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    포토레지스트 조성물
    1.
    发明公开
    포토레지스트 조성물 有权
    光电组合物

    公开(公告)号：KR1020110041415A

    公开(公告)日：2011-04-21

    申请号：KR1020100099738

    申请日：2010-10-13

    Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

    Inventor： 마스야마,다츠로 ,  하시모토,가즈히코 ,  시게마츠,준지

    IPC: G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C08F120/34 ,  C07C251/66 ,  C07C309/70 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/0047 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0271

    Abstract: PURPOSE: A photo-resist composition is provided to form photo-resist patterns with the superior line-width roughness and obtain the superior resolution and the adhesive property of photo-resist. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes polymer, a resin, and an acid generator. The polymer includes a unit structure derived from a compound represented by chemical formula 1. The resin includes acid-labile group and is soluble in an alkaline aqueous solution by the action of acid. In the chemical formula 1, R1 is hydrogen or methyl group. R2 is C6 to C12 of substituted aromatic hydrocarbon. R3 is cyano group or C1 to C12 of substituted hydrocarbon with one or more hetero elements. A1 represents a single bond, -(CH_2)_g-CO-O-*, or -(CH_2)_h-OCO-(CH_2)_i-CO-O-*. g, h, and I are respectively the integer of 1 to 6. * is the bonding position of nitrogen element.

    Abstract translation: 目的：提供光刻胶组合物以形成具有优异的线宽粗糙度的光刻胶图案，并获得优异的分辨率和光刻胶的粘合性能。 构成：光致抗蚀剂组合物包括聚合物，树脂和酸发生剂。 聚合物包括由化学式1表示的化合物衍生的单元结构。该树脂包括酸不稳定基团，并且通过酸的作用可溶于碱性水溶液。 在化学式1中，R 1是氢或甲基。 R2是取代芳烃的C6〜C12。 R3是具有一个或多个杂元素的取代烃的氰基或C1至C12。 A1表示单键， - （CH 2）_g-CO-O- *或 - （CH 2）n-OCO-（CH 2）n-CO-O- *。 g，h和I分别为1〜6的整数。*是氮元素的键合位置。

    화학적으로 증폭된 포지티브 레지스트 조성물
    2.
    发明公开
    화학적으로 증폭된 포지티브 레지스트 조성물 有权
    化学放大正电阻组合物

    公开(公告)号：KR1020100019344A

    公开(公告)日：2010-02-18

    申请号：KR1020090071777

    申请日：2009-08-04

    Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

    Inventor： 시마다,마사히코 ,  하시모토,가즈히코 ,  시게마츠,준지 ,  미야가와,다카유키 ,  야마모토,사토시

    IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    Abstract: PURPOSE: A chemically amplified positive resist composition is provided to ensure excellent contact angle and receding contact angle, and low leaching of the resist composition in contact with water. CONSTITUTION: A chemically amplified positive resist composition comprises: (A) a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being itself insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, (B) a resin comprising a structural unit represented by the formula (I), wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 perfluoroalkyl group, Z represents a single bond or -(CH2)k-CO-X4-, k represents an integer of 1 to 4, X1, X2, X3 and X4 each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, m represents an integer of 1 to 3 and n represents an integer of 0 to 3, and a structural unit having a fluorine atom in a side chain, and an acid generator.

    Abstract translation: 目的：提供化学放大的正性抗蚀剂组合物，以确保优异的接触角和后退接触角，以及抗蚀剂组合物与水接触的低浸出。 构成：化学放大正型抗蚀剂组合物包含：（A）包含具有酸不稳定基团的结构单元的树脂，其本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过作用于碱性水溶液 酸，（B）包含由式（I）表示的结构单元的树脂，其中R1表示氢原子，卤素原子，C1-C4烷基或C1-C4全氟烷基，Z表示单键或 - （CH 2）k -CO-X 4 - ，k表示1〜4的整数，X 1，X 2，X 3，X 4各自独立地表示氧原子或硫原子，m表示1〜3的整数，n表示 0〜3的整数，侧链具有氟原子的结构单元和酸发生剂。

    포토레지스트 조성물
    3.
    发明授权
    포토레지스트 조성물 有权
    光刻胶组成

    公开(公告)号：KR101721997B1

    公开(公告)日：2017-03-31

    申请号：KR1020100099738

    申请日：2010-10-13

    Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

    Inventor： 마스야마,다츠로 ,  하시모토,가즈히코 ,  시게마츠,준지

    IPC: G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C08F120/34 ,  C07C251/66 ,  C07C309/70 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    Abstract: 본발명은식 (I)로나타낸화합물로부터유래된구조단위를포함하는중합체:[여기서, R은수소원자또는메틸기를나타내고, R는하나이상의치환체를가질수 있는 C6-C12 방향족탄화수소기를나타내고, R는시아노기를나타내거나, 또는하나이상의치환체를가질수 있으며하나이상의헤테로원자를함유할수 있는 C1-C12 탄화수소기를나타내고, A은단일결합, -(CH)-CO-O-* 또는 -(CH)-O-CO-(CH)-CO-O-*를나타내며, 여기서, g, h, 및 i는각각독립적으로 1 내지 6의정수를나타내며그리고 *는질소원자에대한결합위치를나타냄], 산-불안정성기를가지며, 알칼리수용액에불용성이거나난용성이지만산의작용에의해알칼리수용액에가용성으로되는수지, 및산 발생제를포함하는포토레지스트조성물을제공한다.

    Abstract translation: 本发明式（I）从tanaen化合物含有衍生的结构单元洛娜聚合物：[其中，R隐士表示意愿椅子或甲基，R表示可以具有任何一个或多个取代基的C6-C12芳族烃基，R是 或可具有一个或多个取代基且可含有一个或多个杂原子且A表示单键的C1-C12烃基， - （CH）-CO-O-或 - （CH）-O -CO-（CH）代表-CO-O- *，其中，G，H，和i各自独立地表示从1到6，和*议定书neunjil表示键合部位为椅子愿望]，可使用酸不稳定 一种树脂，其在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下可溶于碱性水溶液，并且产生光酸产生剂。

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