公开(公告)号：JP2015062072A

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：JP2014220794

申请日：2014-10-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 柿澤 友洋 ,  中村 敦 ,  下川 努 ,  高橋 純一 ,  安陪 毅由 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273 ,  Y10S430/106

Abstract: 【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高い感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】(A)一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂と、(D)酸発生剤と、(E)一般式(8)で表される光崩壊性塩基と、を含有する感放射線性樹脂組成物(但し、一般式(1)中、R 2 は、炭化水素基を示す。一般式(8)中、R 18 〜R 20 は、相互に独立して、アルキル基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、又はハロゲン原子を示し、Z − はOH − 、R−COO − 、R−SO 3 − (但し、Rはアルキル基、アリール基、又はアルカリール基を示す。)等のアニオンを示す。)。 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种高效实用的辐射敏感性树脂组合物，其可以方便且有效地形成更精细的抗蚀剂图案并应用于半导体制造工艺。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含：（A）包括 由通式（1）表示的重复单元; （D）光致酸发生器; 和（E）由通式（8）表示的光可降解碱。 （通式（1）中，R表示烃基，通式（8）中，Rto各自表示烷基，烷氧基，羟基或卤素原子，Z表示阴离子，例如OH ，R-COO和R-SO，其中R表示烷基，芳基或烷芳基。