公开(公告)号：KR1020130140638A

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：KR1020137006641

申请日：2011-10-19

申请人： 가부시끼가이샤 도꾸야마

发明人： 우메카와,히데키 ,  가와바타,유이치로 ,  사사키,유코

IPC分类号： C08G77/20 ,  C08L83/07 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F30/08 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F283/124 ,  C08G77/20 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  H01L21/0274 ,  C08F222/10

摘要： 에칭 내성이 우수하고, 분산성이 좋은 조성물로 생산성이 우수한 나노임프린트용 광경화성 조성물을 제공한다. 나아가서는 비교적 낮은 압력으로 금형을 압압한 경우에도, 패턴의 전사를 용이하게 할 수 있는 광경화성 나노임프린트용 조성물을 제공한다. 광경화성 나노임프린트용 조성물은, (A) 유기 규소 화합물 및 (메트)아크릴기 함유 규소 화합물의 혼합물을, 상기 혼합물에 있어서의 전체 알콕시기의 몰수에 대하여 0.1배몰 이상 1.0배몰 미만의 양의 물로 가수분해한 부분 가수분해물, (B) (메트)아크릴기를 갖는 중합성 단량체, 및 (C) 광중합 개시제를 포함하여 이루어진다. 또한, (A)에는 불소화 실란 화합물 및/또는 금속 알콕시드의 부분 가수분해물을 포함할 수도 있다.

公开(公告)号：KR101597880B1

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：KR1020137006641

申请日：2011-10-19

申请人： 가부시끼가이샤 도꾸야마

发明人： 우메카와,히데키 ,  가와바타,유이치로 ,  사사키,유코

IPC分类号： C08G77/20 ,  C08L83/07 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F30/08 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F283/124 ,  C08G77/20 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  C08F222/10

摘要： 에칭내성이우수하고, 분산성이좋은조성물로생산성이우수한나노임프린트용광경화성조성물을제공한다. 나아가서는비교적낮은압력으로금형을압압한경우에도, 패턴의전사를용이하게할 수있는광경화성나노임프린트용조성물을제공한다. 광경화성나노임프린트용조성물은, (A) 유기규소화합물및 (메트)아크릴기함유규소화합물의혼합물을, 상기혼합물에있어서의전체알콕시기의몰수에대하여 0.1배몰이상 1.0배몰미만의양의물로가수분해한부분가수분해물, (B) (메트)아크릴기를갖는중합성단량체, 및 (C) 광중합개시제를포함하여이루어진다. 또한, (A)에는불소화실란화합물및/또는금속알콕시드의부분가수분해물을포함할수도있다.