公开(公告)号：JP2021536528A

公开(公告)日：2021-12-27

申请号：JP2021511657

申请日：2019-08-20

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

Inventor： ヘール, スブラマニヤ ピー. ,  リム, ビセント エム. ,  パタンシェッティ, バサバラジ ,  モア, アジャイ ,  モール, マルコ ,  スティックセル−ワイス, ビヨルン ,  バグール, ニレッシュ チマンラオ ,  シヴァラマクリシュナン, ヴィスウェスウォレン

IPC: H01M4/139 ,  H01M50/403 ,  H01M50/434 ,  H01M50/449 ,  C23C16/448

Abstract: 化学前駆体の処理チャンバへの直接液体注入(DLI)のための方法及び装置が提供される。DLIシステムは、液体前駆体源気化システムを含み、これは、液体を安定的且つ効率的に気化する。一実施態様では、DLIシステムは、閉ループ統合システムであり、これは、注入バルブ、液体流量計(LFM)、加圧前駆体源としてのアンプルアセンブリ、アンプルアセンブリ中の前駆体を加圧するための不活性プッシュガス、目標の温度レジームを維持するための温度コントローラ、漏れ検出、及びガスヒータへの制御されたキャリアガス流を組み合わせている。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP6980180B2

公开(公告)日：2021-12-15

申请号：JP2016220079

申请日：2016-11-10

Applicant: 株式会社FLOSFIA

Inventor： 佐々木 貴博 ,  柳生 慎悟 ,  人羅 俊実

IPC: C23C16/448 ,  B05D3/12 ,  C23C16/455

公开(公告)号：JP2021190487A

公开(公告)日：2021-12-13

申请号：JP2020091958

申请日：2020-05-27

Applicant: 大陽日酸株式会社

Inventor： 土渕 岳 ,  鈴木 克昌

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31

Abstract: 【課題】固体材料の気化供給が長時間安定的に行えて、固体材料の再充填が容易な固体材料供給装置を提供する。 【解決手段】内部に固体材料Sを充填可能な充填容器3と、充填容器3から気体を導出する導出配管4と、充填容器3を加温する加熱器5と、を有する供給ユニットと、2以上の供給ユニットを収容する収容容器2と、収容容器2の内側で全ての導出配管4と連通し、収容容器2の外側に気体を供給する供給配管8とを備え、全ての供給ユニットは、少なくとも充填容器3が収容容器2から着脱自在に収容される、固体材料供給装置1を選択する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021188094A

公开(公告)日：2021-12-13

申请号：JP2020094612

申请日：2020-05-29

Applicant: 大陽日酸株式会社

Inventor： 村田 逸人 ,  水野 理規 ,  安達 啓輔 ,  鈴木 克昌

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/318 ,  C23C16/448

Abstract: 【課題】窒化膜を成膜する際の反応ガスとして有用な窒素含有化合物原料を含む混合ガスを安全かつ安定的に供給可能な供給装置、及び成膜速度が速く、生産性に優れる金属窒化膜の製造方法を提供する。 【解決手段】化学気相成長法により、被処理基材の表面の少なくとも一部に金属窒化膜を成膜する製膜方法において、ヒドラジン化合物を収容する原料容器11と、原料容器を加熱する加熱器12と、加熱器の出力を調節する加熱器調節装置13と、原料容器に接続される導入経路L11及び導出経路L12と、希釈ガスを供給する希釈ガス供給経路L13と、アンモニアを供給するアンモニア供給経路L14と、導出経路と接続される混合ガス導出経路L15と、導入経路と導出経路との間に位置するバイパス経路L16と、希釈ガス流量制御装置14と、アンモニア流量制御装置15と、混合ガス流量計16と、演算装置17と、を備える混合ガス供給装置10を使用する。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6958914B2

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：JP2018528496

申请日：2017-07-11

Applicant: 昭和電工株式会社

Inventor： 青木 隆典 ,  三神 克己

IPC: F17C13/02 ,  C23C16/448 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  F17C9/00

公开(公告)号：JP2021168406A

公开(公告)日：2021-10-21

申请号：JP2021110457

申请日：2021-07-02

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 橋上 洋

IPC: H01L21/368 ,  C30B29/16 ,  C30B25/14 ,  C23C16/40 ,  C23C16/448 ,  H01L21/365

Abstract: 【課題】 結晶欠陥が十分に抑制された高品質なコランダム構造の結晶を有する積層体を提供することを目的とする。 【解決手段】 結晶基板と該結晶基板の主表面上に形成された、第1金属酸化物を主成分としコランダム構造からなる結晶相の結晶領域と、アモルファス相のアモルファス領域とが混在した中間層と、該中間層上に形成された、第2金属酸化物を主成分としコランダム構造の結晶層とを有する積層体。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6934852B2

公开(公告)日：2021-09-15

申请号：JP2018236030

申请日：2018-12-18

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 渡部 武紀 ,  橋上 洋

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/40 ,  H01L21/368

公开(公告)号：JP2021133363A

公开(公告)日：2021-09-13

申请号：JP2021016942

申请日：2021-02-04

Applicant: 信越化学工業株式会社 ,  高知県公立大学法人

Inventor： 橋上 洋 ,  川原村 敏幸

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/365 ,  H01L21/368 ,  B05B17/06

Abstract: 【課題】 パーティクル付着が抑制された高品質な薄膜を形成可能とする成膜用霧化装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 原料溶液を収容する原料容器と、前記原料容器の内部と外部を空間的に接続し、且つその下端が前記原料容器内において前記原料溶液の液面に触れないように設置された筒状部材と、超音波を照射する超音波発生源を一つ以上有する超音波発生器と、前記超音波を前記原料溶液に中間液を介して伝播させる液槽とを有する成膜用霧化装置であって、前記超音波発生源は、前記液槽の外側にあり、前記超音波発生源の中心が前記原料容器の側壁の内側の延長がなす面と前記筒状部材の側壁の外側の延長がなす面との間にあり、前記超音波発生源の超音波射出面の中心線をuとしたとき、前記中心線uが前記筒状部材の側壁と交わらないように超音波発生源が設けられている成膜用霧化装置。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021130853A

公开(公告)日：2021-09-09

申请号：JP2020027409

申请日：2020-02-20

Applicant: 株式会社堀場エステック

Inventor： 大場 秀憲 ,  田口 明広

IPC: F17C9/02 ,  C23C16/52 ,  C23C16/448

Abstract: 【課題】 液体材料が外部へ流出することを抑制することができる気化システムを提供する。 【解決手段】 気化システムは、タンクへ液体材料を流入させる流入弁と、タンクから気化ガスを流出させる流出弁と、流入弁及び流出弁を制御する制御部と、タンクから液体材料が流出することを検出する流出検出部と、流出弁よりも下流側に配置され、少なくとも液体材料を貯留可能な貯留部と、を備え、制御部は、タンクからの液体材料の流出が検出された場合に、流入弁を閉止する。 【選択図】 図1

公开(公告)号：JP6891018B2

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：JP2017061400

申请日：2017-03-27

Applicant: 株式会社KOKUSAI ELECTRIC

Inventor： 高木 康祐 ,  平野 敦士

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31