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公开(公告)号：KR1020160043793A
公开(公告)日：2016-04-22
申请号：KR1020140138442
申请日：2014-10-14
申请人： 광주과학기술원
CPC分类号： H01L21/02645 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C18/04 , C23C18/1216 , C23C18/125 , H01L21/02425 , H01L21/02428 , H01L21/02472 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02603 , H01L21/02628 , H01L21/02642 , H01L51/0026 , H01L51/426 , C01G9/02
摘要： 산화아연나노구조체의제조방법이제공된다. 상세하게는, 액상마스크층을이용한산화아연나노구조체의제조방법에관한것으로, 산화아연씨드층이형성된기판을준비하는단계, 하부액상마스크층, 수열합성용전구용액층, 및상부액상마스크층이순차적으로구비된반응기내에상기기판을배치하는단계, 및상기수열합성용전구용액층에열을가하여수열합성반응을통해상기기판상에패턴화된산화아연나노구조체를형성하는단계를포함할수 있다. 이에, 본발명은상/하부액상마스크층및 수열합성용전구용액층의유동성에의해평면기판또는비평면기판등의기판의표면형태에관계없이, 산화아연나노구조체를고르게형성할수 있다. 또한, 기판의배치상태또는수열합성용전구용액층의높이를조절하여산화아연나노구조체의성장및 패터닝을용이하게제어할수 있다. 아울러, 상부액상마스크층에의해수열합성용전구용액층과외부환경의접촉을효과적으로차단하고상기수열합성용전구용액층의 pH 및부피를안정적으로유지시킬수 있다.
摘要翻译： 提供一种制造氧化锌纳米结构的方法。 更具体地，本发明涉及使用液体掩模层制造氧化锌纳米结构的方法，包括以下步骤：制备其上形成氧化锌种子层的基底; 将基板设置在具有下液体掩模层的反应器，用于水热合成的前体溶液层和上液体掩模层; 并将热量施加到用于水热合成的前体溶液层，以通过水热合成在衬底上形成图案化的氧化锌纳米结构。 因此，通过上下液体掩模层和用于水热合成的前体溶液层的流动性，可以形成均匀的氧化锌纳米结构，而不管表面形状如平面基板或非平面基板。 也可以通过调整基板的取向或用于水热合成的前体溶液层的高度来容易地控制氧化锌纳米结构的生长和图案化。 此外，可以通过上液体掩模层有效地中断前体溶液层与外部环境之间的接触，并且可以稳定地保持用于水热合成的前体溶液层的pH和体积。
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公开(公告)号：KR1020170118495A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020160046357
申请日：2016-04-15
申请人： 광주과학기술원
摘要： 본발명은분장용인조피부및 이의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는무독성인조피부에점착층이도포된분장용인조피부를제조하고, 이를친환경적이고, 피부에자극없이부착및 탈착이용이한분장재료로응용할수 있다.
摘要翻译： 更具体地说，本发明涉及一种通过在无毒人造皮肤上施用粘合剂层而制备并且对环境无害的化妆品用化妆品， 它可以作为敷料使用。
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公开(公告)号：KR101758317B1
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：KR1020150140859
申请日：2015-10-07
申请人： 광주과학기술원
CPC分类号： H01L51/0013 , B32B5/024 , B32B2262/02 , B41M5/382 , H01L51/0015 , H01L51/0016 , H01L51/0017 , H01L51/0023 , H01L51/0097 , Y02E10/549
摘要： 본발명의일 실시예에따른전자소자의전사인쇄방법은핸들링기판위에희생층을형성하는과정, 상기희생층위에보호층을형성하는과정, 상기보호층위에고분자기판을형성하는과정, 상기고분자기판위에패턴을형성하고, 상기고분자기판의측면에섬모형상의접착로드를형성하는과정, 상기접착로드가형성된고분자기판위에지지층을형성하는과정및 상기희생층및 상기보호층을제거하고, 뒤집어지지층을용해시키면서피인쇄체에전사인쇄하는과정을포함한다.
