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1.发明专利
公开(公告)号：KR102236646B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020130113237A
申请日：2013-09-24
Applicant: 램 리써치 코포레이션
IPC: H05H1/34
Abstract: 용량성 커플링된 플라즈마 프로세싱 장치에서의 사용을 위한 샤워헤드 전극 어셈블리는 열 전달 플레이트를 포함한다. 열 전달 플레이트는, 균일한 온도들이 샤워헤드 전극 어셈블리의 플라즈마 노출된 표면 상에서 달성될 수도 있도록 가열기 부재와 냉각 부재 사이의 열 컨덕턴스를 로컬적으로 제어하도록 가압될 수도 있는 독립적으로 제어가능한 가스 볼륨들을 갖는다.
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