公开(公告)号：KR102235216B1

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：KR1020190060549

申请日：2019-05-23

Applicant: (주)후성

Inventor： 우병원 ,  박순홍 ,  정재우 ,  김지은 ,  이상문

IPC: H01M10/0567 ,  C07F5/02

Abstract: 본발명의일 실시예에따라상기하기화학식 1 또는하기화학식 2의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있다. 상기전해질첨가제의제조방법은테트라플루오로붕산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.

公开(公告)号：KR102225303B1

公开(公告)日：2021-03-09

申请号：KR1020200062373

申请日：2020-05-25

Applicant: (주)후성

Inventor： 우병원 ,  박순홍 ,  정재우 ,  김지은 ,  이상문

IPC: H01M10/0567 ,  H01M4/525 ,  H01M4/587 ,  H01M4/36 ,  H01M4/38 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0525 ,  C07F9/6568

Abstract: 본발명의일 실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물로나타내어지는전해질첨가제를제공할수 있다. 또한, 본발명의다른실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있으며, 상기전해질첨가제의제조방법은헥사플루오로인산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.

公开(公告)号：KR1020200135232A

公开(公告)日：2020-12-02

申请号：KR1020200062373

申请日：2020-05-25

Applicant: (주)후성

Inventor： 우병원 ,  박순홍 ,  정재우 ,  김지은 ,  이상문

IPC: H01M10/0567 ,  H01M4/525 ,  H01M4/587 ,  H01M4/36 ,  H01M4/38 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0525 ,  C07F9/6568

Abstract: 본발명의일 실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물로나타내어지는전해질첨가제를제공할수 있다. 또한, 본발명의다른실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있으며, 상기전해질첨가제의제조방법은헥사플루오로인산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.

公开(公告)号：KR1020200134711A

公开(公告)日：2020-12-02

申请号：KR1020190060549

申请日：2019-05-23

Applicant: (주)후성

Inventor： 우병원 ,  박순홍 ,  정재우 ,  김지은 ,  이상문

IPC: H01M10/0567 ,  C07F5/02

Abstract: 본발명의일 실시예에따라상기하기화학식 1 또는하기화학식 2의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있다. 상기전해질첨가제의제조방법은테트라플루오로붕산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.