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公开(公告)号：KR101457507B1
公开(公告)日：2014-11-03
申请号：KR1020110127630
申请日：2011-12-01
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B19/095 , C03B29/02 , Y02P40/57
摘要： 본 발명은 도가니 내표면의 기포나 불순물이 적고, 실리콘 단결정이 높은 결정화율을 달성할 수 있는 실리카 유리 도가니의 제조 방법 및 제조 장치를 제공한다.
본 발명의 실리카 유리 도가니의 제조 방법은, 몰드(10) 내에 실리카 분말을 공급해서 실리카 분말층(11)을 형성하는 실리카 분말 공급 공정과, 복수개의 탄소 전극(13)에 의한 아크 방전으로 실리카 분말층(11)을 용융하는 아크 용융 공정과, 각 탄소 전극 선단과 몰드(10) 내에 공급된 실리카 분말층(11)의 타겟면 사이의 거리를 각각 동일한 거리로 설정해서 타겟면에 분사되는 아크 화염에 의해 표면을 제거하는 화염 연마 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR101406917B1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：KR1020110127666
申请日：2011-12-01
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C30B15/10 , C03B19/095 , Y10T117/10 , Y10T117/1024 , Y10T117/1032
摘要： 실리카 유리 도가니의 좌굴이나 침입이 억제됨과 동시에 균열이 생기기 어려운 실리카 유리 도가니를 제공한다.
본 발명에 의하면, 실리콘 단결정 인상에 이용되는 실리카 유리 도가니에 있어서, 상기 도가니의 벽이, 상기 도가니의 내면측에서 외면측을 향해서 천연 실리카 유리 또는 합성 실리카 유리로부터 이루어지는 언도핑의 내면층, 및 광화원소를 포함하는 섬 형상 영역이 분산되고 있는 광화원소 편재 실리카 유리층을 구비하고, 상기 섬 형상 영역의 유리와 그 주변영역의 유리는, 광화원소가 도프된 천연 실리카 유리와 언도핑의 합성 실리카 유리의 조합, 또는 광화원소가 도프된 합성 실리카 유리와 언도핑의 천연 실리카 유리의 조합이며, 상기 내면층은, 상기 섬 형상 영역의 유리와는 다른 종류의 유리로 이루어지는 실리카 유리 도가니가 제공된다.-
公开(公告)号：KR101406915B1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：KR1020110127659
申请日：2011-12-01
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B19/095 , Y02P40/57
摘要： 연삭 및 연마용의 새로운 설비가 필요하지 않고, 동시에, 생산성에 영향을 주지 않고, 내면을 무기포화시키는 실리카 유리 도가니를 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 회전하는 몰드 내에 실리카 원료 분말을 공급하고, 도가니 형상 성형체를 형성하는 공정과, 상기의 도가니 형상 성형체를 회전시키면서, 내면에서 외면의 방향에 감압하면서 아크 가열하고, 내면측의 투명층 및 외면측의 기포함유층을 갖는, 저부 및 그 저부에 연결되는 벽부로 이루어지는 바닥 있는 원통 형상의 실리카 유리 도가니를 형성하는 공정과, 상기의 실리카 유리 도가니의 내면측을 아크 가열에 의해 용융한 상태에서, 그 실리카 유리 도가니에 부여되는 회전수를 제어하고, 그 실리카 유리 도가니의 상기 투명층의 표면 부근의 기포가 잔존하는 실리카 유리층을 저부의 지름 방향 외측의 투명층에 모으는 공정과, 상기 실리카 유리 도가니의 내면측을 아크 가열에 의해 용융한 상태에서, 그 실리카 유리 도가니에 부여되는 회전수를 제어하고, 상기 기포가 잔존하는 실리카 유리층이 이동해서 노출한 그 투명층 표면의 무기포층의 일부를 저부의 지름 방향 외측으로 이동시키고, 그 무기포층으로 기포가 모인 영역을 피복하는 공정을 포함하는, 실리카 유리 도가니의 제조 방법이 제공된다.
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公开(公告)号：KR101403335B1
公开(公告)日：2014-06-03
申请号：KR1020110144117
申请日：2011-12-28
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B19/095
摘要： 내표면의 상태(도가니 내표면 특성)등이 적절하게 제어된 실리카 유리 도가니를 제조한다.
회전하는 몰드(10)내에서, 실리카 분말을 포함하는 실리카 분말층(11)을 복수개의 탄소 전극(13)에 의한 아크 방전으로 가열 용융하여 실리카 유리 도가니를 제조하는 방법에 있어서, 상기 실리카 분말층(11)의 복수 부위에 대해서, 가열 용융시에 있어서의 최적 용융 온도를 미리 구해 두는 예비 공정과, 상기 복수 부위의 가열 용융시의 실제 온도를 측정하는 온도 측정 공정과, 상기 최적 용융 온도가 되도록, 상기 복수 부위의 상기 실제 온도를 제어하는 온도 제어 공정을 구비하는 실리카 유리 도가니의 제조 방법.-
公开(公告)号：KR101395787B1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：KR1020110144115
申请日：2011-12-28
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B19/095 , Y02P40/57
摘要： 실리카 유리 도가니 제조시의 용융 상태를 제어하고, 실리콘 단결정 제조시의 도가니 내표면의 브라운 링 발생을 방지하고, 융액면(탕면,湯面) 진동을 억제하는 실리카 유리 도가니의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 실리카 유리 도가니 제조 방법은, 원료 실리카 분말을 도가니 형성용의 몰드내에 공급해서 실리카 분말층을 형성하고, 그 실리카 분말층을 아크 방전에 의해 가열 용융해서 실리카 유리 도가니를 제조하는 방법에 있어서, 원료 실리카 분말을 상기 몰드 내부에 공급해서 실리카 분말층을 형성하는 실리카 분말 공급 공정과, 복수개의 탄소 전극에 의한 아크 방전으로 실리카 분말층을 용융하는 아크 용융 공정을 구비하고, 상기 아크 용융 공정에서는, 상기 실리카 분말층의 온도를 측정하고, 상기 아크 용융 공정의 초기에 나타나는 최초의 온도의 극대점(Tp)을 기준온도로 하여 상기 기준온도에 근거해서 실리카 유리 용융 상태를 제어한다.-
公开(公告)号：KR101365249B1
公开(公告)日：2014-02-20
申请号：KR1020110126830
申请日：2011-11-30
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B1/02 , C03B19/095 , Y02P40/52
摘要： 본 발명은 폐유리를 이용하여, 투명층을 갖는 실리카 유리 도가니를 제조하는 방법, 및 그 제조에 적합한 실리카 분말을 제공한다.
