公开(公告)号：JP5580674B2

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：JP2010155689

申请日：2010-07-08

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 幸司 市川 ,  昌子 杉原 ,  裕子 山下

IPC: C07C381/12 ,  C07C53/10 ,  C07C62/24 ,  C07C63/08 ,  C07D333/76 ,  C08F20/38 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/066 ,  C07C62/22 ,  C07C63/08 ,  C07C69/63 ,  C07C69/712 ,  C07C69/753 ,  C07C69/757 ,  C07C205/57 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/76 ,  C08F8/12 ,  C08F12/24 ,  C08F20/38 ,  C08F28/02 ,  C08F28/06 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  C08F12/22 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1891 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/38

公开(公告)号：JP5580579B2

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：JP2009273496

申请日：2009-12-01

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 信雄 安藤

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP5561494B2

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：JP2011510304

申请日：2010-04-15

Applicant: 日産化学工業株式会社

Inventor： 力丸 坂本 ,  貴文 遠藤 ,  邦慶 何

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/31116 ,  C08G59/08 ,  C08L63/00 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  H01L21/3081 ,  Y10S430/106

公开(公告)号：JP2014115665A

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：JP2014001274

申请日：2014-01-07

Applicant: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ,  東京応化工業株式会社

Inventor： SESHIMO TAKEHIRO ,  UTSUMI YOSHIYUKI ,  KAWAKAMI AKINARI ,  HANEDA HIDEO ,  SHIMIZU HIROAKI ,  NAKAMURA TAKESHI

IPC: G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C08F2/50 ,  C08F220/10 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D497/08 ,  C08K5/36 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the above compound, an acid generator, a resist composition, and a method for forming a resist pattern.SOLUTION: A compound expressed by a general formula (I), and a compound expressed by a general formula (b1-1) are disclosed. In the formulae, Qrepresents a divalent linkage group or a single bond; Yrepresents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has a -SO- bond in the cyclic structure thereof; Mrepresents an alkali metal ion; and Arepresents an organic cation.

Abstract translation: 要解决的问题：提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新化合物，可用作上述化合物的前体的化合物，酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。解决方案： 公开了由通式（I）表示的化合物和由通式（b1-1）表示的化合物。 在该式中，Q表示二价连接基团或单键; Y表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; X表示可以具有取代基的具有3〜30个碳原子的环状基团，并且在其环状结构中具有-SO-键; M表示碱金属离子; 并表示有机阳离子。

公开(公告)号：JP5419614B2

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：JP2009219708

申请日：2009-09-24

Applicant: プロメラス, エルエルシー

Inventor： ブライアン・クナップ ,  エドマンド・エルス ,  アンドリュー・ベル ,  シェリル・バーンズ ,  スリデヴィ・カイチ ,  ブライアン・コッヘル ,  ヘンドラ・ング ,  ヨーゲシ・パテル ,  真伸 坂本 ,  シァオミン・ウー ,  リンダ・チャン

IPC: G03F7/038 ,  C08F232/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

CPC classification number: C08L45/00 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106

公开(公告)号：JP5402965B2

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：JP2011056013

申请日：2011-03-14

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 雅敏 越後 ,  大 小黒

IPC: C07C43/315 ,  C07C39/15 ,  C07C69/96 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C39/15 ,  C07C43/164 ,  C07C43/18 ,  C07C43/196 ,  C07C43/2055 ,  C07C43/225 ,  C07C43/315 ,  C07C49/747 ,  C07C69/96 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

公开(公告)号：JP5381298B2

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：JP2009111770

申请日：2009-05-01

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 裕次 原田 ,  畠山　　潤 ,  幸士 長谷川 ,  敏 品地

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F220/24 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP5296100B2

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：JP2010543608

申请日：2009-01-22

Applicant: ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー

Inventor： ニール、ジョン、ロジャーズ ,  クリストファー、ラム ,  アンソニー、ニコラス、ジャービス

IPC: C08L101/00 ,  C08K5/20

CPC classification number: G03C1/73 ,  B29C47/822 ,  B41M5/285 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

Abstract: The present invention relates to thermoplastic material comprising polymer and at least one polychromic substance, wherein the polychromic substance is a functionalised diacetylene having the formula which has the general structure: €ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ€ƒ X-C‰¡C-C‰¡C-Y-(CO) n -QZ wherein X is H or alkyl, Y is a divalent alkylene group, Q is O, S or NR, R is H or alkyl, and Z is alkyl, and n is 0 or 1. The present invention further relates to a method of processing thermoplastic material to form a plastic article, wherein the method comprises the step of processing the thermoplastic material at a temperature greater than the melt temperature of the thermoplastic, wherein the thermoplastic material comprises polymer and at least one polychromic substance as defined above; and further comprising the step of irradiating the plastic article to colour at least a region of the plastic article.

公开(公告)号：JP5270463B2

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：JP2009143497

申请日：2009-06-16

Applicant: イーストマン コダック カンパニー

Inventor： ジャンビン・フアン ,  ハイディ・エム・マネリー ,  シャシカント・サライヤ ,  ソクラテス・ピーター・パパス

IPC: B41N1/14 ,  G03F7/004 ,  B41C1/10 ,  B41M5/36 ,  G03C1/498 ,  G03C1/675 ,  G03F7/00 ,  G03F7/021 ,  G03F7/033 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/033 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  G03C1/04 ,  G03C1/49863 ,  G03F7/0212 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/145

Abstract: The present invention relates to a polymerizable coating composition suitable for the manufacture of printing plates, which may be developable on-press. The coating composition comprises (i) a polymerizable compound and (ii) a polymeric binder comprising polyethylene oxide segments, wherein the polymeric binder is selected from the group consisting of at least one graft copolymer comprising a main chain polymer and polyethylene oxide side chains, a block copolymer having at least one polyethylene oxide block and at least one non-polyethylene oxide block, and a combination thereof. The invention is also directed to an imageable element comprising a substrate and the polymerizable coating composition.

公开(公告)号：JP5227848B2

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：JP2009047821

申请日：2009-03-02

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 光宏 畑 ,  裕介 藤 ,  貴行 宮川

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

Abstract: A chemically amplified resist composition, comprising: a resin which includes a structural unit having an acid-labile group in a side chain, a structural unit represented by the formula (I) and a structural unit having a polycyclic lactone structure, and which is soluble in an organic solvent and insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but rendered soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid; and an acid generator represented by the formula (II). wherein X1 represents a hydrogen atom, a C1 to C4 alkyl group, etc., Y in each occurrence independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and n is an integer of 1 to 14, R1 to R4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, etc., and A+ represents an organic counterion, E− represents CF3SO3—, C2F5SO3—, C4F9SO3—, etc., Y1 and Y2 independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group.