公开(公告)号：KR102258593B1

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：KR1020150155113

申请日：2015-11-05

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 자나키라만,카르티크 ,  말릭,아브히지트바수 ,  폰네칸티,하리케이. ,  스리람,만드얌 ,  데모스,알렉산드로스티. ,  스리니바산,무쿤드 ,  로차-알바레즈,주안카를로스 ,  두보이스,데일알.

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 증착챔버, 처리챔버, 및증착챔버를처리챔버로부터분리시키는격리영역을포함하는프로세싱시스템에서기판을프로세싱하기위한장치및 방법이본원에서설명된다. 증착챔버는필름을기판상에증착시킨다. 처리챔버는증착챔버로부터기판을수용하고, 증착챔버에서증착된필름을필름특성변경디바이스를이용하여변경한다. 상기실시예및 다른실시예들에따라프로세싱시스템들및 방법들이제공된다.

公开(公告)号：KR1020160054420A

公开(公告)日：2016-05-16

申请号：KR1020150155113

申请日：2015-11-05

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 자나키라만,카르티크 ,  말릭,아브히지트바수 ,  폰네칸티,하리케이. ,  스리람,만드얌 ,  데모스,알렉산드로스티. ,  스리니바산,무쿤드 ,  로차-알바레즈,주안카를로스 ,  두보이스,데일알.

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/67 ,  H01L21/203

CPC classification number: H01L21/67207 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/6776

Abstract: 증착챔버, 처리챔버, 및증착챔버를처리챔버로부터분리시키는격리영역을포함하는프로세싱시스템에서기판을프로세싱하기위한장치및 방법이본원에서설명된다. 증착챔버는필름을기판상에증착시킨다. 처리챔버는증착챔버로부터기판을수용하고, 증착챔버에서증착된필름을필름특성변경디바이스를이용하여변경한다. 상기실시예및 다른실시예들에따라프로세싱시스템들및 방법들이제공된다.

Abstract translation: 本发明公开了一种在处理系统中处理基板的方法和装置，该处理系统包括将沉积室与处理室分开的沉积室，处理室和隔离区。 沉积室在基板上沉积膜。 处理室从沉积室容纳衬底，并且通过使用膜特征改变装置改变由沉积室沉积的膜。 提供根据实施例和其他实施例的处理系统和方法。 因此，可以提供适于连续沉积和处理的改进的半导体处理系统。