公开(公告)号：KR1020160099670A

公开(公告)日：2016-08-22

申请号：KR1020167019165

申请日：2014-01-30

Applicant: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤 ,  고쿠리츠 다이가쿠 호진 교토 다이가쿠

Inventor： 시마구니히로 ,  고토겐지 ,  마사히로야스시 ,  우에노아사카 ,  이와타히로오 ,  나카이류스케 ,  고다마도모노부

IPC: C22C5/02 ,  C22F1/14 ,  A61L31/02

CPC classification number: C22F1/14 ,  C22C5/02 ,  A61F2310/00568 ,  A61L31/022

Abstract: 본발명은 Au-Pt 합금으로이루어지는의료용합금이며, Pt 농도 24질량% 이상 34질량% 미만, 잔부 Au으로이루어지고, α상매트릭스에, 적어도, α상보다도 Pt 농도가높은 Pt 리치상이분포하는재료조직을갖고, 상기 Pt 리치상은α상의 Pt 농도에대해 1.2 내지 3.8배의 Pt 농도의 Au-Pt 합금으로이루어지고, 임의단면에있어서의상기 Pt 리치상의면적률이 1 내지 22%인의료용합금이다. 이합금은 MRI 등의자장환경으로의적합성이우수하고, 물의자화율에대해 ±4ppm의자화율을갖고, 아티팩트프리를실현가능한합금재료이다.

Abstract translation: 本发明提供一种医疗用合金，其包括Au-Pt合金，其中Au-Pt合金的Pt浓度为24质量％以上且小于34质量％，余量为Au，并且至少具有 其中Pt浓度高于±相的Pt富集相的物质结构分布在±相基体中，富Pt相的Pt浓度为Pt相的Pt浓度的1.2〜3.8倍 并且富Pt相在任何横截面上的面积比为1至22％。 该合金是与MRI等磁场环境优异的相容性的无伪影合金材料，相对于水的磁化率具有±4ppm的磁化率。

公开(公告)号：KR101890048B1

公开(公告)日：2018-08-20

申请号：KR1020167019165

申请日：2014-01-30

Applicant: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤 ,  고쿠리츠 다이가쿠 호진 교토 다이가쿠

Inventor： 시마구니히로 ,  고토겐지 ,  마사히로야스시 ,  우에노아사카 ,  이와타히로오 ,  나카이류스케 ,  고다마도모노부

IPC: C22C5/02 ,  C22F1/14 ,  A61L31/02

CPC classification number: C22F1/14 ,  C22C5/02

Abstract: 본발명은 Au-Pt 합금으로이루어지는의료용합금이며, Pt 농도 24질량% 이상 34질량% 미만, 잔부 Au으로이루어지고, α상매트릭스에, 적어도, α상보다도 Pt 농도가높은 Pt 리치상이분포하는재료조직을갖고, 상기 Pt 리치상은α상의 Pt 농도에대해 1.2 내지 3.8배의 Pt 농도의 Au-Pt 합금으로이루어지고, 임의단면에있어서의상기 Pt 리치상의면적률이 1 내지 22%인의료용합금이다. 이합금은 MRI 등의자장환경으로의적합성이우수하고, 물의자화율에대해 ±4ppm의자화율을갖고, 아티팩트프리를실현가능한합금재료이다.

公开(公告)号：KR1020140135252A

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：KR1020147029107

申请日：2013-03-21

Applicant: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤

Inventor： 가시마나오지 ,  와타나베도모노리 ,  나가야시게오 ,  시마구니히로 ,  구보타슈이치

IPC: H01L39/24 ,  H01L39/12 ,  C30B25/18 ,  B32B15/01 ,  B32B15/04

CPC classification number: B32B15/01 ,  B32B15/04 ,  C30B25/18 ,  H01L39/125 ,  H01L39/2454 ,  H01L39/2461 ,  Y10T428/1259

Abstract: 본 발명은, 적어도 편면에 배향화 금속층을 갖는 에피택셜막 형성용 배향 기판에 있어서, 상기 배향화 금속층은, 입방체 집합 조직을 갖는 구리층과, 상기 구리층 위에 형성되어 두께 100 내지 20000㎚의 니켈층을 포함하고, 상기 니켈층은, 그 표면에 두께 1 내지 30㎚의 산화니켈을 포함하는 산화니켈층이 형성되어 있고, 또한, 상기 니켈층은, 상기 산화니켈층과의 계면에, 팔라듐을 포함하는 니켈을 포함하는 팔라듐 함유 영역을 갖는 에피택셜막 형성용 배향 기판이다. 이 배향 기판은, 최상층인 산화니켈층의 표면 거칠기가 10㎚ 이하로 되어 있는 것이 바람직하다.

公开(公告)号：KR101621642B1

公开(公告)日：2016-05-16

申请号：KR1020147029107

申请日：2013-03-21

Applicant: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤

Inventor： 가시마나오지 ,  와타나베도모노리 ,  나가야시게오 ,  시마구니히로 ,  구보타슈이치

IPC: H01L39/24 ,  H01L39/12 ,  C30B25/18 ,  B32B15/01 ,  B32B15/04

CPC classification number: B32B15/01 ,  B32B15/04 ,  C30B25/18 ,  H01L39/125 ,  H01L39/2454 ,  H01L39/2461 ,  Y10T428/1259

Abstract: 본발명은, 적어도편면에배향화금속층을갖는에피택셜막형성용배향기판에있어서, 상기배향화금속층은, 입방체집합조직을갖는구리층과, 상기구리층위에형성되어두께 100 내지 20000㎚의니켈층을포함하고, 상기니켈층은, 그표면에두께 1 내지 30㎚의산화니켈을포함하는산화니켈층이형성되어있고, 또한, 상기니켈층은, 상기산화니켈층과의계면에, 팔라듐을포함하는니켈을포함하는팔라듐함유영역을갖는에피택셜막형성용배향기판이다. 이배향기판은, 최상층인산화니켈층의표면거칠기가 10㎚이하로되어있는것이바람직하다.