公开(公告)号：KR102227108B1

公开(公告)日：2021-03-15

申请号：KR1020190030394

申请日：2019-03-18

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/687

Abstract: (과제) 기판반송시간을단축시킬수 있는기판반송장치, 기판처리장치및 기판처리방법을제공한다. (해결수단) 실시형태에관련된기판반송장치로서기능하는제2 반송로봇(14)은, 제1 파지판(21)과, 이제1 파지판(21)에의해지지되고, 기판(W)의외주면에접촉하는접촉면을제1 파지판(21)의표면에대하여상하에갖는제1 갈고리부(21b)와, 제1 파지판(21)에중복되도록설치된제2 파지판(22)과, 이제2 파지판(22)에의해지지되고, 기판(W)의외주면에접촉하는접촉면을제1 파지판(21)의표면에대하여상하에갖는제2 갈고리부(22b)와, 제1 갈고리부(21b) 및제2 갈고리부(22b)가기판(W)의외주면에교차하는방향으로접근·이격되도록, 제1 파지판(21) 및제2 파지판(22)을상대이동시키는파지부(23)를구비한다.

公开(公告)号：KR102221337B1

公开(公告)日：2021-03-02

申请号：KR1020180113166

申请日：2018-09-20

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키 ,  야마자키가츠히로 ,  모리히데키 ,  하야시고노스케

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은처리액마다의분리회수를가능하게하는기판처리장치를제공한다. 복수종류의처리액을순차공급하여기판(12)을처리하는기판처리장치(11)에있어서, 기판(12)을유지하여회전시키는기판회전수단과, 기판회전수단에의해회전하는기판(12)에처리액을공급하는노즐(20)과, 기판(12)의주위에마련되어, 기판(12)으로부터비산되는처리액을받아들이는컵체(51)와, 컵체(51)가받아들인처리액의종류에따라서컵체(51)로부터처리액을흘리는각종회수배관(55)과, 컵체(51)를수평회동시켜컵체(51)와처리액의종류에따른회수배관(55)이위치하는방향으로전환시키는회동수단과, 컵체(51)를상하방향으로승강시켜, 회동수단에의한컵체(51)와처리액의종류에따른회수배관(55)과연통되는제1 높이위치와, 컵체(51)가받아들인처리액을폐액경로(61)로흘리는제2 높이위치로전환시키는승강수단을갖는다.

公开(公告)号：KR101962009B1

公开(公告)日：2019-03-25

申请号：KR1020170039109

申请日：2017-03-28

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/677

公开(公告)号：KR101841342B1

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：KR1020160037686

申请日：2016-03-29

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키 ,  모리히데키 ,  하야시고노스케 ,  오오타가키다카시 ,  가나이다카히로

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683

Abstract: 더스트의발생및 회전중의기판의위치어긋남을억제할수 있는스핀처리장치를제공한다. 스핀처리장치(1)는기판(W)의외주면에편향력에의해접촉하여기판(W)을파지하는복수의클램프핀(21)과, 기판(W)의외주둘레로각 클램프핀(21)을회전시키는회전기구[모터(4) 등]와, 고정링 마그넷(36)을기판(W)의회전축방향을따라상하이동시키는승강기구(3h)와, 고정링 마그넷(36)에반발하는회전링 마그넷(35)의상하방향의운동을횡방향의운동으로변환하는변환기구(3g)와, 횡방향의운동중 어느일방향의운동에따라각 클램프핀(21)을동기시켜전술한편향력에거슬러기판(W)의외주면으로부터멀어지는방향으로동일한양 이동시키고, 횡방향의운동의타방향의운동에따라전술한편향력에의해각 클램프핀(21)을동기시켜기판(W)의외주면에근접하는방향으로동일한양 이동시키는동기이동기구[복수의피니언(3e)이나마스터기어(3f) 등]를구비한다.

Abstract translation: 公开了一种旋转处理设备，其能够抑制旋转期间基板的灰尘和位移。 旋转处理装置1具备：多个夹持销21，其通过施加力与基板W的外周面抵接而夹持基板W;多个夹持销21， 旋转机构 - 电机（4）等]，和固定环磁铁36，基片（W）提升机构（3H），其沿着所述国会前镜筒方向上下移动，并用于转动所述固定环磁铁36，埃文发光旋转环 （3g），其用于将磁体（35）的向上运动转换为横向运动;以及控制机构（3g），其用于使夹持销（21）同步， 使夹紧销21向远离基板W的外周面的方向移动，使夹紧销21向接近基板W的外周面的方向移动 以及用于沿相同方向移动它们的同步移动机构（多个小齿轮3e，主齿轮3f等）。