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5.发明授权
公开(公告)号：KR101423921B1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：KR1020120097372
申请日：2012-09-03
申请人： 광주과학기술원
摘要： 요철 구조를 이용한 전사 인쇄용 기판의 제조방법 및 이에 의해 제조된 전사 인쇄용 기판을 제공한다. 전사 인쇄용 기판의 제조방법은 요철 구조가 형성된 핸들링 기판을 준비하는 단계; 요철 구조를 따라 희생층을 형성하는 단계; 희생층이 형성된 핸들링 기판 상에 고분자를 코팅하여 요철 구조의 오목부를 충전하는 돌출부를 구비한 고분자 기판을 형성하는 단계; 및 희생층을 제거하는 단계를 포함한다. 전사 인쇄용 기판은 요철 구조가 형성된 핸들링 기판; 및 요철 구조 상에 위치하며 요철 구조의 오목부에 삽입되는 돌출부를 구비한 고분자 기판을 포함한다. 본 발명에 따르면, 초박막 기판 상에서 소자의 제조 공정을 안정적으로 수행할 수 있으며, 전사 인쇄 공정에서 높은 정렬도와 전사 수율을 확보할 수 있다.
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6.发明公开요철 구조를 이용한 전사 인쇄용 기판의 제조방법, 이에 의해 제조된 전사 인쇄용 기판 및 이의 응용 有权使用CONCAVO-CONVEX结构制作转印印刷基板的方法，其转印印刷基板及其应用
公开(公告)号：KR1020130070503A
公开(公告)日：2013-06-27
申请号：KR1020120097372
申请日：2012-09-03
申请人： 광주과학기술원
摘要： PURPOSE: A manufacturing method of a substrate for imprint printing, using a concavo-convex structure is provided to maintain an arrangement of a high polymer substrate by uniting a handling substrate with the concavo-convex structure even in case a sacrificial layer which is formed between the high polymer substrate and the handling substrate is removed. CONSTITUTION: A manufacturing method of a substrate for imprint printing comprises the following steps: (i) preparing a handling substrate formed with a concavo-convex structure; (ii) forming a sacrificial layer on the handling substrate according to the concavo-convex structure; (iii) forming a high polymer substrate equipped with a protrusion filling the concave part of the concavo-convex structure by coating high polymers on the handling substrate formed with the sacrificial layer; and (iv) removing the sacrificial layer. The manufactured substrate for imprint printing comprises: the handling substrate formed with the concavo-convex structure; and the high polymer substrate positioned on the concavo-convex structure of the handling substrate, and equipped with the protrusion which is inserted into the concave part of the concavo-convex structure.
摘要翻译： 目的：提供使用凹凸结构的印刷印刷用基板的制造方法，即使在将处理基板与凹凸结构之间形成的牺牲层的情况下，通过使处理基板与凹凸结构结合来维持高分子基板的排列 去除高分子基板和处理基板。 构成：用于印刷印刷的基板的制造方法包括以下步骤：（i）制备形成有凹凸结构的处理基板; （ii）根据所述凹凸结构在所述处理基板上形成牺牲层; （iii）通过在形成有所述牺牲层的所述处理基板上涂覆高聚合物，形成配备有通过所述凹凸结构的凹部填充的突起的高分子基板; 和（iv）去除牺牲层。 制造的用于压印的基板包括：形成有凹凸结构的处理基板; 以及位于处理基板的凹凸结构上的高分子基板，并且配备有插入凹凸结构的凹部的突起。
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公开(公告)号：KR101753108B1
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：KR1020140138442
申请日：2014-10-14
申请人： 광주과학기술원
CPC分类号： H01L21/02645 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C18/04 , C23C18/1216 , C23C18/125 , H01L21/02425 , H01L21/02428 , H01L21/02472 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02603 , H01L21/02628 , H01L21/02642 , H01L51/0026 , H01L51/426
摘要： 산화아연나노구조체의제조방법이제공된다. 상세하게는, 액상마스크층을이용한산화아연나노구조체의제조방법에관한것으로, 산화아연씨드층이형성된기판을준비하는단계, 하부액상마스크층, 수열합성용전구용액층, 및상부액상마스크층이순차적으로구비된반응기내에상기기판을배치하는단계, 및상기수열합성용전구용액층에열을가하여수열합성반응을통해상기기판상에패턴화된산화아연나노구조체를형성하는단계를포함할수 있다. 이에, 본발명은상/하부액상마스크층및 수열합성용전구용액층의유동성에의해평면기판또는비평면기판등의기판의표면형태에관계없이, 산화아연나노구조체를고르게형성할수 있다. 또한, 기판의배치상태또는수열합성용전구용액층의높이를조절하여산화아연나노구조체의성장및 패터닝을용이하게제어할수 있다. 아울러, 상부액상마스크층에의해수열합성용전구용액층과외부환경의접촉을효과적으로차단하고상기수열합성용전구용액층의 pH 및부피를안정적으로유지시킬수 있다.
