公开(公告)号：KR1020140069364A

公开(公告)日：2014-06-09

申请号：KR1020147013210

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본 발명에 따르면, 확산 장벽을 제공하기 위해 웨이퍼 또는 레티클과 협동하는, 예를 들어 내부에 수납된 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 포함한 지지 구조물 및 환경 제어 수단을 제공하는 용기가 웨이퍼 또는 레티클의 면 상에서의 입자 정착을 경감시킨다. 용기는 웨이퍼 또는 레티클이 놓이는 돌출부를 구비한 편평하고 연마된 표면을 갖는 기부를 포함한다. 돌출부는 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 부여하며 웨이퍼 또는 레티클을 기부 위에 현수시켜서 이들 사이에 갭을 제공하는, 구와 같은 형태이다. 갭은 기부의 편평하고 연마된 표면으로부터 웨이퍼 또는 레티클을 격리시키지만, 갭 내로의 입자의 이동을 억제하도록 치수가 결정되어, 웨이퍼 또는 레티클의 민감한 표면의 오염을 방지한다. 확산 필터는 필터 매체가 없이 압력 균등화를 제공한다. 상부 커버 상의 이동 가능한 레티클 핀이 레티클 구속을 제공한다. 이중 수납 포드 실시예가 격리 및 보호를 제공한다.

摘要翻译： 提供支撑结构和环境控制装置的容器包括例如与其中包含的晶片或掩模版的最小接触，其与晶片或掩模版配合以提供扩散屏障，以抵抗沉淀在晶片或掩模版的表面上的颗粒。 该容器包括具有平坦抛光表面的底座，该表面具有突起，晶片或标线贴在其上。 突起具有几何形状，例如球体，其赋予与晶片或掩模版的最小接触，并且将晶片或掩模版悬挂在基座上，从而在其间提供间隙。 间隙将晶片或掩模版与基底的平坦抛光表面隔离，但其尺寸设计成抑制颗粒迁移到间隙中，从而防止晶片或掩模版的敏感表面的污染。 扩散过滤器提供压力平衡，无需过滤介质。 顶盖上的可移动的分划板针可提供掩模版限制。 双重安全壳实施例提供了进一步的隔离和保护。

公开(公告)号：KR1020080069969A

公开(公告)日：2008-07-29

申请号：KR1020087009883

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： A container that provides support structure and environmental control means including, for example, minimal contact with a wafer or reticle contained therein that cooperates with wafer or reticle to provide a diffusion barrier mitigates against particles settling on a face of the wafer or reticle. The container includes a base having a flat, polished surface with protrusions upon which the wafer or reticle rests. The protrusions are of a geometry, such as a sphere, that imparts minimum contact with the wafer or reticle and suspends the wafer or reticle over the base, providing a gap therebetween. The gap isolates the wafer or reticle from the flat, polished surface of the base, but is dimensioned to inhibit migration of particles into the gap, thereby preventing contamination of sensitive surfaces of the wafer or reticle. Diffusion filters provide pressure equalization without filter media. Moveable reticle pins on the top cover provide reticle restraint. Dual containment pod embodiment provides further isolation and protection.

摘要翻译： 提供支撑结构和环境控制装置的容器包括例如与其中包含的晶片或掩模版的最小接触，其与晶片或掩模版配合以提供扩散屏障，以抵抗沉淀在晶片或掩模版的表面上的颗粒。 该容器包括具有平坦抛光表面的底座，该表面具有突起，晶片或标线贴在其上。 突起具有几何形状，例如球体，其赋予与晶片或掩模版的最小接触，并且将晶片或掩模版悬挂在基座上，从而在其间提供间隙。 间隙将晶片或掩模版与基底的平坦抛光表面隔离，但其尺寸设计成抑制颗粒迁移到间隙中，从而防止晶片或掩模版的敏感表面的污染。 扩散过滤器提供压力平衡，无需过滤介质。 顶盖上的可移动的分划板针可提供掩模版限制。 双重安全壳实施例提供了进一步的隔离和保护。

