光線走査広角化システム
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021196408A

    公开(公告)日:2021-12-27

    申请号:JP2020100700

    申请日:2020-06-10

    Abstract: 【課題】ビームステアリング素子の光線走査の振れ角の広角化と速度均一化の機能を有する光線走査広角化システムを提供する。 【解決手段】光源2と、ビームステアリング素子4と、偏光回折素子5と、偏光制御素子3とを有する光線広角化システムであり、偏光回折素子は光学異方性材料を含み、偏光回折素子の回折特性とビームステアリング素子の特性に基づいて、偏光回折素子面内に規則性を有し形成された光学軸方位の空間分布を与える。 【選択図】図7

    照明装置およびその製造方法
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021192110A

    公开(公告)日:2021-12-16

    申请号:JP2021141498

    申请日:2021-08-31

    Abstract: 【課題】簡易な構成で、所望の被照明領域上に、ボケを抑制した鮮明な照明パターンを形成する。 【解決手段】複数の要素回折光学部131をもつ回折光学素子130にコヒーレント光を照射し、被照明領域20上に照明パターン21を形成する。各要素回折光学部131には、以下の手順でホログラムが記録される。各要素回折光学部131から射出する1次回折光強度の角度空間分布D10にランダムな位相分布を与えて複素振幅分布を生成し、これを逆フーリエ変換して、被照明領域20上の複素振幅分布を得る。この複素振幅分布を設計照明強度分布D00に合わせて修正して修正複素振幅分布を生成し、これをフーリエ変換して、回折光学素子130上の修正複素振幅分布を得る。この修正複素振幅分布を角度空間分布に置換して、置換複素振幅分布を生成する。この手順を繰り返し、最終的に得られた回折光学素子上の置換複素振幅分布をホログラムとして記録する。 【選択図】図12

    光学デバイス、および光学デバイスの製造方法

    公开(公告)号:JP2021179636A

    公开(公告)日:2021-11-18

    申请号:JP2021130842

    申请日:2021-08-10

    Abstract: 【課題】波長選択性に優れるとともに製造が容易である光学デバイス、および光学デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】光学デバイスは、共鳴構造部と、反射防止部とを備え、共鳴構造部は、第1低屈折率領域と、第1サブ波長格子を構成し、第1方向に延びる複数の第1高屈折率部と、第1高屈折率部よりも低い屈折率を有し、第1方向に延びる複数の第1低屈折率部とが、第2方向に交互に配置された第1格子領域と、第2低屈折率領域と、第2サブ波長格子を構成し、第1方向に延びる複数の第2高屈折率部と、第2高屈折率部よりも低い屈折率を有し、第1方向に延びる複数の第2低屈折率部とが、第2方向に交互に配置された第2格子領域と、第3低屈折率領域とがこの順で設けられた構成であり、共鳴構造部の一方面側から見て、第1高屈折率部と第2低屈折率部とが重なり、かつ、第2高屈折率部と第1低屈折率部とが重なる。 【選択図】図1

    光学系、及び光学系を製造する方法

    公开(公告)号:JP2021530745A

    公开(公告)日:2021-11-11

    申请号:JP2021502944

    申请日:2019-07-18

    Applicant: イソルグ

    Abstract: 【解決手段】本明細書は、完全に又は部分的に開いている孔(26)を有してマイクロメートルサイズの光学素子(14)のアレイで覆われた層(24)を備えた光学系(5) を製造する方法に関する。光学系は、第1の放射線を受ける表面(22)を有している。この方法では、層の材料と同一の材料又は層の材料とは異なる材料で形成された膜(24)を、マイクロメートルサイズの光学素子(14)のアレイを通して第2の放射線に露出し、層を完全に又は部分的に横切る孔(26)を画定するために第2の放射線に露出した膜の部分又は第2の放射線に露出しなかった膜の部分を除去する。材料は第2の放射線に対して感光性を有するか、又は第2の放射線によって機械加工可能である。

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