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    二液混合方法及び二液混合装置
    2.
    发明专利
    二液混合方法及び二液混合装置 有权
    两液混合方法和双液体混合装置

    公开(公告)号：JPWO2015001608A1

    公开(公告)日：2017-02-23

    申请号：JP2015524928

    申请日：2013-07-01

    申请人： 旭サナック株式会社

    发明人： 哲也 島田 ,  達哉 西尾

    IPC分类号： B01F15/04 ,  B01F3/08

    CPC分类号： B01F3/08 ,  B01F3/0861 ,  B01F15/04 ,  B01F15/0479 ,  B01J4/02

    摘要： 混合比が大きい場合でも、第1液剤と第2液剤を正確な比率で混合できるようにする。二液混合方法は、個別の流量計(14M,14S)により流量計測された第1液剤(主剤)と第2液剤(硬化剤)を、所定の混合比で混合器としてのプレミキサ(16)へ交互に供給して混合する方法であって、第1液剤と第2液剤の混合比が大きくなるほど1サイクルの第1液剤と第2液剤の合計供給量Ftが増大するように、第1液剤の目標供給量(Fm)と第2液剤の目標供給量(Fs)を設定する。

    摘要翻译： 即使混合比是大的，从而使第一液体和第二液体可以以正确的比例进行混合。 两种液混合方法中，第一液体通过（主剂）测量其流量的单独的流量计（14M，14S），并在预定的混合比第二液体（固化剂），至混频器的预混合器（16） 用于通过交替地供给，使得所述第一流体和在所述第一液体的第二液体的总供给量Ft和混合比的第二解决方案增加了一个周期时，所述第一液体混合的方法 目标供应量（FM）和第二溶液的目标供应量来设置（FS）。

    不溶性のゲルを含まず、かつ残留モノマーが低レベルである水溶性ポリマーを調製するためのプロセス
    4.
    发明专利
    不溶性のゲルを含まず、かつ残留モノマーが低レベルである水溶性ポリマーを調製するためのプロセス 有权
    免不溶性凝胶，和残留单体的方法制备的水溶性聚合物是低

    公开(公告)号：JP2015528529A

    公开(公告)日：2015-09-28

    申请号：JP2015532034

    申请日：2013-09-12

    申请人： エコラブ ユーエスエイ インク ,  エコラブ ユーエスエイ インク

    发明人： ジェフリー アール クラム ,  ジェフリー アール クラム

    IPC分类号： C08F2/10 ,  C08F8/12

    CPC分类号： C08F2/01 ,  B01J2/20 ,  B01J4/008 ,  B01J4/02 ,  B01J19/1818 ,  B01J2219/00094 ,  B01J2219/00164 ,  C08F6/008 ,  C08F8/12 ,  C08K2003/262 ,  C08F20/56 ,  C08L33/26

    摘要： 本発明は、ドライポリマー合成操作の乾燥するステップにウェットゲルポリマーを連続的に供給するための方法および装置を提供する。内部チャンバを有する多数のピストンが配置されており、そのチャンバを通じてモノマーおよび他の試薬が供給されて、ウェットゲルポリマーへと重合される。各々のピストンは、同調的なスケジュールによって作動し、その結果、1つのピストンがポリマーを乾燥するステップへ押し出し終了するときに、第二のピストンがさらなるポリマーの重合を完了して、中断することなくさらなるポリマーを供給し続ける。次が必要な場合は、ここで終了したものにさらなる試薬が再供給されて、再度準備される。結果として、費用効果的な連続供給が、これを達成するための以前の試みを悩ませた混入および不純物の問題なく達成できる。

    摘要翻译： 本发明提供了用于干燥所述干燥的聚合物合成操作的步骤中连续地供给所述湿凝胶聚合物的方法和设备。 许多活塞布置有一个内部腔室，通过该室的单体和其它试剂被提供时，它聚合成湿凝胶聚合物。 每个活塞通过调谐时间表操作，使得当一个活塞完成挤出到干燥的聚合物，和第二活塞，以完成额外的聚合物的聚合中，不中断地 它继续提供附加的聚合物。 如果下一个是必需的，额外的试剂，该试剂停在这里的补给，再次准备。 其结果，成本效益的连续供应，而不这种污染可以实现和困扰以前的尝试，以实现杂质的问题。

    混合ガス供給装置
    7.
    发明专利
    混合ガス供給装置 有权

    公开(公告)号：JPWO2011101934A1

    公开(公告)日：2013-06-17

    申请号：JP2012500402

    申请日：2010-10-22

    申请人： 株式会社フジキン

    发明人： 正明 永瀬 ,  正明 永瀬 ,  土肥　亮介 ,  亮介 土肥 ,  西野　功二 ,  功二 西野 ,  池田　信一 ,  信一 池田

    IPC分类号： H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  H01L21/02

    CPC分类号： B01J4/02 ,  G05D11/132 ,  H01L21/67017 ,  Y10T137/87249

    摘要： 半導体製造装置用の混合ガス供給装置において、プロセスガス供給ラインへの他のガス種の逆拡散を防止して、混合ガス供給装置のマニホールド及びプロセスチャンバのガス置換の高速化を図る。本発明は、流量制御装置と出口側切換弁VOとから成る複数のガス供給ラインを並列状に配設し、各出口側切換弁VOのガス出口をマニホールド1へ連絡すると共に、マニホールド1の混合ガス出口に近い位置のガス供給ラインを小流量用ガスの供給用にした混合ガス供給装置に於いて、流量制御装置の出口側と出口側切換弁VOの入口側とを前記流量制御装置の出口側連結金具22及びガス通路19aを有する取付台19を介して気密に連結し、前記出口側連結金具22の流路24の一部及び又は前記出口側切換弁VOとマニホールド1の混合ガス流通孔20とを連通する流路25に小孔部26を設け、出口側切換弁VOの上流側又は流量制御装置の上流側への他のガスの逆拡散の防止とマニホールド1の混合ガス出口2に連結したプロセスチャンバ6の高速ガス置換を可能とする。