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公开(公告)号：KR1020160019606A
公开(公告)日：2016-02-22
申请号：KR1020140103810
申请日：2014-08-11
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67034
摘要： 본발명은기판을처리하는장치를제공한다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 내부에기판을처리하는공간을제공하는하우징, 상기하우징내에서기판을지지및 회전시키는스핀헤드, 그리고상기스핀헤드에놓인기판의상면으로유체를공급하는상부노즐부를갖는노즐부를포함하되, 상기상부노즐부는, 상기하우징내 일측에제공되고, 상기기판상으로제 1 유체를공급하는제 1 토출구를갖는제 1 노즐부재및 상기하우징내 타측에제공되고, 상기기판상으로제 2 유체를공급하는제 2 토출구를갖는제 2 노즐부재를포함하되, 상기제 1 노즐부재및 상기제 2 노즐부재는각각그 중심축을기준으로상기스핀헤드에놓인기판에평행하게회전가능하고, 상기제 1 노즐부재및 상기제 2 노즐부재가동시에회전될때, 상기제 1 토출구는상기제 2 토출구보다진행방향에있어선행하도록제공될수 있다.
摘要翻译： 本发明提供一种基板处理装置。 根据本发明的实施例的基板处理装置包括：提供用于在其中处理基板的空间的壳体; 旋转头，其支撑并旋转壳体中的基底; 以及喷嘴单元，其具有向位于旋转头上的基板的上表面供给流体的上喷嘴部。 上喷嘴部分包括设置在壳体的一侧上的第一喷嘴构件，并且具有用于将第一流体供应到基板上的第一出口; 以及第二喷嘴构件，其设置在所述壳体中的另一侧，并且具有用于将第二流体供应到所述基板上的第二出口。 第一喷嘴构件和第二喷嘴构件中的每一个可以围绕其旋转头上的基板绕其中心轴线平行旋转，并且当第一喷嘴构件和第二喷嘴 会员同时旋转。
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公开(公告)号：KR101591959B1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：KR1020140007314
申请日：2014-01-21
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본발명은기판을처리하는장치를제공한다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 기판에대해소정의공정을수행하는공정챔버, 상기공정챔버내의압력을측정하는압력측정기, 상기압력측정기로부터측정된압력값을전송받고, 상기공정챔버의내부의개방시기를결정하는제어기를포함하되, 상기제어기는상기공정챔버내 압력값이기설정된개방압력에도달한시점부터설정조건이경과되면상기공정챔버의내부를개방할수 있다.
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公开(公告)号：KR101536712B1
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：KR1020140037610
申请日：2014-03-31
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본발명은반도체기판제조장치및 방법에관한것으로, 보다상세하게는기판을건조하는장치및 방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판건조장치는건조공정이수행되는공간을제공하는하우징, 상기하우징의내부에제공되어기판을지지하는기판지지부재, 상기하우징으로초임계상태의공정유체를공급하는공급라인을포함하는유체공급부재및 상기하우징으로부터상기공정유체를배기하는배기라인을포함하는배기부재를포함하되, 상기공급라인은상기공정유체를제1 공급유량으로상기하우징에공급되도록제공되는제1 공급라인및 상기공정유체를제2 공급유량으로상기하우징에공급되도록제공되는제2 공급라인을포함한다. 상기공급라인은상기공정유체의저장부에연결된전방공급라인및 상기하우징에연결된후방공급라인을더 포함하되, 상기제1 공급라인과제2 공급라인이서로병렬로연결되고, 상기전방공급라인과상기후방공급라인을연결시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020150062906A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：KR1020140007314
申请日：2014-01-21
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/302
摘要： 본발명은기판을처리하는장치를제공한다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 기판에대해소정의공정을수행하는공정챔버, 상기공정챔버내의압력을측정하는압력측정기, 상기압력측정기로부터측정된압력값을전송받고, 상기공정챔버의내부의개방시기를결정하는제어기를포함하되, 상기제어기는상기공정챔버내 압력값이기설정된개방압력에도달한시점부터설정조건이경과되면상기공정챔버의내부를개방할수 있다.