公开(公告)号：KR102129450B1

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：KR1020170027025

申请日：2017-03-02

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 고바야시노부오 ,  하마다고이치 ,  구로카와요시아키 ,  후루야마사아키 ,  모리히데키 ,  와타나베야스시 ,  하야시요시노리

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/687

公开(公告)号：KR1020170113082A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170027596

申请日：2017-03-03

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키 ,  모리히데키

IPC: H01L21/67

Abstract: 본발명은기판의품질불량의발생을억제할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 실시형태에관한기판처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지플레이트(20)와, 처리액(S)을토출하는토출구(40a)를가지며, 기판유지플레이트(20)에의해유지된기판(W)의표면에대향하여떨어진위치에설치되고, 토출구(40a)로부터토출된처리액(S)을기판유지플레이트(20)에의해유지된기판(W)의표면과의사이에유지하는처리액유지플레이트(40)와, 처리액유지플레이트(40)에설치되고, 처리액유지플레이트(40)를가열하는히터(41)와, 기판유지플레이트(20)에의해유지된기판에대하여처리액유지플레이트(40) 및히터(41)를승강시키는승강기구(60)와, 처리액유지플레이트(40)의기판(W)측의표면에토출구(40a)를둘러싸도록고리형으로설치되고, 처리액(S)을튀기는발액층(43)을구비한다.

Abstract translation: 本发明将是零，并且提供一种能够抑制在基材的品质缺陷的产生的基板处理装置。 本实施方式的基板处理装置10包括用于具有，基板保持板20用于排出在基板（W）eulyu地下室年到基板保持板20，以及一个处理液排放口（40a）的所述（S） 它是在相对的位置保持基板（W）的表面设置，通过从排放口（40a）的喷出的处理液（S）保持的基板（W）的表面之间的基板保持板20 在处理液保持板40，用于保持，它被安装在该处理液保持板40，加热器41用于加热所述处理液保持板40，由基板保持板20，基板保持 提升机构60和安装在环形，以包围该处理液保持板40的基板（W）的表面上的排放口（40a）的用于提升保持板40中的处理液和用于加热器41 用于排斥处理液S的疏液层43。

公开(公告)号：KR1020150034100A

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：KR1020140126669

申请日：2014-09-23

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/42 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/683 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/687

Abstract: 본발명은더스트의발생및 클램프시의기판위치의어긋남을억지할수 있는스핀처리장치를제공하는것을과제로한다. 스핀처리장치(1)는, 기판(W)을회전시켜처리하는스핀처리장치로서, 기판(W)의외측둘레면에각각접촉하여기판(W)을파지하는적어도 3개의클램프핀(21)과, 클램프핀(21)마다설치되며클램프핀(21)을기판(W)의회전축과평행한자신의회전축으로부터편심시켜유지하는회전가능한복수의핀 회전체(23)와, 핀회전체(23)마다그 핀회전체(23)의외측둘레면에설치되며자극이핀 회전체(23)의회전축의축방향을따라서나선형으로형성된복수의마그넷기어(31a)와, 마그넷기어(31a)마다설치되며마그넷기어(31a)의자극과서로끌어당기도록위치부여된복수의회전용자석(31b)과, 복수의회전용자석(31b)을핀 회전체(23)의회전축의축방향을따라서이동시키는이동기구를구비한다.

Abstract translation: 本发明提供一种旋转处理器，其能够抑制和发生灰尘以及夹持时基板位置的错位。 旋转处理装置（1）是通过旋转来处理基板（W）的旋转处理装置，其包括：分别与基板（W）的外周面接触的至少三个夹紧销（21） 以夹持基底（W）; 多个可动销旋转体（23），其安装到每个夹紧销（21）上并通过使所述夹紧销（21）从与所述基板（W）的旋转轴平行的旋转轴偏压而保持; 多个磁针齿轮（31a），其安装在销旋转体（23）的外周面上，与每个销旋转体（23）相对，其中磁极沿着旋转轴的轴向形成螺旋形 的销旋转体（23）; 安装在每个磁齿轮（31a）上的多个用于旋转的磁体（31b），并且被定位成用磁齿轮（31a）的磁极相互牵引; 以及沿着销旋转体（23）的旋转轴的轴向移动多个用于旋转的磁体（31b）的移动装置。

公开(公告)号：KR1020150026940A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：KR1020140113000

申请日：2014-08-28

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67028 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/02 ,  H01L21/683

