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公开(公告)号：KR1020130132717A
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：KR1020130142311
申请日：2013-11-21
CPC分类号： C09D167/00 , G03F7/091 , Y10T428/31786
摘要： As one aspect, provided is an organic coating composition, particularly, a spin-on anti-reflective coating composition comprising components like a resin including an aryl dicarboxylate group. As the other aspect, provided is an organic coating composition, particularly, a spin-on anti-reflective coating composition comprising a solvent component including at least one oxyisobutyric acid ester like methyl-2-hydroxyisobutylate.
摘要翻译： 一方面，提供了一种有机涂料组合物，特别是包含如包含芳基二羧酸酯基团的树脂的组分的旋涂抗反射涂料组合物。 作为另一方面，提供了一种有机涂料组合物，特别是包含包含至少一种异丁酸异丁酯如2-羟基异丁酸甲酯的异丁酸异丁酯的溶剂组分的旋涂抗反射涂料组合物。
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公开(公告)号：KR101287032B1
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：KR1020107023056
申请日：2001-08-17
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091
摘要： 본 발명은 오버코팅된 레지스트층과 함께 반사방지 코팅("ARC")으로 사용하기에 유용한 신규 광흡수 조성물을 제공한다. 본 발명의 ARC는 내에칭성이고, 표준 플라즈마 에칭제에서 증가된 에칭 비율을 나타낸다. 본 발명의 바람직한 ARC는 기존의 조성물에 비해 산소 함량이 매우 높다.
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3.发明授权포토레지스트 조성물, 포토레지스트 릴리프 이미지 형성 방법 및 포토레지스트 조성물의 코팅층을 갖는 제조품 有权光刻胶组合物，形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法和具有光致抗蚀剂组合物的涂层的制品
公开(公告)号：KR101241143B1
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：KR1020100092221
申请日：2010-09-20
发明人： 캐머론제임스더블유. , 애블러저셰리엘.
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106
摘要： 본 발명의 레지스트는 제조하고 사용하는 사이 저장동안에 안정성을 상당히 향상시킬 수 있는 것으로 밝혀진 첨가산 성분을 함유한다. 본 발명의 바람직한 레지스트는 산 성분 이외에 에틸 락테이트 또는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트와 같은 에스테르계 용매를 함유한다.
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公开(公告)号：KR1020120031965A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：KR1020120010239
申请日：2012-02-01
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/094 , Y10S430/106 , Y10S430/128
摘要： PURPOSE: A multi-layered photoresist system is provided to prevent or suppress the occurrence of reflection and to improve the etching resistance of an organic coating layer composition with respect to a plasma etching solution. CONSTITUTION: A multi-layered photoresist system contains an organic coating layer composition layer. The organic coating layer composition layer is under a silicon-containing photoresist layer. The organic coating layer composition layer contains aromatic and/or alicyclic group containing component and one or more coloring group containing component. A photoresist composition layer contains a photo-active component and a silicon-containing component and is arranged on the organic coating layer composition layer.
摘要翻译： 目的：提供多层光致抗蚀剂系统以防止或抑制有机涂层组合物相对于等离子体蚀刻溶液的反射发生和耐腐蚀性。 构成：多层光致抗蚀剂体系含有有机涂层组合物层。 有机被覆层组合物层在含硅光致抗蚀剂层的下方。 有机被覆层组合物层含有含芳香族和/或脂环式基团的成分和一种以上含有着色剂的成分。 光致抗蚀剂组合物层包含光活性组分和含硅组分，并且布置在有机涂层组合物层上。
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公开(公告)号：KR101089618B1
公开(公告)日：2011-12-05
申请号：KR1020030082509
申请日：2003-11-20
IPC分类号： C25D3/38
CPC分类号： C25D3/38 , H01L21/2885 , H05K3/423
摘要： 피트(pit)와 보이드(void)가 없는, 구리가 충진된, 서브-마이크론 크기의 어퍼처를 제공할 수 있는 하나 이상의 억제제 화합물을 함유한 구리 전기도금조가 제공된다. 이러한 구리 전기도금조는 전자 디바이스, 이를테면 인쇄배선판과 집적회로를 제조하는데 유용하다.