公开(公告)号：KR1020130108676A

公开(公告)日：2013-10-04

申请号：KR1020137024088

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/86 ,  B65D85/38 ,  G03F1/66

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본 발명에 따르면, 확산 장벽을 제공하기 위해 웨이퍼 또는 레티클과 협동하는, 예를 들어 내부에 수납된 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 포함한 지지 구조물 및 환경 제어 수단을 제공하는 용기가 웨이퍼 또는 레티클의 면 상에서의 입자 정착을 경감시킨다. 용기는 웨이퍼 또는 레티클이 놓이는 돌출부를 구비한 편평하고 연마된 표면을 갖는 기부를 포함한다. 돌출부는 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 부여하며 웨이퍼 또는 레티클을 기부 위에 현수시켜서 이들 사이에 갭을 제공하는, 구와 같은 형태이다. 갭은 기부의 편평하고 연마된 표면으로부터 웨이퍼 또는 레티클을 격리시키지만, 갭 내로의 입자의 이동을 억제하도록 치수가 결정되어, 웨이퍼 또는 레티클의 민감한 표면의 오염을 방지한다. 확산 필터는 필터 매체가 없이 압력 균등화를 제공한다. 상부 커버 상의 이동 가능한 레티클 핀이 레티클 구속을 제공한다. 이중 수납 포드 실시예가 격리 및 보호를 제공한다.

摘要翻译： 提供支撑结构和环境控制装置的容器包括例如与其中包含的晶片或掩模版的最小接触，其与晶片或掩模版配合以提供扩散屏障，以抵抗沉淀在晶片或掩模版的表面上的颗粒。 该容器包括具有平坦抛光表面的底座，该表面具有突起，晶片或标线贴在该基底上。 突起具有几何形状，例如球体，其赋予与晶片或掩模版的最小接触，并且将晶片或掩模版悬挂在基座上，从而在其间提供间隙。 间隙将晶片或掩模版与基底的平坦抛光表面隔离，但其尺寸设计成抑制颗粒迁移到间隙中，从而防止晶片或掩模版的敏感表面的污染。 扩散过滤器提供压力平衡，无需过滤介质。 顶盖上的可移动的分划板针可提供掩模版限制。 双重安全壳实施例提供进一步的隔离和保护。

公开(公告)号：KR101442451B1

公开(公告)日：2014-09-22

申请号：KR1020137024088

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/86 ,  B65D85/38 ,  G03F1/66

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본 발명에 따르면, 확산 장벽을 제공하기 위해 웨이퍼 또는 레티클과 협동하는, 예를 들어 내부에 수납된 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 포함한 지지 구조물 및 환경 제어 수단을 제공하는 용기가 웨이퍼 또는 레티클의 면 상에서의 입자 정착을 경감시킨다. 용기는 웨이퍼 또는 레티클이 놓이는 돌출부를 구비한 편평하고 연마된 표면을 갖는 기부를 포함한다. 돌출부는 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 부여하며 웨이퍼 또는 레티클을 기부 위에 현수시켜서 이들 사이에 갭을 제공하는, 구와 같은 형태이다. 갭은 기부의 편평하고 연마된 표면으로부터 웨이퍼 또는 레티클을 격리시키지만, 갭 내로의 입자의 이동을 억제하도록 치수가 결정되어, 웨이퍼 또는 레티클의 민감한 표면의 오염을 방지한다. 확산 필터는 필터 매체가 없이 압력 균등화를 제공한다. 상부 커버 상의 이동 가능한 레티클 핀이 레티클 구속을 제공한다. 이중 수납 포드 실시예가 격리 및 보호를 제공한다.

