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公开(公告)号：KR102237721B1
公开(公告)日：2021-04-07
申请号：KR1020190126606A
申请日：2019-10-14
申请人： (주)에스티아이
摘要： 본 발명은 잉크젯 프린팅 장치에 관한 것으로서, 잉크젯 헤드가 적어도 하나 이상의 비정상 노즐과 적어도 하나 이상의 정상 노즐을 구비할 경우에, 잉크젯 헤드가 제1의 위치에서 제1차 제팅 구동을 하도록 제어를 한 다음에, 제2의 위치로 이동하고 상기 제2의 위치에서 정상 노즐이 비정상 노즐을 대체(Replacement)하여 액적을 토출하는 제2차 제팅 구동을 하도록 제어하여 잉크젯 헤드가 하자 있는 경우에도 교체할 필요 없이 기판상에 액적을 정상적으로 도포할 수 있다.
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公开(公告)号：JP6239098B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2016518667
申请日：2015-03-17
申请人： ロボプリント カンパニー リミテッド
发明人： パク、ジュン キュ
CPC分类号： B41J29/02 , B05B12/02 , B05B12/1472 , B05B13/0278 , B05B13/04 , B41F17/00 , B41F23/00 , B41J2/07
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公开(公告)号：JP6222998B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2013116247
申请日：2013-05-31
申请人： キヤノン株式会社
CPC分类号： H03K19/017509 , B41J2/04543 , B41J2/0455 , B41J2/0458 , B41J2/07 , B41J2202/21
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公开(公告)号：JP5971037B2
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：JP2012190777
申请日：2012-08-31
申请人： ブラザー工業株式会社
CPC分类号： B41J2/07 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2002/14475 , B41J2202/10
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公开(公告)号：JP5959978B2
公开(公告)日：2016-08-02
申请号：JP2012169937
申请日：2012-07-31
申请人： キヤノン株式会社
发明人： 荒木 祐一郎
CPC分类号： B41J2/07 , B41J11/008 , B41J11/42 , B41J29/38 , B41J3/60 , B41J2029/3935
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公开(公告)号：JP5930740B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2012018351
申请日：2012-01-31
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： B41J2/01
CPC分类号： B41J11/008 , B41J2/07 , B41J2/2132 , G06K15/107
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公开(公告)号：JP5849831B2
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：JP2012082162
申请日：2012-03-30
申请人： ブラザー工業株式会社
发明人： 菅原 宏人
CPC分类号： B41J11/007 , B41J11/008 , B41J11/485 , B41J2/07 , B41J2/04526
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公开(公告)号：JP2015528194A
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2015509390
申请日：2013-04-26
申请人： トタル マルケタン セルヴィス , トタル マルケタン セルヴィス
发明人： ジャフレンヌー ペリーヌ , ジャフレンヌー ペリーヌ , ロンバルデ ブノワ , ロンバルデ ブノワ
IPC分类号： H05K3/10 , H01B13/00 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC分类号： B05C21/005 , B41J2/07 , B41J2/14104 , B41J2/14451 , B41M5/0023 , H01L31/022425 , Y02E10/50
摘要： 本発明は、基板上に導電性流体を堆積させるための堆積マトリックスに関する。この堆積マトリックスは、少なくとも1つの流体(13)を保持するための保持体(11)を含んでいる。流体(13)は、導電性を有し、その粘度は、光源(5)からの放射光によって変化し、これにより、前記流体(13)を基板(3)上に堆積させ、基板(3)上に、導電性接点または導電性トラックを形成することができる。保持体(11)は、前記導電性流体に対する少なくとも1つの貯蔵槽(17)を含み、貯蔵槽(17)の底壁(19)は、堆積工程の間、前記基板(3)に対向した位置に配置されようになっている。前記底壁(19)は、打ち抜き孔を有し、これにより、前記流体(13)が前記光源(5)からの放射光(15)に暴露されるときに、基板(3)上に、前記導電性流体(13)の流れ(18)を作ることができる。打ち抜き孔は、基板(3)の上に堆積されるべき流体のパターンに従って形成される。堆積マトリックス(7)は、前記光源(5)からの放射光に対して透過性を有するパターン(30)を有する光学板(9)を更に備えている。光学板(9)は、光源(5)からの放射光で、前記パターン(30)の外部に出る放射光に対しては、不透明であるが、パターン(30)は、前記保持構造体の孔のパターン(22)を覆うパターンに対応する、前記光源から前記光学板(9)上に投影される放射光に対しては、透過性を有する。【選択図】図1
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公开(公告)号：JP5670372B2
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：JP2012076184
申请日：2012-03-29
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： B41J2/01
CPC分类号： B41J2/07 , B41J25/308
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