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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100065382A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：KR1020107008506
申请日：2008-10-03
Applicant: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: Improved slurry compositions comprising a mixture of a first type of particles and a second type of abrasive particles dispersed within an aqueous medium, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, particularly abrasive slurry compositions for polishing of sapphire. These abrasive slurry compositions comprise a mixture of a first type of abrasive particles having a hardness that is harder than the surface being polished and a second type of abrasive particles have a hardness that is softer than the surface being polished, particularly mixtures of silicon carbide abrasive particles and silica abrasive particles, dispersed within an aqueous medium.
Abstract translation: 改进的浆料组合物，其包含第一类型的颗粒和分散在水性介质中的第二类型磨料颗粒的混合物，以及用于使用化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物，特别是用于抛光蓝宝石的磨料浆料组合物。 这些磨料浆料组合物包含第一类磨料颗粒的混合物，该磨料颗粒的硬度比待抛光的表面硬，并且第二类磨料颗粒具有比被抛光表面更硬的硬度，特别是碳化硅磨料的混合物 颗粒和二氧化硅磨料颗粒分散在水性介质中。
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公开(公告)号：KR101323577B1
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：KR1020127028263
申请日：2008-10-03
Applicant: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
IPC: C04B41/50 , C09K3/14 , B82B3/00 , C04B35/565
CPC classification number: C09K3/1436 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/62807 , C04B35/62889 , C04B35/62892 , C04B2235/3878 , C04B2235/3882 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
Abstract: 개선된 탄화규소 입자, 개선된 탄화규소 연마 입자, 및 화학기계적 평탄화(CMP) 공정에 사용되는 연마재 슬러리 조성물이 개시된다. 이들 입자는 나노크기의 탄화물 입자로 이루어질 수 있으며, 특히 실리카와 유사한 표면 화학성을 가지는 탄화규소 입자로 이루어질 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020100068432A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：KR1020107007976
申请日：2008-10-03
Applicant: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
CPC classification number: C09K3/1436 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/62807 , C04B35/62889 , C04B35/62892 , C04B2235/3878 , C04B2235/3882 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
Abstract: Improved silicon carbide particles, improved silicon carbide abrasive particles, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, the particles can comprise nano-sized carbide particles, particularly silicon carbide particles having a surface chemistry similar to silica.
Abstract translation: 改进的碳化硅颗粒，改进的碳化硅磨料颗粒和用于化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物，颗粒可以包含纳米尺寸的碳化物颗粒，特别是具有与二氧化硅相似的表面化学结构的碳化硅颗粒。
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公开(公告)号：KR1020120131237A
公开(公告)日：2012-12-04
申请号：KR1020127028263
申请日：2008-10-03
Applicant: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
IPC: C04B41/50 , C09K3/14 , B82B3/00 , C04B35/565
CPC classification number: C09K3/1436 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/62807 , C04B35/62889 , C04B35/62892 , C04B2235/3878 , C04B2235/3882 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
Abstract: 개선된 탄화규소 입자, 개선된 탄화규소 연마 입자, 및 화학기계적 평탄화(CMP) 공정에 사용되는 연마재 슬러리 조성물이 개시된다. 이들 입자는 나노크기의 탄화물 입자로 이루어질 수 있으며, 특히 실리카와 유사한 표면 화학성을 가지는 탄화규소 입자로 이루어질 수 있다.
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公开(公告)号：KR101170030B1
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：KR1020107008506
申请日：2008-10-03
Applicant: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 수성매질 내에 분산되어 있으며, 제1형 입자와 제2형 연마입자와의 혼합물을 포함하는 개선된 슬러리 조성물, 및 화학기계적 평탄화(CMP) 공정에 사용되는 연마재 슬러리 조성물, 특히는 사파이어 연마를 위한 연마재 슬러리 조성물이 개시된다. 이들 연마재 슬러리 조성물은, 수성매질 내에 분산되어 있으며, 피연마 표면보다 단단한 경도를 가진 제1형 연마입자와, 피연마 표면보다 연성이 높은 경도를 가진 제2형 연마입자의 혼합물로 이루어지되, 구체적으로는 탄화규소 연마입자와 실리카 연마입자와의 혼합물로 이루어진다.
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