Method for producing cerium salt, cerium oxide, and cerium-based abrasive material
    5.
    发明专利
    Method for producing cerium salt, cerium oxide, and cerium-based abrasive material 审中-公开
    生产盐酸盐,氧化铈和基于CERIUM的磨料的方法

    公开(公告)号:JP2009274953A

    公开(公告)日:2009-11-26

    申请号:JP2009194508

    申请日:2009-08-25

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce scratch developed on a surface to be polished in polishing with a cerium-based abrasive material containing cerium oxide particles, by reducing the amount of impurities contained in cerium salt particles to heighten the purity, in a method for producing a cerium salt which is a raw material for cerium oxide particles. SOLUTION: The method for producing the cerium salt includes: obtaining one or more cerium-containing intermediates from a cerium compound; and adding a precipitant to obtain a cerium salt precipitate, wherein at least one step of separating and removing insoluble components from the cerium-containing intermediates in the solution state is included. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题为了减少在含有二氧化铈颗粒的铈基研磨材料的研磨中抛光的表面上产生的划痕,通过减少铈盐颗粒中所含的杂质量以提高纯度,在 作为氧化铈粒子的原料的铈盐的制造方法。 解决方案:制备铈盐的方法包括:从铈化合物中获得一种或多种含铈中间体; 并添加沉淀剂以获得铈盐沉淀物,其中包括从溶解状态的含铈中间体中分离除去不溶组分的至少一个步骤。 版权所有(C)2010,JPO&INPIT

    セリウム塩の製造方法、酸化セリウム及びセリウム系研磨剤
    10.
    发明专利
    セリウム塩の製造方法、酸化セリウム及びセリウム系研磨剤 审中-公开
    用于生产铈盐,氧化铈和铈 - 抛光剂的方法

    公开(公告)号:JP2016216734A

    公开(公告)日:2016-12-22

    申请号:JP2016143389

    申请日:2016-07-21

    Abstract: 【課題】研磨時に被研磨面に発生するスクラッチが少ないセリウム系研磨剤を提供する。 【解決手段】酸化セリウム粒子を含むセリウム系研磨剤であって、該セリウム系研磨剤を乾燥させて得られる、前記酸化セリウム粒子を含む乾燥物は、6規定の硝酸12.5gと30%の過酸化水素水12.5gとの混合液に20g溶解した場合に溶液中に存在する不溶成分の濃度が質量比で1ppm以下である、セリウム系研磨剤。 【選択図】なし

    Abstract translation: 提供基于铈磨料的划痕少发生对表面抛光期间抛光。 本发明提供了基于研磨浆料含有氧化铈粒子,通过干燥所述基于铈研磨剂获得的铈,干燥含有所述氧化铈颗粒,6N硝酸12.5g的30%过 溶液中存在的不溶性成分的浓度为1ppm以下的质量比时,溶解在过氧化氢水12.5克,基于铈研磨剂的混合物20克。 系统技术领域

Patent Agency Ranking