びゲート電極109を含む。ゲート絶縁膜は、第1の絶縁膜106、第2の絶縁膜107及び第3の絶縁膜108を少なくとも含む。第2の絶縁膜は、エネルギー準位が第1及び第3の絶縁膜の両方のバンドギャップの内側に位置する電荷トラップを有し、ゲート電極に印加する電圧によりチャネル領域の伝導キャリアを実質的に消失させ流れる電流を遮断するための閾値電圧が、電荷トラップに蓄積する電荷により調整される。また、電荷蓄積用電極がチャネル領域とゲート電極との間に設けられ閾値電圧は、電荷蓄積用電極に蓄積する電荷により調整される。 【選択図】図1