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公开(公告)号：KR100998068B1
公开(公告)日：2010-12-03
申请号：KR1020030012747
申请日：2003-02-28
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/085 , G03F7/0392 , G03F7/091 , G03F7/11 , Y10T428/31511 , Y10T428/31515 , Y10T428/3154 , Y10T428/31623 , Y10T428/31935
摘要： 서브(sub)-300 ㎚ 및 서브-200 ㎚, 예를 들어 193 및 157 ㎚를 포함한 단파장 이미지화에 적합한 신규 포토레지스트가 제공된다. 본 발명의 포토레지스트는 포토애시드-불안정성 그룹을 갖는 수지, 하나 이상의 포토애시드 발생제 화합물 및 부착-향상 첨가제 화합물을 함유한다. 본 발명의 포토레지스트는 SiON 및 다른 무기 표면층에 대한 부착성을 상당히 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100970661B1
公开(公告)日：2010-07-15
申请号：KR1020097008576
申请日：2002-02-26
发明人： 바클레이조지지. , 카포레일스테판제이. , 카바나흐로버트제이. , 푸글리아노니콜라스
IPC分类号： G03F7/004 , C08F232/00 , C08F220/18
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106
摘要： 본 발명은 새로운 폴리머 및 그러한 폴리머의 제조 방법 및 그 폴리머를 포함하는 포토레지스트를 포함한다. 본 발명의 방법은 폴리머를 제조하기 위한 반응 혼합물의 제공 및 중합 반응의 실질적인 과정 중에 하나 이상의 중합 시약을 반응 혼합물에 부가하는 것을 포함한다. 본 발명의 폴리머를 포함하는 포토레지스트는 매우 개선된 리토그래픽 특성을 나타낸다.
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公开(公告)号：KR100947488B1
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：KR1020020084761
申请日：2002-12-27
IPC分类号： C25D3/12
摘要： 본 발명은, 전이금속 산화물을 함유하는 세라믹 부품 또는 세라믹 복합체인 전자 부품을 부식시키지 않으면서 도금될 부품상에만 니켈 층을 효과적으로 침착하는 니켈 도금조를 제공한다. 이러한 니켈 도금조는 아미노 폴리카복시산, 폴리카복시산 및 폴리포스폰산으로부터 선택된 적어도 2 개의 킬레이트제를 함유하고, 4 내지 9 범위의 pH 및 1 이하의 니켈 이온 대 클로라이드 이온의 비를 갖는다.
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公开(公告)号：KR100944727B1
公开(公告)日：2010-02-26
申请号：KR1020020084759
申请日：2002-12-27
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0392 , Y10S430/111
摘要： 본 발명은 아릴알킬 그룹을 갖는 포토애시드(photoacid) 불안정성 그룹을 함유하는 신규 중합체에 관한 것이다. 에스테르 산소에 직접 결합된 벤질 탄소를 가지는 중합체가 특히 바람직하다. 본 발명의 중합체는 화학적 증폭형 포지티브 작용성 레지스트의 성분으로 유용하다.
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公开(公告)号：KR1020090074222A
公开(公告)日：2009-07-06
申请号：KR1020097008576
申请日：2002-02-26
发明人： 바클레이조지지. , 카포레일스테판제이. , 카바나흐로버트제이. , 푸글리아노니콜라스
IPC分类号： G03F7/004 , C08F232/00 , C08F220/18
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , C08F220/18 , C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/0045
摘要： The invention includes new polymers and methods for providing such polymers and photoresists that comprises the polymers. Methods of the invention include those that comprise providing a reaction mixture and adding over the course of a polymerization reaction one or more polymerization reagents to the reaction mixture to provide the polymer. Photoresists containing a polymer of the invention can exhibit significantly improved lithographic properties.
摘要翻译： 本发明包括用于提供包含聚合物的这种聚合物和光致抗蚀剂的新聚合物和方法。 本发明的方法包括提供反应混合物并在聚合反应过程中向反应混合物中加入一种或多种聚合试剂以提供聚合物的方法。 含有本发明聚合物的光致抗蚀剂可显示出显着改善的平版印刷性能。
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