公开(公告)号：KR20210034704A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：KR1020217008661A

申请日：2010-08-31

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 라진더 딘드사 ,  아키라 코시시 ,  알렉세이 마라크타노프

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/768 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/67011 ,  H01J37/32807 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/30621 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/76825 ,  H05H1/46

Abstract: 기판의 프로세싱 동안 플라즈마 프로세싱 챔버의 프로세싱 챔버 내의 RF 전류에 저 임피던스 RF 복귀 경로를 제공하는 무선 주파수 (RF) 접지 복귀 장치가 제공된다. RF 접지 복귀 장치는 한정 링들의 세트를 포함하고, 한정 링들의 세트는 기판 프로세싱 동안 기판을 에칭하는 플라즈마를 유지하도록 구성되는 한정된 챔버 볼륨을 둘러싸도록 구성된다. RF 접지 복귀 장치는 또한 하부 전극 지지 구조체를 포함한다. RF 접지 복귀 장치는 또한 RF 콘택 인에블된 컴포넌트를 포함하며, RF 콘택 인에블된 컴포넌트는, 저 임피던스 RF 복귀 경로가 RF 전류를 RF 소스로 되돌아 복귀시키는 것을 용이하게 하도록 한정 링들의 세트와 하부 전극 지지 구조체 사이에 RF 콘택을 제공한다.

公开(公告)号：KR102236646B1

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：KR1020130113237A

申请日：2013-09-24

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 남상기 ,  라진더 딘드사 ,  리안 비즈

IPC: H05H1/34

Abstract: 용량성 커플링된 플라즈마 프로세싱 장치에서의 사용을 위한 샤워헤드 전극 어셈블리는 열 전달 플레이트를 포함한다. 열 전달 플레이트는, 균일한 온도들이 샤워헤드 전극 어셈블리의 플라즈마 노출된 표면 상에서 달성될 수도 있도록 가열기 부재와 냉각 부재 사이의 열 컨덕턴스를 로컬적으로 제어하도록 가압될 수도 있는 독립적으로 제어가능한 가스 볼륨들을 갖는다.

公开(公告)号：KR102233437B1

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：KR1020197024878A

申请日：2010-08-31

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 라진더 딘드사 ,  아키라 코시시 ,  알렉세이 마라크타노프

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/768 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32807 ,  H01L21/67011 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/30621 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/76825 ,  H05H1/46

Abstract: 기판의 프로세싱 동안 플라즈마 프로세싱 챔버의 프로세싱 챔버 내의 RF 전류에 저 임피던스 RF 복귀 경로를 제공하는 무선 주파수 (RF) 접지 복귀 장치가 제공된다. RF 접지 복귀 장치는 한정 링들의 세트를 포함하고, 한정 링들의 세트는 기판 프로세싱 동안 기판을 에칭하는 플라즈마를 유지하도록 구성되는 한정된 챔버 볼륨을 둘러싸도록 구성된다. RF 접지 복귀 장치는 또한 하부 전극 지지 구조체를 포함한다. RF 접지 복귀 장치는 또한 RF 콘택 인에블된 컴포넌트를 포함하며, RF 콘택 인에블된 컴포넌트는, 저 임피던스 RF 복귀 경로가 RF 전류를 RF 소스로 되돌아 복귀시키는 것을 용이하게 하도록 한정 링들의 세트와 하부 전극 지지 구조체 사이에 RF 콘택을 제공한다.