公开(公告)号：KR101532893B1

公开(公告)日：2015-07-02

申请号：KR1020147013210

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본발명에따르면, 확산장벽을제공하기위해웨이퍼또는레티클과협동하는, 예를들어내부에수납된웨이퍼또는레티클과의최소의접촉을포함한지지구조물및 환경제어수단을제공하는용기가웨이퍼또는레티클의면 상에서의입자정착을경감시킨다. 용기는웨이퍼또는레티클이놓이는돌출부를구비한편평하고연마된표면을갖는기부를포함한다. 돌출부는웨이퍼또는레티클과의최소의접촉을부여하며웨이퍼또는레티클을기부위에현수시켜서이들사이에갭을제공하는, 구와같은형태이다. 갭은기부의편평하고연마된표면으로부터웨이퍼또는레티클을격리시키지만, 갭내로의입자의이동을억제하도록치수가결정되어, 웨이퍼또는레티클의민감한표면의오염을방지한다. 확산필터는필터매체가없이압력균등화를제공한다. 상부커버상의이동가능한레티클핀이레티클구속을제공한다. 이중수납포드실시예가격리및 보호를제공한다.

摘要翻译： 提供支撑结构和环境控制装置的容器包括例如与其中包含的晶片或掩模版的最小接触，其与晶片或掩模版配合以提供扩散屏障，以抵抗沉淀在晶片或掩模版的表面上的颗粒。 该容器包括具有平坦抛光表面的底座，该表面具有突起，晶片或标线贴在其上。 突起具有几何形状，例如球体，其赋予与晶片或掩模版的最小接触，并且将晶片或掩模版悬挂在基座上，从而在其间提供间隙。 间隙将晶片或掩模版与基底的平坦抛光表面隔离，但其尺寸设计成抑制颗粒迁移到间隙中，从而防止晶片或掩模版的敏感表面的污染。 扩散过滤器提供压力平衡，无需过滤介质。 顶盖上的可移动的分划板针可提供掩模版限制。 双重安全壳实施例提供了进一步的隔离和保护。

公开(公告)号：KR101442264B1

公开(公告)日：2014-09-22

申请号：KR1020087009883

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본 발명에 따르면, 확산 장벽을 제공하기 위해 웨이퍼 또는 레티클과 협동하는, 예를 들어 내부에 수납된 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 포함한 지지 구조물 및 환경 제어 수단을 제공하는 용기가 웨이퍼 또는 레티클의 면 상에서의 입자 정착을 경감시킨다. 용기는 웨이퍼 또는 레티클이 놓이는 돌출부를 구비한 편평하고 연마된 표면을 갖는 기부를 포함한다. 돌출부는 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 부여하며 웨이퍼 또는 레티클을 기부 위에 현수시켜서 이들 사이에 갭을 제공하는, 구와 같은 형태이다. 갭은 기부의 편평하고 연마된 표면으로부터 웨이퍼 또는 레티클을 격리시키지만, 갭 내로의 입자의 이동을 억제하도록 치수가 결정되어, 웨이퍼 또는 레티클의 민감한 표면의 오염을 방지한다. 확산 필터는 필터 매체가 없이 압력 균등화를 제공한다. 상부 커버 상의 이동 가능한 레티클 핀이 레티클 구속을 제공한다. 이중 수납 포드 실시예가 격리 및 보호를 제공한다.
레티클, 포드, 확산 필터, 구형 볼, 구형 돌출부, 레티클 리테이너

摘要翻译： 提供支撑结构和环境控制装置的容器包括例如与其中包含的晶片或掩模版的最小接触，其与晶片或掩模版配合以提供扩散屏障，以抵抗沉淀在晶片或掩模版的表面上的颗粒。 该容器包括具有平坦抛光表面的底座，该表面具有突起，晶片或标线贴在该基底上。 突起具有几何形状，例如球体，其赋予与晶片或掩模版的最小接触，并且将晶片或掩模版悬挂在基座上，从而在其间提供间隙。 间隙将晶片或掩模版与基底的平坦抛光表面隔离，但其尺寸设计成抑制颗粒迁移到间隙中，从而防止晶片或掩模版的敏感表面的污染。 扩散过滤器提供压力平衡，无需过滤介质。 顶盖上的可移动的分划板针可提供掩模版限制。 双重安全壳实施例提供进一步的隔离和保护。