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公开(公告)号:KR102233863B1
公开(公告)日:2021-03-31
申请号:KR1020207018316A
申请日:2013-10-25
Applicant: 헤레우스 프레셔스 메탈스 게엠베하 운트 코. 카게
CPC classification number: H05K1/095 , H01B1/127 , H01L51/0036 , H01L51/44 , H01L51/445 , H01L51/52 , H01L51/5212 , H01L51/56 , H05B33/28 , H05K3/10 , H01L51/0037 , H01L51/0081 , Y02E10/549 , Y02P70/50
Abstract: 본 발명은: I) 투명 기판층의 제공하는 단계, Ⅱ) 상기 기판층에 복수의 금속의 바를 포함하거나 또는 금속성 입자를 적어도 포함하는 격자 구조의 적용시키는 단계, Ⅲ) 하기 성분들을 포함하는 분산액을 상기 격자 구조로 제공된 투명 기판층에 적용시키는 단계, a) 적어도 하나의 폴리티오펜, b) SO
3
- M
+ 그룹을 갖는 적어도 하나의 고분자, c) SO
3
- M
+ 그룹을 갖는 적어도 하나의 불소화된 또는 과불소화된 고분자, 및 d) 적어도 하나의 분산제, 여기서 M
+ 은 H
+ , Li
+ , Na
+ , K
+ 또는 NH
4
+ 을 나타내고, 및 Ⅳ) 상기 분산제의 적어도 부분 제거에 의해 투명 전극을 얻는 제거 단계를 포함하는, 투명 전극의 생산공정에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 공정에 의해 얻어질 수 있는 투명 전극, 투명 전극, 전자 부품 및 분산액에 관한 것이다.