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公开(公告)号：KR102005346B1
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：KR1020160063521
申请日：2016-05-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/028 , C08G14/04 , C08K5/32 , C08G59/16 , G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/1339
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公开(公告)号：KR1020170033022A
公开(公告)日：2017-03-24
申请号：KR1020150130807
申请日：2015-09-16
申请人： 동우 화인켐 주식회사
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 보다상세하게는수산기의적어도일부가산분해성기로보호된제1 수지; 에폭시기를포함하는아크릴제2 수지; 및특정구조의반복단위를포함하는제3 수지;를포함하는바인더수지(A); 광산발생제(B); 및용매(C)를포함함으로써, 감도및 경시안정성이우수하고밀착성이뛰어난절연막을형성할수 있는포지티브형감광성수지조성물및 이로부터제조된절연막에관한것이다.
摘要翻译： 本发明涉及一种光敏树脂组合物，更具体地说，涉及一种光敏树脂组合物，其包含由至少部分羟基的酸分解性基团保护的第一树脂; 含有环氧基的丙烯酸第二树脂; 并且包含具有特定结构的重复单元的第三树脂; 光酸产生剂（B）; 由此形成溶剂（C），从而形成灵敏度和经时稳定性优异且粘合性优异的绝缘膜及由其制成的绝缘膜。
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公开(公告)号：KR1020160091646A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：KR1020150012001
申请日：2015-01-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0007
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 보다상세하게는화학식 1 및화학식 2로표시되는반복단위를포함하는제1 수지및 하기화학식 3으로표시되는반복단위를포함하는제2 수지를포함하는알칼리가용성수지(A); 중합성화합물(B); 광중합개시제(C); 및용매(D)를포함함으로써, 감도및 현상성이우수하고, 기계적물성및 밀착성이뛰어난패턴을형성할수 있는감광성수지조성물에관한것이다.
摘要翻译： 本发明涉及感光性树脂组合物。 更具体地，本发明涉及一种感光性树脂组合物，其包含：（A）由包含由化学式1和2表示的重复单元的第一树脂和包含由化学式表示的重复单元的第二树脂组成的碱溶性树脂 公式3; （B）可聚合化合物; （C）光聚合引发剂; 和（D）溶剂，从而表现出优异的灵敏度和显影性，并形成具有优异的机械性能和粘合性的图案。
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公开(公告)号：KR101612673B1
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：KR1020150033912
申请日：2015-03-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： G03F7/028 , G03F7/0045 , G03F7/0382
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 보다상세하게는기판에대한밀착성, 내화학성및 보존안정성등이우수한네가티브형감광성수지조성물에관한것이다.
摘要翻译： 本发明涉及感光性树脂组合物。 更具体地说，本发明涉及对基材的粘附性优异，耐化学性和储存稳定性的负型感光性树脂组合物。 为此，感光性树脂组合物含有碱溶性树脂（A），光聚合性单体（B），光聚合引发剂（C）和溶剂（D）。
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公开(公告)号：KR1020160011032A
公开(公告)日：2016-01-29
申请号：KR1020140091989
申请日：2014-07-21
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11
摘要： 본발명은화학증폭형감광성수지조성물및 이를이용한황변저감방법에관한것으로서, 보다상세하게는화학식 1로표시되는반복단위를포함하는바인더수지, 광산발생제및 용매를포함함으로써황변현상을방지할수 있는화학증폭형감광성수지조성물및 이를이용한황변저감방법에관한것이다.
摘要翻译： 本发明涉及一种化学放大型感光性树脂组合物及使用其的减少黄变的方法，更具体地说，涉及能够防止黄化现象的化学增幅感光性树脂组合物，其包含：含有重复单元的粘合剂树脂 由化学式1表示; 光致酸发生器; 和溶剂。 本发明还涉及使用该组合物减少黄化的方法。
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公开(公告)号：KR1020150105121A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：KR1020140027374
申请日：2014-03-07
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0392 , G03F7/0758
摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition and, more specifically, to a photosensitive resin composition including: a binder resin; a photoacid generator; a sensitizer; a thermal base generator represented by chemical formula 1 or 2; and a solvent, so the photosensitive resin composition is capable of obtaining fast sensitivity and markedly improved transmittance as well as obtaining an insulating film with a pattern adhesion property and excellent uniformity.
