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公开(公告)号：JP2018136584A
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：JP2018112036
申请日：2018-06-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
IPC: G03F1/70
Abstract: 【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできるフォトマスクの製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のフォトマスクの製造方法は、パターン設計データAを用意する工程と、フォトマスクを露光装置に保持することに起因する主表面の変形分を示す、転写面形状データCを得る工程と、描画装置のステージ上にフォトマスクブランクを載置した状態における、主表面の高さ分布を示す、描画時高さ分布データEを得る工程と、描画時高さ分布データEと、転写面形状データCとの差分により、描画差分データFを得る工程と、描画差分データFに対応する座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、描画用座標ずれ量データGと、パターン設計データAを用いて、フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と、を有する。 【選択図】図7
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公开(公告)号：JP2019168677A
公开(公告)日：2019-10-03
申请号：JP2019032968
申请日：2019-02-26
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
Abstract: 【課題】静電破壊の発生を防止したフォトマスク等を提供すること。 【解決手段】フォトマスク10は、透明基板21の主表面上に、光学膜がパターニングされてなる転写用パターン35と、前記転写用パターン35の外周を囲む透光環状部33と、前記透光環状部33の外周を囲む、外周領域31とを有する、フォトマスク10であって、前記外周領域31においては、前記透明基板21上に透明導電膜25が形成され、かつ、前記透明導電膜25上に、前記光学膜がパターニングされてなるマークパターンが形成されている。 【選択図】図3
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4.发明专利フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法 有权制造光掩模写入装置，检查方法，用于光掩模，该光掩模的检查装置，以及制造显示装置的方法的方法
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018146990A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2018122326
申请日：2018-06-27
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
Abstract: 【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできるフォトマスクの製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のフォトマスクの製造方法は、パターン設計データAを用意する工程と、基板の厚み分布を示す、厚み分布データTを用意する工程と、フォトマスクを、露光装置に保持したときの主表面の形状を示す、転写面形状データCを用意する工程と、厚み分布データTと、転写面形状データCを用いて、描画差分データFを得る工程と、描画差分データFに対応する、主表面上の複数点における、座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、描画用座標ずれ量データGと、パターン設計データAを用いて、フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と、を有する。 【選択図】図7
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7.发明专利フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法 审中-公开用于生产光电子的方法，绘图装置，用于光电子的检查方法，用于光电检测的检查装置和用于产生显示装置的方法
公开(公告)号：JP2016151733A
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：JP2015030340
申请日：2015-02-19
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
Abstract: 【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできるフォトマスクの製造方法を提供する。 【解決手段】フォトマスクの製造方法は、パターン設計データを用意する工程と、基板の厚み分布を示す、厚み分布データTを用意する工程と、フォトマスクを、露光装置に保持したときの主表面の形状を示す、転写面形状データCを用意する工程と、厚み分布データTと、転写面形状データCを用いて、描画差分データFを得る工程と、描画差分データFに対応する、主表面上の複数点における、座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、描画用座標ずれ量データGと、パターン設計データを用いて、フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と、を有する。 【選択図】図8
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够提高形成在转印体上的图案的坐标精度的光掩模的制造方法。提供一种光掩模的制造方法，包括：准备图案设计数据的步骤; 准备表现出基板厚度分布的厚度分布数据T的步骤; 准备在曝光装置中保持光掩模时呈现主表面形状的转印面形状数据C的步骤; 使用厚度分布数据T和转印面形状数据C获得绘图差分数据F的步骤; 通过计算与所述绘制差数据F对应的所述主表面上的多个点处的坐标移位量来确定绘图坐标偏移量数据G的步骤; 以及使用绘图坐标移位量数据G和图案设计数据在光掩模坯料上绘制图案的绘制步骤。图8
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公开(公告)号：JP2017129848A
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：JP2016240885
申请日：2016-12-13
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
IPC: G03F1/76 , G03F1/84 , G03F7/20 , H01L21/683 , G03F9/00
Abstract: 【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできる、フォトマスク基板に適した基板保持装置を提供する。 【解決手段】表示装置製造用のフォトマスク基板を水平に保持する基板保持装置であって、低膨張材料からなるステージ11と、このステージ11上に設けられた複数の支持具12と、を備える。各々の支持具12は、先端に、凸曲面をもつ接触部14を備え、この接触部14が、フォトマスク基板1の裏面3に、実質的に点接触することで、フォトマスク基板1を水平に保持する構成となっている。 【選択図】図1
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10.发明专利フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法 审中-公开用于生产光电子的方法，绘图装置，用于光电子的检查方法，用于光电检测的检查装置和用于产生显示装置的方法
公开(公告)号：JP2016151636A
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：JP2015028311
申请日：2015-02-17
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剱持 大介
IPC: G03F1/84 , H01L21/027 , G03F1/70
Abstract: 【課題】被転写体上に形成されるパターンの座標精度を高めることのできるフォトマスクの製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のフォトマスクの製造方法は、パターン設計データAを用意する工程と、フォトマスクを露光装置に保持することに起因する主表面の変形分を示す、転写面形状データCを得る工程と、描画装置のステージ上にフォトマスクブランクを載置した状態における、主表面の高さ分布を示す、描画時高さ分布データEを得る工程と、描画時高さ分布データEと、転写面形状データCとの差分により、描画差分データFを得る工程と、描画差分データFに対応する座標ずれ量を算定して、描画用座標ずれ量データGを求める工程と、描画用座標ずれ量データGと、パターン設計データAを用いて、フォトマスクブランク上に、描画を行う描画工程と、を有する。 【選択図】図7
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够提高形成在转印体上的图案的坐标精度的光掩模的制造方法。提供一种光掩模的制造方法，包括：准备图案设计数据A ; 获得在曝光装置中保持光掩模引起的光掩模的主表面上的变形量的转印表面形状数据C的步骤; 在将所述光掩模坯料安装在拉丝装置的台上的状态下获得在所述光掩模坯料的主面的高度分布的拉伸过程中获得高度分布数据E的步骤; 从绘制中的高度分布数据E与转印表面形状数据C之间的差获得绘制差数据F的步骤; 通过计算与绘图差数据F对应的坐标移位量来确定画坐标偏移量数据G的步骤; 以及使用绘制坐标移位量数据G和图案设计数据A在光掩模坯料上绘制图案的绘制步骤。选择的图示：图7
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