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公开(公告)号：KR102068457B1
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：KR1020187032482
申请日：2017-04-28
IPC分类号： C09D183/16 , C09D7/63 , C09D7/20 , B05D3/00 , C08K5/17
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公开(公告)号：KR101935770B1
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：KR1020157012193
申请日：2013-10-09
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公开(公告)号：KR1020170138408A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：KR1020177026381
申请日：2016-03-23
IPC分类号： C09D183/14 , C08G77/62 , C08K5/544 , C08K5/5419 , C08K5/5425 , C09D183/16
CPC分类号： C08G77/62 , C08J3/28 , C08J5/18 , C08J2383/16 , C08K5/5419 , C08K5/5425 , C08K5/544 , C08L83/16 , C08L2201/14 , C08L2203/16 , C09D183/14 , C09D183/16 , C08L83/00
摘要： [과제] 가스배리어성능이우수한피막형성용조성물, 및피막형성방법의제공. [해결수단] 노광되었을때 폴리실라잔과반응하는규소화합물, 폴리실라잔및 유기용매를포함하는피막형성용조성물, 및피막형성용조성물을기판상에도포하고노광하는것을포함하는피막형성방법.
摘要翻译： [问题]提供具有优异的气体阻隔性能的成膜用组合物及成膜方法。 [解决问题的手段]用于形成涂布膜含有聚硅氮烷和反应的硅化合物，聚硅氮烷和用于形成含有有机溶剂的涂布膜的组合物，以及用于膜形成用组合物的方法，其中，当暴露于涂层和暴露的衬底上。
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公开(公告)号：KR1020160123217A
公开(公告)日：2016-10-25
申请号：KR1020157027284
申请日：2014-03-14
CPC分类号： G03F7/11 , C08L33/14 , C09D139/04 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/094 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , H01L21/76816 , C08L39/04 , C08L79/02 , C11D1/00 , G03F7/0048
摘要： [과제] 표면거칠음이적은, 미세한네가티브형포토레지스트패턴을형성할수 있는조성물과, 이를사용한패턴형성방법의제공. [해결수단] 화학증폭형포지티브형포토레지스트조성물을사용하여포지티브형레지스트패턴을형성시키는방법에있어서, 레지스트패턴을굵게함으로써패턴을미세화하기위해사용되는미세패턴형성용조성물로서, 반복단위중에아미노기를함유하는중합체와, 용제와, 산을포함하여이루어지는것을특징으로하는조성물. 현상후의포지티브형포토레지스트패턴에그 조성물을도포하고가열함으로써미세한패턴을형성시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020160057450A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：KR1020167009907
申请日：2014-09-16
IPC分类号： C09D183/04 , C08J7/04 , C08G77/62
CPC分类号： C09D183/14 , B05D3/0486 , B05D3/066 , B05D3/067 , B05D7/04 , C08G77/26 , C08G77/62 , C08J7/047 , C08J2383/16 , C08J2483/04 , C08J2483/08 , C09D183/16 , C08L83/00 , C08K5/05
摘要： [과제] 가스배리어성능이우수한피막을형성할수 있는피막형성용조성물과피막형성방법의제공. [해결수단] 수산기또는카르복실기를포함하지않는폴리실록산과, 폴리실라잔과유기용제를포함하는것을특징으로하는피막형성용조성물과, 그조성물을기판에도포하고, 노광하는것을포함하는피막형성방법.
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公开(公告)号：KR102048680B1
公开(公告)日：2019-11-27
申请号：KR1020167009907
申请日：2014-09-16
IPC分类号： C09D183/04 , C08J7/04 , C08G77/62
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公开(公告)号：KR101873727B1
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：KR1020157027284
申请日：2014-03-14
CPC分类号： G03F7/11 , C08L33/14 , C09D139/04 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/094 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , H01L21/76816
摘要： [과제] 표면거칠음이적은, 미세한네가티브형포토레지스트패턴을형성할수 있는조성물과, 이를사용한패턴형성방법의제공. [해결수단] 화학증폭형포지티브형포토레지스트조성물을사용하여포지티브형레지스트패턴을형성시키는방법에있어서, 레지스트패턴을굵게함으로써패턴을미세화하기위해사용되는미세패턴형성용조성물로서, 반복단위중에아미노기를함유하는중합체와, 용제와, 산을포함하여이루어지는것을특징으로하는조성물. 현상후의포지티브형포토레지스트패턴에그 조성물을도포하고가열함으로써미세한패턴을형성시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020150068986A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：KR1020157012193
申请日：2013-10-09
CPC分类号： C09D183/16 , B05D3/067 , C01B21/068 , C08J7/00 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2483/16 , C23C18/122 , C23C18/1233 , C23C18/1241 , C23C18/1245 , C23C18/14
摘要： [과제] 규소질치밀막과이의형성방법의제공. [해결수단] 실라잔결합을갖는중합체를함유하여이루어지는피막형성용조성물을기판위에도막하고, 최대피크파장이 160 내지 179nm인광을조사하고, 이어서, 최대피크파장이, 그전에조사한광의최대피크파장보다도 10 내지 70nm 긴광을조사하는것을포함하는, 규소질치밀막의형성방법과, 그것에의해형성시킨규소질치밀막.
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