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公开(公告)号：KR102072499B1
公开(公告)日：2020-02-03
申请号：KR1020197009705
申请日：2013-02-08
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: G03F7/11 , C09D201/02 , H01L21/265
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公开(公告)号：KR101926739B1
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：KR1020187019213
申请日：2013-02-08
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: H01L21/265 , G03F7/11 , C08L101/00 , C07F5/02
Abstract: [과제] 이온주입방법 및 이온주입용 막형성 조성물 및 레지스트 하층막 형성 조성물을 제공하는 것.
[해결수단] 13족, 14족, 15족 또는 16족의 원소를 포함하는 화합물 및 유기용제를 포함하는 막형성 조성물을 기판 상에 도포하고 베이크하여 막을 형성하는 공정, 불순물 이온을 상기 막의 상방으로부터 상기 막을 개재하여 상기 기판에 주입함과 동시에, 상기 막 중의 13족, 14족, 15족 또는 16족의 원소를 상기 기판 중에 도입하는 공정을 포함하는, 이온주입방법. 상기 막형성 조성물은, 13족, 14족, 15족 또는 16족의 원소를 포함하는 화합물 및 유기용제를 포함하는 이온주입용 막형성 조성물이다. 또한, 적어도 2개의 붕산에스테르기를 가지는 화합물을 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물이다.-
公开(公告)号：KR101920651B1
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：KR1020137027458
申请日：2012-04-11
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: G03F7/038 , C08F220/54 , C08L101/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/20 , C08F220/20 , C08F220/30 , C08F220/54 , C08F220/56 , C08F220/58 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/32
Abstract: [과제] 감광성조성물을기재에도포하고건조하여, 감광성피막을형성하고, 노광과현상에의한패턴형성이가능한재료와, 그패터닝방법을제공한다. [해결수단] 수용성유기입자및 용매를포함하고, 상기용매가수용성유기입자에대하여빈용매인감광성조성물. 바람직하게는수용성유기입자가, 유기입자형성을위한단위구조(A), 입자간가교형성을위한단위구조(B), 및분산성부여를위한단위구조(C)를포함하는폴리머로이루어지고, 상기조성물이광산발생제를추가로포함하는, 상기감광성조성물. 혹은수용성유기입자가, 유기입자형성을위한단위구조(A), 입자간가교형성을위한단위구조(B), 분산성부여를위한단위구조(C), 및광산발생기를갖는단위구조(D)를포함하는폴리머로이루어진, 상기감광성조성물. 또한상기감광성조성물을기재에도포하고건조하여, 감광성피막을형성하는공정, 마스크를통해상기피막을노광하는공정, 및현상액으로현상하는공정을포함하는패턴형성방법.
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公开(公告)号：KR102205627B1
公开(公告)日：2021-01-21
申请号：KR1020197001270
申请日：2017-08-25
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: C09J171/08 , C09J167/07 , C09J11/06 , G03F7/004 , G03F7/027 , C09J5/06 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/40
Abstract: [과제] 신규한감광성접착제조성물을제공한다. [해결수단] 하기 (A)성분, (B)성분, (C)성분및 (D)성분을포함하고, 상기 (B)성분을상기 (A)성분보다질량비로보다많이함유하는, 감광성접착제조성물. (A)성분: 하기식(1)로표시되는구조단위를갖고, 말단에하기식(2)로표시되는구조를갖는폴리머, (B)성분: 상기식(1)로표시되는구조단위를갖고, 말단에상기카르복시기또는하이드록시기를갖는폴리머, (C)성분: 라디칼형광중합개시제및 (D)성분: 용제(이들식 중, X는탄소원자수 1 내지 6의알킬기, 비닐기, 알릴기또는글리시딜기를나타내고, m 및 n은각각독립적으로 0 또는 1을나타내고, Q는탄소원자수 1 내지 16의 2가의탄화수소기를나타내고, Z는탄소원자수 1 내지 4의 2가의연결기를나타내고, 이 2가의연결기는상기식(1)에있어서의 -O-기와결합하고, R1은수소원자또는메틸기를나타낸다.) JPEG112019004427517-pct00010.jpg5798
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020180081831A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：KR1020187019213
申请日：2013-02-08
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: H01L21/265 , G03F7/11 , C08L101/00 , C07F5/02
CPC classification number: H01L21/265 , C07F5/04 , C08L101/00 , C09D201/02 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01J37/3171 , H01L21/26526 , H01L21/266 , H01L21/31155 , H01L21/26566 , C07F5/02
Abstract: [과제] 이온주입방법및 이온주입용막형성조성물및 레지스트하층막형성조성물을제공하는것. [해결수단] 13족, 14족, 15족또는 16족의원소를포함하는화합물및 유기용제를포함하는막형성조성물을기판상에도포하고베이크하여막을형성하는공정, 불순물이온을상기막의상방으로부터상기막을개재하여상기기판에주입함과동시에, 상기막 중의 13족, 14족, 15족또는 16족의원소를상기기판중에도입하는공정을포함하는, 이온주입방법. 상기막형성조성물은, 13족, 14족, 15족또는 16족의원소를포함하는화합물및 유기용제를포함하는이온주입용막형성조성물이다. 또한, 적어도 2개의붕산에스테르기를가지는화합물을포함하는레지스트하층막형성조성물이다.
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公开(公告)号：KR102224521B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020157010841
申请日：2013-10-11
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 , 내셔날 유니버시티 코포레이션 유니버시티 오브 토야마
Abstract: [과제] 보다미세한패턴을형성할수 있고, 또한, 광원으로한정되지않고다양한세포종, 단백질, 바이러스등의흡착/접착제어에대해서도적용가능한, 새로운재료를제공하는것. [해결수단] 실록산결합으로기판표면에결합할수 있는부분과, 하기식(2-a) 또는/및식(2-b)로표시되는구조단위를포함하는, 광분해성재료. TIFF112015040425993-pct00024.tif92140 (식중, R2 내지 R4는포화직쇄알킬기를나타내고, X는수소원자또는알킬기를나타내고, Z는, 카르보음이온또는설포음이온을나타내고, Q는에스테르결합기, 인산디에스테르결합기, 아미드결합기, 알킬렌기또는페닐렌기, 혹은이들 2가의기의조합을나타내고, m1은 1 내지 200의정수를나타내고, n은 1 내지 10의정수를나타낸다.)
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公开(公告)号：KR101947103B1
公开(公告)日：2019-02-13
申请号：KR1020137034623
申请日：2012-08-10
Applicant: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC: G03F7/11 , C08G77/28 , G03F7/26 , H01L21/027
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