公开(公告)号：KR1020160043989A

公开(公告)日：2016-04-22

申请号：KR1020167006497

申请日：2014-08-11

申请人： 어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드

发明人： 아브네리,이스라엘 ,  크리브츠크레이비쯔,이고르 ,  우지엘,요람 ,  도드진,니르벤-다비드 ,  홀크만,이도

IPC分类号： G03F7/14 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F9/7096 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

摘要： 마스크홀더에마스크를결합하는시스템이제공된다. 이러한시스템은, 베이스; 개구; 마스크홀더커버를지지하면서제1 위치와제3 위치사이에서이동하도록배열되는마스크홀더커버지지요소들; 마스크를지지하면서제4 위치와제6 위치사이에서이동하도록배열되는마스크지지요소들; 마스크홀더베이스를지지하도록배열되는마스크홀더베이스지지요소들을포함한다. 마스크홀더커버지지요소들은제1 위치에있고, 마스크지지요소들은제3 위치에있을때, 마스크홀더커버, 마스크및 베이스는서로이격된다. 마스크홀더커버지지요소들이제3 위치에있고, 마스크지지요소들이제6 위치있을때, 마스크홀더커버, 마스크및 베이스는서로연결된다.

公开(公告)号：KR1020150067375A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：KR1020157012756

申请日：2013-10-17

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 리스타드,존 ,  콜보우,스티븐피.

IPC分类号： H01L21/673 ,  G03F1/66

CPC分类号： B65D85/48 ,  B65D25/10 ,  B65D25/14 ,  B65D43/02 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67373 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386 ,  Y10T29/49895

摘要： 본발명은레티클캐리어의내부포드의커버및 베이스를정렬하기위한정렬시스템에관한것이다. 상기커버및 베이스는각각저부표면및 상부표면상에각각경질평면표면밀봉구역들을구비할수 있다. 내부포드의커버는정렬핀이배치되는관통구멍또는블라인드홀을구비할수 있다. 상기베이스는정렬핀의원위단부를수용하는가이드리세스를구비한다. 정렬핀은미끄럼접촉하는동안상기커버와베이스사이에서접촉표면적을제한하도록작용하므로, 미립자생성을억제한다. 스테인레스강또는폴리아미드-이미드와같은미립자를적게생성하는물질이미립자생성을더욱감소시키는데유용할수 있다. 또한, 상기커버및 베이스는부품고정을필요로하지않고단일성일수 있으므로, 미립자를포획한다음분쇄할수 있는클램핑된표면을제거한다.

公开(公告)号：KR101442451B1

公开(公告)日：2014-09-22

申请号：KR1020137024088

申请日：2006-09-27

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 콜보우스티븐피. ,  맥뮬렌케빈 ,  티벤앤써니엠. ,  쿠스즈매튜 ,  앤더센크리스챤 ,  왕후아핑 ,  시제브스키마이클 ,  존슨마이클엘. ,  핼브마이어데이빗엘. ,  리스타드죤

IPC分类号： H01L21/673 ,  B65D85/86 ,  B65D85/38 ,  G03F1/66

CPC分类号： B65D85/48 ,  G03F1/66 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67386

摘要： 본 발명에 따르면, 확산 장벽을 제공하기 위해 웨이퍼 또는 레티클과 협동하는, 예를 들어 내부에 수납된 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 포함한 지지 구조물 및 환경 제어 수단을 제공하는 용기가 웨이퍼 또는 레티클의 면 상에서의 입자 정착을 경감시킨다. 용기는 웨이퍼 또는 레티클이 놓이는 돌출부를 구비한 편평하고 연마된 표면을 갖는 기부를 포함한다. 돌출부는 웨이퍼 또는 레티클과의 최소의 접촉을 부여하며 웨이퍼 또는 레티클을 기부 위에 현수시켜서 이들 사이에 갭을 제공하는, 구와 같은 형태이다. 갭은 기부의 편평하고 연마된 표면으로부터 웨이퍼 또는 레티클을 격리시키지만, 갭 내로의 입자의 이동을 억제하도록 치수가 결정되어, 웨이퍼 또는 레티클의 민감한 표면의 오염을 방지한다. 확산 필터는 필터 매체가 없이 압력 균등화를 제공한다. 상부 커버 상의 이동 가능한 레티클 핀이 레티클 구속을 제공한다. 이중 수납 포드 실시예가 격리 및 보호를 제공한다.

