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公开(公告)号：JP6302006B2
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：JP2016127256
申请日：2016-06-28
发明人： ボブ シュトレーフケルク , ヨハネス ヤコブス マテウス バゼルマンス , リチャード ジョセフ ブリュレス , マルセル マシユス セオドア マリー ディーリヒス , ショエルト ニコラース ラムベルテュス ドンデルス , クリスティアーン アレクサンダー ホーゲンダム , ハンス ヤンセン , エリック ロエロフ ロープシュトラ , ジェロエン ヨハネス ソフィア マリア メルテンス , ヨハネス キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス , ティモテウス フランシスクス センゲルス , ロナルド ヴァルター ジーン セフェリユンス , セルゲイ シュレポフ , ヘルマン ボーム
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70908 , G03F7/70958
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公开(公告)号：JP2017508176A
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2016546051
申请日：2015-01-20
发明人： ナキボグル，ギュネス , バレン，マーティン ヴァン , バレン，マーティン ヴァン , ボクステル，フランク，ヨハネス，ヤコブス ヴァン , ボクステル，フランク，ヨハネス，ヤコブス ヴァン , カウペルス，クーン , ゴーセン，ジェロエン，ジェラルド , ボクホーフェン，ロウレンティウス，ヨハネス，アドリアヌス ヴァン , ボクホーフェン，ロウレンティウス，ヨハネス，アドリアヌス ヴァン
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70908
摘要： 本発明はバリアシステム(3)を含むリソグラフィ装置及び記載するあらゆるリソグラフィ装置を用いるデバイス製造方法を提供する。バリアシステムは、バリア(4)内のガスの保護容積を維持するために使用される。リソグラフィ装置の異なる構成部品が互いに対して移動したときに保護容積を維持することができる。バリアシステムをリソグラフィ装置内の異なる配置で使用することができる。バリアのジオメトリは、特に高速において保護容積がどれだけ効率的に維持されるかに対して影響を及ぼす。本発明のジオメトリは、バリア外から保護容積内に入る周囲ガスの量を減少させる。【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2015517101A
公开(公告)日：2015-06-18
申请号：JP2015502369
申请日：2013-03-28
发明人： ヨング，アンソニウス デ , ヨング，アンソニウス デ , デル ドンク，ジェイクス ヴァン , デル ドンク，ジェイクス ヴァン
IPC分类号： G01N1/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/94 , B32B37/24 , B32B38/10 , B32B2037/243 , G01N21/47 , G01N21/956 , G01N2001/028 , G01N2001/2833 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F1/82 , G03F7/7085 , G03F7/70908
摘要： 【課題】高い清浄度要件に適合し、除去可能な微粒子を制御された方法で収集する簡単な方法を提供する新規の微粒子汚染測定装置及び方法を提供する。【解決手段】微粒子汚染測定方法及び装置が開示される。本方法は、例えば、ポリウレタンエラストマー(2)の測定面(5)を、測定される表面(7)に押圧するステップと、残留物を残さずに表面からポリウレタンエラストマーを除去するステップと、光学装置(11)を使用して、ポリウレタンエラストマーによって除去されポリウレタンエラストマーに付着した微粒子(8)を検出するステップと、を含む。【選択図】図5
摘要翻译： 甲拟合到高清洁度的要求，提供了一种新颖的微粒污染测定装置和方法，用于以受控的方式收集以除去微粒提供一种简单的方法。 一种颗粒污染测定方法和装置被公开。 的方法，例如，按压聚氨酯弹性体（2）（5），所述表面（7）被测定物的测定面，不留残余物从表面去除的聚氨酯弹性体的工序，所述光学器件 使用（11），并检测附着到聚氨酯类弹性体的微粒是由聚氨酯弹性体（8）中除去，所述。 点域5
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公开(公告)号：JP5732525B2
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：JP2013505378
申请日：2011-03-18
发明人： ラベッツスキ,ドズミトリ , ループストラ,エリック , ケンペン,アントニウス
IPC分类号： H05G2/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , G21K5/04
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公开(公告)号：JP2014534620A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2014533823
申请日：2012-09-19
发明人： コーネリセン，セバスチアーン，マリア，ヨハネス , ヒリッセン，ナウド，ヤン , シベン，アンコ，ホゼフ，コルネラス , ノッテンブーム，アーノウド，ウィレム , デル ウィルク，ロナルド ヴァン , デル ウィルク，ロナルド ヴァン , シュミッツ，ロジャー，ウィルヘルムス，アントニウス，ヘンリクス , ウィル，マノン，エリーゼ
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683 , H02N13/00
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/707 , G03F7/70875 , G03F7/70908 , G10L15/08 , G10L2015/223 , H01L21/6831
摘要： チャック、チャック制御システム、リソグラフィ装置及びチャックを使用する方法を開示する。一実施形態では、静電気力によってリソグラフィ装置(100)のサポートテーブル(MT,WT)上にパターニングデバイス(MA)又は基板(W)を保持するために使用するチャック(43)が提供される。パターニングデバイスは放射ビーム(B)の断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するためのものであり、基板はパターン付き放射ビームを受けるためのものである。チャックは、誘電部材(45)と、チャック内に形成された温度調節流体チャネル(48)と、駆動電極(40、42)であって、パターニングデバイス又は基板を駆動電極に向かって静電的に引き寄せるために誘電部材にわたって駆動電極とパターニングデバイス又は基板との間に電位差を加えるための駆動電極と、流体内の電解を減少させる又は防止するために、駆動電極に加えられる電圧による温度調節流体チャネル内の温度調節流体にわたる電場の発生を減少又は防止するための第1シールド電極(60)と、を備える。【選択図】図4
摘要翻译： 卡盘，卡盘控制系统，公开了一种使用光刻设备和卡盘的方法。 在一个实施例中，卡盘（43）用于通过静电力（100）（MT，WT）保持在光刻设备的支撑台的图案形成装置（MA）或基板（W）被设置。 所述图案形成装置是用于与所述辐射光束（B）的其横截面中的图案形成一个许可，以图案化辐射束，衬底被用于接收辐射的图案化的光束。 卡盘，所述电介质部件（45），温度调节形成在所述卡盘（48），一个驱动电极（40，42），所述图案形成装置或向驱动电极的基板静电流体通道 通过施加的电势差，以防止或减少在流体中的电解质的驱动电极温度调节流体通道，所述电压施加到所述驱动电极和所述图案形成装置或衬底之间的驱动电极在所述电介质部件绘制 包括第一屏蔽电极用于减少或防止电场的发生在内部（60）的温度调节流体中，。 点域4