본 발명에 의하면, 실리카 유리 도가니의 제조 공정에서 생기는 폐유리를 평균 입경이 100μm이하가 되게 분쇄해서 실리카 미분을 형성하고, 상기 실리카 미분을, 평균 입경이 50μm이상이 되도록, 헬륨 분위기하에서 조립화하는 공정을 구비하는, 조립 실리카 분말의 제조 방법이 제공된다.-
公开(公告)号：KR101325637B1
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：KR1020117014874
申请日：2010-06-01
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 섬코
摘要： 도가니 원료 분말의 도가니 내면으로의 침입을 회피할 수 있는 방법을 부여하는 것에 의해, 석영 유리 도가니 내로의 이물질 침입을, 도가니의 실제 사용시기까지 확실히 회피하여, 오염되지 않는 상태에서의 도가니의 취급을 가능하게 한다.
석영 유리 도가니(1)의 개구부(2)에 장착하는 덮개(3)로서, 상기 개구부(2)의 외주단(2a)에 밀착하는 플랜지부(4)를 가지는 덮개(3)를, 도가니(1)에 장착한다.-
公开(公告)号：KR101309050B1
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：KR1020110060790
申请日：2011-06-22
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C30B15/10 , C03B19/095 , C30B29/06 , C30B35/002 , Y10T117/1032
摘要： 본 발명은 실리콘 잉곳의 인상 시간이 지극히 길 경우라도 내부로 무너지거나 뒤틀림 등 현상을 효과적으로 억제할 수 있는 실리카 유리 도가니를 제공한다.
본 발명에 의하면, 실리콘 단결정 인상에 이용되는 실리카 유리 도가니에 있어서, 상기 도가니의 벽이, 상기 도가니의 내면에서 외면을 향해서, 기포함유율이 0.5% 미만인 투명 실리카 유리층과, 기포함유율이 1% 이상 50% 미만인 기포함유 실리카 유리층과, 기포함유율이 0.5% 이상 1% 미만이며 동시에 OH기 농도가 35ppm 이상 300ppm 미만인 반투명 실리카 유리층을 구비하는 실리카 유리 도가니가 제공된다.-
公开(公告)号：KR101293501B1
公开(公告)日：2013-08-06
申请号：KR1020110008614
申请日：2011-01-28
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
发明人： 후지타타케시
CPC分类号： C03B19/095
摘要： (과제) 석영 유리 도가니 제조시에, 실리카흄(silica fume)에 의한 석영 유리 도가니 제조 장치 부품의 손상, 마모를 방지하여, 장치 부품의 마모분(粉), 파손 조각에 기인하는 석영 유리 도가니의 오염(contamination)을 억제한다.
(해결 수단) 몰드 및 몰드 구동 시스템이 설치된 하부 구획과, 아크 전극 구동 시스템이 설치된 상부 구획으로 석영 유리 도가니 제조 장치를 구분하고, 아크 전극이 관통 가능한 1 이상의 연통로를 구비한 구획 부재를 배치하여, 상부 구획 내의 기체와, 하부 구획 내의 기체의 교환이 억제되도록 기류를 제어한다.摘要翻译： 目的：提供一种用于制造石英玻璃坩埚的装置及其制造方法，以通过防止由硅粉引起的部件损坏和磨损来控制由断裂的部件引起的石英玻璃坩埚的污染。 构成：模具（2）包括圆柱形的内表面。 模具驱动机构（4）使模具旋转。 分隔构件（10）由第一分隔壁（6）和第二分隔壁（8）构成。 多个电弧电极（22）产生电弧放电。 电极驱动机构（24）驱动电弧电极。
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公开(公告)号：KR101275368B1
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：KR1020107022219
申请日：2009-03-10
申请人： 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤
CPC分类号： C03B19/095 , C30B15/10 , Y10T117/1032
摘要： 실리콘 단결정 인상 시의 내표면의 결정화 촉진과 도가니의 강도 유지를 충분히 양립시킨 석영 유리 도가니 및 그 제조 방법을 제공한다.
석영 유리 도가니 (10) 는, 적어도 직동부 (10A) 에 있어서, 도가니 내표면으로부터 0.3mm ∼ 3mm 의 영역에 포함되는 OH기 농도 및 OH기 농도 구배가 내표면에 가까울수록 커지고, 내표면으로부터 멀어질수록 작아지는 것을 특징으로 한다. 이 석영 유리 도가니는, 회전하는 몰드의 내표면을 따라 퇴적한 석영 가루를 가열 용융하여 유리화하고, 유리 도가니를 제조하는 방법에 있어서, 용융시 또는 용융 종료 직후에 수증기를 포함하는 공기를 도입하고, 또는 용융 냉각후에 다시 수증기를 포함하는 환경하에서 열처리하여 제조할 수 있다.
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