公开(公告)号：KR101414708B1

公开(公告)日：2014-07-04

申请号：KR1020117026450

申请日：2010-04-13

申请人： 무라다기카이가부시끼가이샤

发明人： 시카타,노부히데 ,  이즈미,타카노리

IPC分类号： H01L21/673 ,  G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/67386 ,  G03F1/00 ,  G03F1/82 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67393

摘要： 본 발명의 퍼지 장치에 있어서 퍼지동작시간을 단축시킨다. 파드 오프너(21)는, 파드 커버(5)와 개폐가능한 바닥덮개(7)를 갖는 레티클 파드(1) 내에 청정 가스를 공급 및 배출하여 퍼지를 수행하기 위한 장치로서, 스테이지(25)와, 승강구동기구(41)와, 래치기구(13)와, 공급배출부(49)를 구비하고 있다. 스테이지(25)는, 바닥덮개(7)를 파드 커버(5)로부터 분리 및 부착시킬 수 있다. 승강구동기구(41)는 스테이지(25)를 이동시킬 수 있다. 래치기구(13)는, 바닥덮개(7)를 파드 커버(5)에 탈락이 불가능하도록 고정시키고 또한 그 고정을 해제시키는 래치부재(15)를 동작시킨다. 공급배출부(49)는, 래치부재(15)가 바닥덮개(7)를 파드 커버(5)에 고정시키는 동작을 완료하기 전에, 퍼지를 개시한다.

公开(公告)号：KR1020130050954A

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：KR1020137001789

申请日：2011-07-25

申请人： 무라다기카이가부시끼가이샤

发明人： 노무라,미사키

IPC分类号： H01L21/027 ,  B65G1/04 ,  B65G1/133

CPC分类号： B65G1/137 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772 ,  B65G1/045 ,  B65G1/00 ,  B65G1/133 ,  H01L21/0273

摘要： A clean stocker (100) includes: a reticle rotatable rack (111) separately storing reticles and a pod; an empty pod rotatable rack (112); a manual load port (160) supplying to an operator a pod including a reticle; a pod-with-reticle rotatable rack (113) temporarily storing the pod including the reticle; a detecting unit (180) detecting an instruction sent from the operator; a pod opener (140) for, when a first instruction is detected, obtaining (i) a reticle from the reticle rotatable rack (111) and (ii) an empty pod from the empty pod rotatable rack (112), and placing the obtained reticle into the empty pod; and a pod transporting apparatus (130) (i) putting on the pod-with-reticle rotatable rack (113) the pod including the reticle, and (ii) when a second instruction is detected, transporting the pod including the reticle from the pod-with-reticle rotatable rack (113) to the manual load port (160).

公开(公告)号：KR1020120132385A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：KR1020120055386

申请日：2012-05-24

申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

发明人： 버틀러한스 ,  베르뮬렌요하네스페트루스마르티누스베르나르두스

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70716 ,  G05B19/418 ,  H02P25/06 ,  Y02P90/04 ,  H01L21/0273 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2063 ,  G05D3/125 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/682

摘要： PURPOSE: A multi-stage system, a control method for the same, and a lithography apparatus are provided to control a first stage and a second stage as one single stage by activating an entire electrical coils of a first sub set and a second sub set. CONSTITUTION: A stator(1) is parallelly extended with a first direction. A plurality of electrical coils(5) is placed on the side of the stator. A first stage can move to the first direction from the stator. A second stage(7) can move to the first direction from the stator. A sensor determines the position of the first stage and the second stage from the stator. A controller determines the position of the first stage from the stator to a second direction based on an output of the sensor. The controller determines the position of the second stage from the stator to the second direction based on the output of the sensor.

摘要翻译： 目的：提供一种多级系统及其控制方法和光刻设备，以通过激活第一子集和第二子集的整个电线圈来将第一级和第二级控制为一级 。 构成：定子（1）以第一方向平行地延伸。 多个电线圈（5）被放置在定子侧。 第一级可以从定子移动到第一方向。 第二级（7）可以从定子移动到第一方向。 传感器确定来自定子的第一级和第二级的位置。 控制器基于传感器的输出确定第一级从定子到第二方向的位置。 控制器基于传感器的输出确定第二级从定子到第二方向的位置。

公开(公告)号：KR101131688B1

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：KR1020087010820

申请日：2006-06-27

申请人： 신에츠 폴리머 가부시키가이샤

发明人： 키쿠치와타루 ,  야지마토시츠구

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  B65D77/20

CPC分类号： H01L21/67353 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67366 ,  H01L21/67376

摘要： 마모 가루를 저감할 수 있는 펠리클용 수납 용기를 제공한다.
펠리클막(6)과 당해 펠리클막(6)을 지지하는 지지 프레임(7)으로 이루어지는 펠리클(5)을 수송하기 위한 펠리클용 수납 용기(1)로서, 트레이(3)와 그 덮개가 되는 커버(2)와, 트레이(3)와 커버(2)의 외측 또는 내측에 있어서, 트레이(3)와 커버(2)의 간극을 막는 폐색 부재(4)을 구비하고, 폐색 부재(4)에 있어서의 적어도 상기 트레이 또는 상기 커버에 접하는 접촉부가 우레탄 엘라스토머로 이루어지는 펠리클용 수납 용기(1)로 하고 있다.
마모 가루, 펠리클, 수납 용기, 폐색 부재, 우레탄 엘라스토머

公开(公告)号：KR1020090053890A

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：KR1020097001131

申请日：2007-06-19

申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.