摘要翻译： 本发明提供了一种基板处理装置。 根据本发明的实施例的基板处理装置包括：处理室，在基板上执行一定的处理; 测量处理室中的压力的压力计; 以及控制器，其接收在所述压力计中测量的压力值，并且确定所述处理室内部的打开时间，其中所述控制器打开所述处理室的内部，当设定条件经过所述处理室内部的压力值 处理室达到预设的打开压力。
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公开(公告)号：KR1020130053108A
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：KR1020110118654
申请日：2011-11-15
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02101
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus and a substrate processing method are provided to reduce processing time by moving a door through a guide rail and a pressurizing member. CONSTITUTION: A housing(3100) includes an opening part and provides a processing space. A guide rail is vertically arranged on a surface with the opening part. A door(3200) is installed in the guide rail to face the opening part and opens or closes the housing. A door driving unit moves the door along the guide rail. A support member(3300) is installed on the surface of the door facing the opening part and receives a substrate. [Reference numerals] (3220) Holder driver; (3420) Door driver
摘要翻译： 目的：提供一种基板处理装置和基板处理方法，通过将门移动通过导轨和加压构件来减少处理时间。 构成：壳体（3100）包括开口部分并提供处理空间。 导轨垂直设置在具有开口部分的表面上。 导轨中安装有门（3200）以面对开口部分并打开或关闭壳体。 门驱动单元沿着导轨移动门。 支撑构件（3300）安装在面向开口部分的门的表面上并且接收基板。 （附图标记）（3220）保持器驱动器; （3420）门司机
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公开(公告)号：KR101035983B1
公开(公告)日：2011-05-23
申请号：KR1020080105815
申请日：2008-10-28
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/304
摘要： 본 발명은 기판을 세정 처리하는 매엽식 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판 처리 장치는 기판이 놓여지는 스핀 헤드를 포함하는 기판지지부재; 상기 기판에 소정의 약액들을 각각 공급하는 약액공급부재; 상기 스핀 헤드 주위를 감싸도록 설치되어 기판상에서 비산되는 약액과 흄(fume)을 포함한 공기를 유입 및 흡입하는 환형의 흡입덕트가 다단으로 배치되는 처리용기; 상기 처리용기의 배기를 위해 펌프로부터 진공압을 제공받는 메인배기라인과 연결되는 서브 배기라인; 상기 서브 배기라인에 설치되는 배기팬; 및 상기 배기팬을 제어하는 제어기를 포함한다.
세정,배기,덕트-
公开(公告)号：KR1020090027033A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：KR1020070092197
申请日：2007-09-11
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김붕
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/12
摘要： A nozzle, and apparatus and method for treating substrate with the nozzle are provided to spray the processing liquid by using rotational force and to efficiently wash the substrate. The nozzle comprises the body(210), and the discharge part(220) and torque offering part. The flow path is formed inside the body. The processing liquid flows through the flow path. The discharge part is provided to one end of the body. The processing liquid is discharged through the discharge part. The torque offering part provides the torque to the processing liquid inside the discharge part. The torque offering part comprises the guide-line(224). The guide-line is spirally formed in the inner side of the flow path.
摘要翻译： 提供喷嘴，以及用喷嘴处理基板的设备和方法，以通过使用旋转力喷射处理液体并有效地洗涤基板。 喷嘴包括主体（210）和排出部分（220）和扭矩产生部分。 流路形成在体内。 处理液体流过流路。 排出部分设置在主体的一端。 处理液通过排出部排出。 转矩提供部分向排出部分内的处理液体提供扭矩。 扭矩提供部分包括引导线（224）。 引导线螺旋地形成在流路的内侧。
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公开(公告)号：KR1020090025570A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：KR1020070090526
申请日：2007-09-06
申请人： 세메스 주식회사
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67259
摘要： A substrate processing apparatus and a substrate sensing method are provided to sense all region of a substrate processing surface through an optical signal by rotating the substrate. A support member(120) supports a substrate. A driving unit rotates the supporting member. A light emitting sensor(162) emits an optical signal in order to cross the processed side of the substrate. A light receiving sensor(164) receives the optical signal which the light emitting sensor emits. A control member determines whether the substrate is positioned in a right position of the support member.
摘要翻译： 提供基板处理装置和基板感测方法，通过旋转基板通过光信号来感测基板处理表面的所有区域。 支撑构件（120）支撑基板。 驱动单元旋转支撑构件。 发光传感器（162）发射光信号以穿过基板的经处理侧。 光接收传感器（164）接收发光传感器发射的光信号。 控制构件确定衬底是否位于支撑构件的右侧位置。
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