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公开(公告)号:KR102235216B1
公开(公告)日:2021-04-02
申请号:KR1020190060549
申请日:2019-05-23
Applicant: (주)후성
IPC: H01M10/0567 , C07F5/02
Abstract: 본발명의일 실시예에따라상기하기화학식 1 또는하기화학식 2의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있다. 상기전해질첨가제의제조방법은테트라플루오로붕산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.
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公开(公告)号:KR102225303B1
公开(公告)日:2021-03-09
申请号:KR1020200062373
申请日:2020-05-25
Applicant: (주)후성
IPC: H01M10/0567 , H01M4/525 , H01M4/587 , H01M4/36 , H01M4/38 , H01M10/052 , H01M10/0525 , C07F9/6568
Abstract: 본발명의일 실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물로나타내어지는전해질첨가제를제공할수 있다. 또한, 본발명의다른실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있으며, 상기전해질첨가제의제조방법은헥사플루오로인산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.
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公开(公告)号:KR1020200135232A
公开(公告)日:2020-12-02
申请号:KR1020200062373
申请日:2020-05-25
Applicant: (주)후성
IPC: H01M10/0567 , H01M4/525 , H01M4/587 , H01M4/36 , H01M4/38 , H01M10/052 , H01M10/0525 , C07F9/6568
Abstract: 본발명의일 실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물로나타내어지는전해질첨가제를제공할수 있다. 또한, 본발명의다른실시예에따르면화학식 1 내지화학식 4의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있으며, 상기전해질첨가제의제조방법은헥사플루오로인산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.
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公开(公告)号:KR1020200134711A
公开(公告)日:2020-12-02
申请号:KR1020190060549
申请日:2019-05-23
Applicant: (주)후성
IPC: H01M10/0567 , C07F5/02
Abstract: 본발명의일 실시예에따라상기하기화학식 1 또는하기화학식 2의화합물을제조하는전해질첨가제의제조방법을제공할수 있다. 상기전해질첨가제의제조방법은테트라플루오로붕산염과 2-모노플루오로말론산을반응시키는단계, 상기반응에의해생성된혼합액에 HF 제거제를더 추가시키는단계및 상기로부터얻어진반응액을농축및 건조시키는단계를포함하는것일수 있다.
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公开(公告)号:KR102036924B1
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:KR1020190030074
申请日:2019-03-15
Applicant: (주)후성
IPC: C01D15/00 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M10/052 , H01M10/054
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