摘要翻译： 本发明涉及感光性树脂组合物，更具体地说，涉及包含粘合剂树脂的感光性树脂组合物， 光致酸发生器; 敏化剂 由化学式1或2表示的热碱发生器; 和溶剂，因此感光性树脂组合物能够获得快速的敏感性和显着改善的透射率，以及获得具有图案粘附性和优异的均匀性的绝缘膜。
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公开(公告)号：KR1020140087814A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：KR1020120158494
申请日：2012-12-31
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： Y02P20/582
摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition and an insulation film manufactured from the same and, more specifically, to a photosensitive resin composition which comprises a non-sulfonamide-based photoacid generator and a sensitizer, to have a fast sensitivity and a high transmittance; and to an insulation film manufactured by the same.
摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜，更具体地说，涉及一种包含非磺酰胺类光酸产生剂和敏化剂的感光性树脂组合物，其具有快速灵敏度和高透射率 ; 以及由其制造的绝缘膜。
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公开(公告)号：KR101363725B1
公开(公告)日：2014-02-14
申请号：KR1020070033167
申请日：2007-04-04
申请人： 동우 화인켐 주식회사
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 본 발명은 (A)화학식 1로 표시되는 수지 및 (B)광산발산제를 포함하는 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 상기 포토레지스트 조성물 포토레지스트의 막 두께가 두꺼운 경우에도 해상도 및 패턴 형상이 우수하며 미세패턴을 정밀하게 구현하는 것을 특징으로 한다.
화학증폭형, 포토레지스트, 광산발생제-
公开(公告)号：KR1020080011879A
公开(公告)日：2008-02-11
申请号：KR1020060072576
申请日：2006-08-01
申请人： 동우 화인켐 주식회사
IPC分类号： H01L21/312 , H01L29/786
CPC分类号： G03F7/085 , G02F1/133345
摘要： A composition of a photosensitive organic insulation layer is provided to be widely used in an organic insulation layer for a liquid display device for display and h-, g-, i-line photoresist by remarkably improving adhesion between substrates. A composition of a photosensitive organic insulation layer(11) contains a photosensitive material, alkaline soluble resin, a solvent and a poly hydroxy styrene-based compound designated by the following chemical wherein m and n are independently and respectively 1, 2 or 3. The photosensitive material is a compound having a quinone diazide radical.
摘要翻译： 提供了一种光敏有机绝缘层的组合物，被广泛地用于显示器用液体显示装置的有机绝缘层和h-，g-，i-线光致抗蚀剂中，通过显着提高基板之间的粘附性。 感光性有机绝缘层（11）的组合物含有以下化学式表示的光敏材料，碱溶性树脂，溶剂和聚羟基苯乙烯类化合物，其中m和n分别为1,2或3。 光敏材料是具有醌二叠氮基的化合物。
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公开(公告)号：KR1020080008878A
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：KR1020060068701
申请日：2006-07-21
申请人： 동우 화인켐 주식회사
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要： A chemically amplified positive photoresist composition is provided to ensure good performances such as heat resistance, remaining rate, coatability, and dry corrosion resistance and exhibit excellent resolution and improved sensitivity, profile, and depth of focus. A chemically amplified positive photoresist composition comprises a mixture obtained by mixing a super random type copolymer resin represented by the following formula 1 with a photoacid generator represented by the following formulae 2 and 3 in a weight ratio of 2.5-3 : 1. In the formula 1, R1 is hydrogen or a methyl group, R2 is a C1-10 straight or branched alkyl group or C5-10 cycloalkyl group, and each of a, b, and c is a natural number of 0-1, wherein 0.1
摘要翻译： 提供化学放大的正性光致抗蚀剂组合物以确保耐热性，残留率，涂布性和耐干腐蚀性等良好性能，并且显示出优异的分辨率和改善的灵敏度，轮廓和焦深。 化学放大型正性光致抗蚀剂组合物包含通过将由下式1表示的超级无规型共聚物树脂与由下式2和3表示的光酸产生物以2.5-3:1的重量比混合而获得的混合物。在式 1，R1为氢或甲基，R2为C1-10直链或支链烷基或C5-10环烷基，a，b和c分别为0-1的自然数，其中0.1 < C /（A + b + C）<= 0.5。 式2中，R为C 1-10直链或支链烷基，C5-10环烷基，卤素取代烷基，C1-20烷基，C1-6烷氧基或卤素取代或未取代的C6-11 芳基。 在式3中，R 5，R 6和R 7各自独立地为氢，羟基，C 1-6直链或支链烷基或C 1-6烷氧基。
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