摘要翻译： 提供了一种生产氧化锌纳米结构的方法。 具体而言，作为制备具有根据液体锌纳米氧化物结构的一掩模层的制造方法中的氧化锌晶种层，所述下层液相掩模层，对水热合成的前体溶液层，和上部液相掩模层的基板的步骤 它可以是一个步骤，并通过柱下降到在所述前体溶液层对水热合成放置在装有为了一个反应器中的基板上的水热合成反应在基板上形成的图案化ZnO纳米。 因此，不管衬底的表面几何形状的这种本发明中，银/下层液体层和在用于合成的层的前体溶液的液体的掩码序列haepyeongmyeon基材或非平面基板，可以均匀地形成于氧化锌纳米结构。 另外，通过调整结构，或所述板的水热合成前体溶液层的高度可容易地控制氧化锌纳米结构的生长和形成图案。 此外，还有sikilsu阻塞水热合成的上层液体前体溶液的掩模层和外部环境到有效和可靠地维持该层中的水热合成前体溶液的pH值和体积的接触。
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公开(公告)号：KR1020170041440A
公开(公告)日：2017-04-17
申请号：KR1020150140859
申请日：2015-10-07
申请人： 광주과학기술원
CPC分类号： H01L51/0013 , B32B5/024 , B32B2262/02 , B41M5/382 , H01L51/0015 , H01L51/0016 , H01L51/0017 , H01L51/0023 , H01L51/0097 , Y02E10/549
摘要： 본발명의일 실시예에따른전자소자의전사인쇄방법은핸들링기판위에희생층을형성하는과정, 상기희생층위에보호층을형성하는과정, 상기보호층위에고분자기판을형성하는과정, 상기고분자기판위에패턴을형성하고, 상기고분자기판의측면에섬모형상의접착로드를형성하는과정, 상기접착로드가형성된고분자기판위에지지층을형성하는과정및 상기희생층및 상기보호층을제거하고, 뒤집어지지층을용해시키면서피인쇄체에전사인쇄하는과정을포함한다.
摘要翻译： 对于根据本发明的实施例的电子装置中的聚合物基片转印印刷方法是用于形成上的过程中的聚合物基材的过程中，保护层形成工序中，在牺牲层上的保护层，以形成所述操作衬底上形成牺牲层， 上形成图案，并且形成的粘合剂加载过程纤毛状聚合物基底，所述去除工序和所述牺牲层和所述钝化层以形成聚合物基材上的支撑层的一侧，其中，形成所述粘合剂棒，和镦粗支撑层 然后将印刷品转移到基材上并溶解。
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公开(公告)号：KR101461075B1
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：KR1020130057147
申请日：2013-05-21
申请人： 광주과학기술원
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B41M5/025 , H01L51/0004 , H01L51/003 , H01L51/56 , H01L2924/0002 , Y10T428/24174 , H01L21/0273 , H01L21/3205 , H01L29/66477 , H05K3/20 , H01L2924/00
摘要： 전사 인쇄 기술이 제공된다. 전사 인쇄 기판은 다수개의 기둥 구조와 그 위에 도포되는 희생층을 포함한다. 전사층의 정위치 정렬은 기둥 구조 및 그와 대응하는 전사층의 저면에 형성되는 오목 구조에 의한 구조적 구속 또는 기둥 구조와 전사층의 화학적 결합에 의해서 이루어진다. 구조적 구속에 의한 정위치 정렬에서는 제거되고 남은 희생층이 접착요소로서 역할을 할 수 있다. 전사 과정은 희생층에 의한 접착의 분리, 기둥 구조와 전사층의 화학적 결합 상태에서 기둥 구조의 절단, 또는 기둥 구조와 핸들링 기판 간의 접착의 분리에 의해서 이루어진다. 이러한 전사 인쇄 기판 및 그를 이용한 전사 인쇄 방법은 높은 정렬도 및 전사수율을 갖게 되며, 플렉시블한 초박막 소자를 다양한 전사면에 전사할 수 있다.
摘要翻译： 提供转印技术。 转印印刷基材包括多个柱结构和在柱结构上铺展的牺牲层。 转移层的规则排列是通过由与柱结构对应的柱结构和转印层的底表面上形成的凹构造引起的结构约束，或柱结构和 转移层。 在由结构约束引起的规则对准中，剩余的牺牲层可以用作结合元件。 转移过程是通过牺牲层的分离，柱结构和转移层化学键合时的柱结构的切割，或柱结构与处理基板之间的粘合分离来进行的。 转印印刷基板和使用该转印印刷基板的转印印刷方法具有较高的取向度和转印率，并将柔性超薄元件转印到各种转印表面。
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