发明人： 키쉬코비치올레그피. ,  가바레싸비에르 ,  굳윈윌리암엠. ,  로제임스 ,  스코진스트로이

IPC分类号： H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/67769 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67386 ,  H01L21/67389 ,  H01L21/67393 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/14

摘要： 본 발명은 보관 또는 사용 중에 레티클을 보호하는 특히 레티클들에 형성되는 헤이즈(haze)를 최소화하기 위한 방법, 시스템 및 부품들을 제공한다. 레티클들에 감소시킨 습도레벨을 갖는 스토리지 하우징에 정화를 실질적으로 연속적으로 유지함으로써 또는 정화되지 않는 동안에 건조제 또는 게터에 인접한 컨테이너에 레티클을 일시로 저장함으로써 헤이즈 형성이 제거, 최소화 또는 충분히 제어될 수 있다. 더욱이, 컨테이너 안의 필터 매질은 레티클의 실질적으로 연속인 정화 동안에 "재충전"되는 위치에 있을 수 있고, 컨테이너가 현재 정화되지 않을 때 감소시킨 바람직한 습도레벨은 레티클 컨테이너에서 쉽게 유지될 수 있다. 추가적으로, 본 발명의 시스템은 정화시스템에 결합된 이온화장치를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이온화장치는 정화시스템의 복수의 정화 라인 중 적어도 하나와 결합될 수 있다. 본 발명의 시스템은 클린드라이에어 또는 특수 클린드라이에어의 공급원을 포함하는 정화시스템에 연결된 정화기체공급원을 포함할 수 있다. 스토리지 하우징은 복수의 레티클 스토리지 리셉터클들을 각각 포함하는 복수의 선반들을 포함할 수 있다.
레티클, 클린드라이에어, 스토리지 하우징, 레티클 주머니, 기체전달시스템

公开(公告)号：KR1020090013109A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：KR1020080074614

申请日：2008-07-30

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 모리까와,마모루 ,  하라다,다이지쯔 ,  다께우찌,마사끼

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67359 ,  H01L21/67393 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1314

摘要： A storage container for photomask-forming synthetic quartz glass substrate is provided to improve the productivity and yield by preventing nonuniformity of film when forming the Cr layer etch on the synthetic quartz glass substrate. The container case(1) includes the absorbent holding member(8) maintaining the absorbent(7) of the out gas component generated from the container case. The rate(A/B) of the total amount(g) of the absorbent holding member and the summing area B of one or both glass substrates' surface(s) is 120 m / cm through 1.0. The longest straight distance L(mm) from the synthetic quartz glass board group to the holding member is 800 mm or less.

摘要翻译： 提供一种用于光掩模成形合成石英玻璃基板的储存容器，用于通过在合成石英玻璃基板上形成Cr层蚀刻时防止膜的不均匀性来提高生产率和产率。 容器壳体（1）包括保持从容器壳体产生的气体成分的吸收剂（7）的吸收保持构件（8）。 吸收保持部件的总量（g）和一个或两个玻璃基板表面的相加面积B的速率（A / B）为120m / cm至1.0。 从合成石英玻璃板组到保持部件的最长直线距离L（mm）为800mm以下。

公开(公告)号：KR1020080063942A

公开(公告)日：2008-07-08

申请号：KR1020070000574

申请日：2007-01-03

申请人： 삼성전자주식회사

发明人： 우정오

IPC分类号： H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67359 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/14

摘要： A reticle transfer apparatus is provided to stably absorb a reticle by supplying vacuum absorption force to a loader arm with pre-set power. A grip unit moves to a predetermined position to grip a reticle. A cleaning unit is formed on the grip unit. The cleaning unit supplies air slantly to an external surface of the reticle. The air is slantly supplied along a movement direction of the grip unit. The cleaning unit has a first air spraying unit and a second air spraying unit. The first air spraying unit is formed on the grip unit to spray air toward an upper surface of the reticle. The second air spraying unit is formed on the grip unit to spray air toward a lower surface of the reticle. The grip unit includes a loader arm(100), where a lower surface of the reticle is received, and a robot arm(200), which is extended from the loader arm. The first air spraying unit has a first guidance hole(310), which is formed on the loader arm and guides air to the lower surface of the reticle. The second air spraying unit has a second guidance hole(320), which is formed on the robot arm and guides air to an upper surface of the reticle.

摘要翻译： 提供了一种掩模版传送装置，通过以预定的功率向装载臂提供真空吸附力来稳定地吸收光罩。 把手单元移动到预定位置以夹紧光罩。 在把手单元上形成清洁单元。 清洁单元将空气倾斜地供应到掩模版的外表面。 空气沿着握持单元的移动方向倾斜地供给。 清洁单元具有第一空气喷射单元和第二空气喷射单元。 第一空气喷射单元形成在把手单元上，以将空气朝向掩模版的上表面喷射。 第二空气喷射单元形成在把手单元上，以朝向掩模版的下表面喷射空气。 夹持单元包括装载臂（100），其中接收有掩模版的下表面，以及从装载臂延伸的机械臂（200）。 第一空气喷射单元具有第一引导孔（310），其形成在装载臂上并将空气引导到掩模版的下表面。 第二空气喷射单元具有第二引导孔（320），其形成在机器人臂上并将空气引导到标线片的上表面。