公开(公告)号：KR1020020076183A

公开(公告)日：2002-10-09

申请号：KR1020020016491

申请日：2002-03-26

Applicant: 토소가부시키가이샤 ,  토소 에스지엠 가부시키가이샤 ,  토소쿼츠 가부시키가이샤

Inventor： 하라다요시노리 ,  미즈타니슈조 ,  하시모토신키치 ,  쿠도마사카즈 ,  미우라나오키 ,  타카하시카츠후미 ,  키요하라히데키

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: PURPOSE: A highly durable quartz glass, its preparation method and apparatus, a quartz glass member, and a semiconductor manufacturing device and a liquid crystal manufacturing device employing the member are provided, wherein the quartz glass is improved in durability, processability and transparency. CONSTITUTION: The quartz glass comprises 0.01-2 wt% of at least element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf and Zr. The quartz glass is prepared by dropping the silica powder containing Zr into the furnace using an acid hydride salt as a heat source, layering it, and extending the layer outward. Also the quartz glass is prepared by passing the powder mixture of a silicate powder and the silica powder containing Zr through the plasma arc-coupling region where at least two plasma arcs are coupled and at least two electrodes have opponent polarity, or its neighborhood, thereby melting the mixture.

Abstract translation: 目的：提供高耐用的石英玻璃及其制备方法和装置，石英玻璃构件和半导体制造装置以及采用该构件的液晶制造装置，其中石英玻璃的耐久性，加工性和透明度得到改善。 构成：石英玻璃含有0.01-2重量％的至少选自Mg，Ca，Sr，Ba，Y，Hf和Zr的元素。 通过使用氢化氢盐作为热源将含有Zr的二氧化硅粉末放入炉内来制备石英玻璃，将其分层并向外延伸。 此外，石英玻璃通过使硅酸盐粉末和含有Zr的二氧化硅粉末的粉末混合物通过等离子体电弧耦合区域而制备，其中至少两个等离子体电弧耦合，并且至少两个电极具有对立的极性或其邻域，由此 熔化混合物。

公开(公告)号：KR100842232B1

公开(公告)日：2008-06-30

申请号：KR1020020016491

申请日：2002-03-26

Applicant: 토소가부시키가이샤 ,  토소 에스지엠 가부시키가이샤 ,  토소쿼츠 가부시키가이샤

Inventor： 하라다요시노리 ,  미즈타니슈조 ,  하시모토신키치 ,  쿠도마사카즈 ,  미우라나오키 ,  타카하시카츠후미 ,  키요하라히데키

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: 할로겐화물 가스 및 그 플라즈마를 이용하는 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치의 부재로서 적절히 사용할 수 있는 내구성이 높은 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 이 부재를 구비한 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치를 제공한다.
Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf 및 Zr로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 원소를 0.047중량% 이상 1.100중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 고(高)내구성 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 장치를 사용한다.
고내구성, 석영글라스, 제조방법, 제조용장치