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公开(公告)号：JP5453778B2
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：JP2008296764
申请日：2008-11-20
申请人： 株式会社ニコン
发明人： 仁 西川
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70841 , G03F7/70908
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公开(公告)号：JP5393685B2
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：JP2010524802
申请日：2008-09-17
发明人： デ ヴィホヴァー，ユリ，ヨハネス，ガブリエル ヴァン , エンペル，ジャーコ，アドリアーン，ルドルフ ヴァン , スホート，ジャン，ベルナルド，プレヘルムス ヴァン , スウィンケルズ，ゲラルドス，ヒューベルタス，ペトラス，マリア , シメール，ヘンドリカス，ジスバータス , ラベッツスキ，ドズミトリ
IPC分类号： H01L21/027 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/70033 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H05G2/003 , H05G2/008
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公开(公告)号：JP2013519221A
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：JP2012551519
申请日：2010-12-08
发明人： ケンペン，アントニウス , ブリュルス，リチャード , ループストラ，エリック , モールス，ロエル , スウィンケルズ，ゲラルドス , メストロム，ウィルバート
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/70908 , B08B3/08 , G03F7/70033 , G03F7/708 , G03F7/70916 , G03F7/70925
摘要： 放射源は、低圧力水素環境が与えられているチャンバとして、リソグラフィ装置用の極端紫外線を生成する。 微量の保護化合物（例えばＨ
２ Ｏ、Ｈ
２ Ｏ
２ 、Ｏ
２ 、ＮＨ
３ 、またはＮＯ
ｘ ）がチャンバに供給されてチャンバ内の金属（例えばチタン）コンポーネント上の保護酸化物膜を維持することを助ける。
【選択図】 図４-
公开(公告)号：JP5200057B2
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：JP2010116482
申请日：2010-05-20
发明人： シュトレーフケルク ボブ , ヤコブス マテウス バゼルマンス ヨハネス , ジョセフ ブリュレス リチャード , マシユス セオドア マリー ディーリヒス マルセル , ニコラース ラムベルテュス ドンデルス ショエルト , アレクサンダー ホーゲンダム クリスティアーン , ヤンセン ハンス , ロエロフ ロープシュトラ エリック , ヨハネス ソフィア マリア メルテンス ジェロエン , キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス ヨハネス , フランシスクス センゲルス ティモテウス , ヴァルター ジーン セフェリユンス ロナルド , シュレポフ セルゲイ , ボーム ヘルマン
IPC分类号： H01L21/027 , B05D3/12 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70908 , G03F7/70958
摘要： An immersion lithographic projection apparatus is disclosed in which liquid is provided between a projection system of the apparatus and a substrate. The use of both liquidphobic and liquidphilic layers on various elements of the apparatus is provided to help prevent formation of bubbles in the liquid and to help reduce residue on the elements after being in contact with the liquid.
摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻投影装置，其中液体设置在装置的投影系统和基板之间。 为了防止在液体中形成气泡，有助于减少与液体接触后的元件上的残留物，就可以在设备的各种元件上使用液体和液体两层。
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10.发明专利Cleaning substrate for lithography apparatus, cleaning method for lithography apparatus, and lithography apparatus 有权用于雕刻设备的清洁衬底，用于雕刻设备的清洁方法和平面设备
公开(公告)号：JP2013070037A
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：JP2012180057
申请日：2012-08-15
发明人： LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS , DE GRAAF ROELOF FREDERIK , ROSET NIEK JACOBUS JOHANNES , MARTENS ARJAN HUBRECHT JOSEF ANNA , ALEXANDER NIKOLOV ZDRAVKOV , KORNELIS TIJMEN HOEKERD , DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , B08B1/00 , B08B3/04 , B08B7/0028 , B08B7/0035 , B32B3/02 , B32B2432/00 , G03F7/70341 , G03F7/70908 , G03F7/70925 , Y10T428/24355 , Y10T428/24752
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus that reduces degradation of a seal between a cover and an object, such as a substrate, and/or a table, such as a substrate table.SOLUTION: Provided is a method and apparatus to clean a cover to seal a gap between an object located in a recess and the upper surface of a table outside of the recess. In-line and off-line arrangements are disclosed. Cleaning can be carried out using abrasion, UV radiation or flushing with a cleaning fluid, for example.
摘要翻译： 要解决的问题：提供减少盖和诸如基板的物体和/或诸如基板台之间的密封件的劣化的方法和装置。 解决方案：提供一种清洁盖子以密封位于凹部中的物体与凹部外面的台面上表面之间的间隙的方法和装置。 公开了在线和离线布置。 例如，可以使用磨损，UV辐射或用清洗液冲洗来进行清洁。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT
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