Abstract: 본 발명은 기판측으로의 액 튐을 억제하면서 장치의 소형화 및 경량화를 실현할 수 있는 스핀 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
스핀 처리 장치(1)는, 회전하는 기판(W)을 그 외주로부터 이격되어 둘러싸도록 환형으로 형성되고, 그 회전하는 기판(W)으로부터 비산하는 액체를 받아 수용하는 액 수용부(6)와, 그 액 수용부(6)를 그 외주로부터 이격되어 둘러싸도록 환형으로 형성되고, 액 수용부(6)의 상면으로부터 외주면을 따라 기류를 발생시키기 위한 환형의 외측 배기 유로(A2)를 형성하는 컵체(3)와, 액 수용부(6)의 고리 내에 설치되며 환형으로 형성되고, 액 수용부(6)의 내주면으로부터 하면을 따라 기류를 발생시키기 위한 환형의 내측 배기 유로(A1)를 형성하는 칸막이 부재(7)를 구비한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够实现装置的小型化和轻量化的旋转处理器，同时防止液体飞溅到基板。 旋转处理器（1）包括：液体接收部分（6），其具有围绕旋转基板（W）的外侧的环形状，并接收从旋转基板（W）溅出的液体，杯体（3） 其具有围绕液体接收部分（6）的环形，并且具有用于沿着从液体接收部分（6）的上侧的外表面产生气流的环形外部排气流路（A2），并且 分隔构件（7）安装在液体接收部分的环中，具有环形，具有用于沿着液体接收部分（6）的内表面产生气流的环形外部排气流路（A1） 。

公开(公告)号：KR101284483B1

公开(公告)日：2013-07-16

申请号：KR1020110065582

申请日：2011-07-01

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B25J15/00 ,  B25J9/02

CPC classification number: B25J15/00 ,  B25J11/0095 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141 ,  Y10S901/32 ,  Y10S901/36 ,  Y10S901/38 ,  Y10S901/39

Abstract: 본 발명의 실시형태는, 기구의 간이화, 경량화를 도모할 수 있는 파지 장치, 반송 장치, 처리 장치 및 전자 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태에 따른 파지 장치는, 피처리물의 둘레 가장자리에 접촉시키는 제1 파지체를 가진 제1 파지판과, 상기 둘레 가장자리에 접촉시키는 제2 파지체를 가진 제2 파지판을 가지며, 상기 제1 파지체와, 상기 제2 파지체가 서로 접근 이격되도록 상기 제1 파지판 및 상기 제2 파지판 중 적어도 한쪽을 이동시키는 파지부를 포함하고 있다. 파지 장치는, 상기 파지부를 승강시키는 승강부와, 상기 파지부에 의한 개폐 동작과, 상기 승강부에 의한 승강 동작을 제어하는 동작 제어부를 더 포함하고 있다. 그리고, 상기 동작 제어부는, 제1 승강 동작, 상기 개폐 동작, 상기 제1 승강 동작과 같은 방향으로 승강시키는 제2 승강 동작을 이 순서로 기계적으로 제어한다.

公开(公告)号：KR1020120003400A

公开(公告)日：2012-01-10

申请号：KR1020110065582

申请日：2011-07-01

Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤

Inventor： 후루야마사아키

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B25J15/00 ,  B25J9/02

CPC classification number: B25J15/00 ,  B25J11/0095 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141 ,  Y10S901/32 ,  Y10S901/36 ,  Y10S901/38 ,  Y10S901/39

Abstract: PURPOSE: A gripping device, a transferring device, a processing device, and a method for manufacturing an electronic device are provided to perform an operation at high speed by mechanically controlling a grip/release operation and a lifting operation. CONSTITUTION: A gripping unit(27) includes a first grip plate(24) and a second grip plate(26). The gripping unit moves the first grip plate or the second grip plate. A lifting unit(28) lifts the gripping unit. An operation control unit(14) controls the lifting operation of the lifting unit and the opening and closing operation of the gripping unit. The operation control unit mechanically controls a first lifting operation, the opening and closing operation, and a second lifting operation.

Abstract translation: 目的：提供一种夹持装置，转移装置，处理装置和用于制造电子装置的方法，以通过机械地控制抓取/释放操作和提升操作来高速执行操作。 构成：夹持单元（27）包括第一夹板（24）和第二夹板（26）。 夹持单元移动第一夹板或第二夹板。 提升单元（28）提升夹持单元。 操作控制单元（14）控制提升单元的提升操作和夹紧单元的打开和关闭操作。 操作控制单元机械地控制第一提升操作，打开和关闭操作以及第二提升操作。