Abstract:
PURPOSE: A highly durable quartz glass, its preparation method and apparatus, a quartz glass member, and a semiconductor manufacturing device and a liquid crystal manufacturing device employing the member are provided, wherein the quartz glass is improved in durability, processability and transparency. CONSTITUTION: The quartz glass comprises 0.01-2 wt% of at least element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf and Zr. The quartz glass is prepared by dropping the silica powder containing Zr into the furnace using an acid hydride salt as a heat source, layering it, and extending the layer outward. Also the quartz glass is prepared by passing the powder mixture of a silicate powder and the silica powder containing Zr through the plasma arc-coupling region where at least two plasma arcs are coupled and at least two electrodes have opponent polarity, or its neighborhood, thereby melting the mixture.
Abstract:
할로겐화물 가스 및 그 플라즈마를 이용하는 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치의 부재로서 적절히 사용할 수 있는 내구성이 높은 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 이 부재를 구비한 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치를 제공한다. Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf 및 Zr로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 원소를 0.047중량% 이상 1.100중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 고(高)내구성 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 장치를 사용한다. 고내구성, 석영글라스, 제조방법, 제조용장치
Abstract:
제공된도핑된실리카-티타니아유리제품은, (i) 실리카-티타니아계유리, (ⅱ) 불소도펀트, 및 (ⅲ) 제2 도펀트를포함하는유리조성물을갖는유리제품을포함한다. 상기불소도펀트는 5 wt.%까지의불소농도를가지며, 및상기제2 도펀트는 50ppm 내지 6 wt.%의총 산화물농도로 Al, Nb, Ta, B, Na, K, Mg, Ca 및 Li 산화물로이루어진군으로부터선택된하나이상의산화물을포함한다. 더욱이, 상기유리제품은 20℃에서 0.5 ppb/K미만의팽창률기울기를갖는다. 상기제2 도펀트는선택적일수 있다. 상기유리제품의조성물은또한 100ppm 미만의 OH 농도를함유할수 있다.
Abstract:
본 발명은, 회전 대칭성을 가지며, 실리카를 주성분으로 하고, 적어도 외주부분에 기포를 함유하는 기체와, 이 기체의 내표면 상에 형성된, 투명 실리카 유리로 이루어진 내층을 구비하는 실리카 용기의 제조방법으로서, 적어도, 상기 내층을 성형하기 위한 원료분말로서, 입경이 10~1000μm이고, Ca, Sr, Ba을 50~5000wt.ppm의 합계 농도로 함유하고, 진공 하에서 1000℃로 가열했을 때의 수소분자의 방출량이 3×10 16 ~3×10 19 분자/g인 실리카 분말을 준비하고, 이 내층형성용 원료분말인 실리카 분말로부터, 상기 내층을 형성하는 실리카 용기의 제조방법이다. 이에 따라, 고치수정밀도이고, 내벽이 실질적으로 기포를 포함하지 않는 두꺼운 투명 실리카 유리층이면서, 고온에서도 높은 내구성을 갖는 실리카 용기를 저비용으로 제조할 수 있는 실리카 용기 및 그 제조방법, 그리고 이러한 실리카 용기를 제조하기 위한 실리카 분말 및 그 제조방법이 제공된다.
Abstract:
본 발명은, Li, Na, K의 합계 농도가 50wt ppm 이하인 기체형성용 원료분말과, Ca, Sr, Ba를 합계 50~2000wt ppm으로 함유하는 내부층형성용 원료분말을 제작하고, 형틀 내에서 기체의 가성형체를 형성하고, 그 내부표면 상에 내부층의 가성형체를 형성하고, 수소 혹은 헬륨 또는 이들 혼합 가스를 10vol.%를 초과하는 비율로 함유하는 가스 분위기에서, 방전 가열 용융법에 의해 기체와 내부층의 가성형체의 내측으로부터 가열시킴으로써, 기체의 가성형체의 외주부분을 소결체로 함과 동시에, 기체의 가성형체의 내주부분 및 내부층의 가성형체를 용융 유리체로 함으로써, 외주부분에 기포를 함유하는 기체와, 이 기체의 내부표면 상에 형성된, 투명 실리카 유리로 이루어진 내부층을 갖는 실리카 용기를 제조하는 방법이다. 이에 따라, 고 치수정밀도, 고 내열성을 갖는 실리카 용기를 저비용으로 제조 가능한 실리카 용기의 제조 방법 및 이러한 실리카 용기가 제공된다.
Abstract:
A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.
Abstract:
PURPOSE: An ultra-low loss glass having low Rayleigh scattering loss is provided which is excellent as the mother material of a glass fiber for long distance forwarding by doping impurities to a high purity glass. CONSTITUTION: An ultra low loss glass is obtained by doping at least one metallic oxide selected from Na2O, K2O, Li2O, MgO, CaO, PbO of 1- 500 wt, ppm to a high purity glass which loosen the tetrahedron network structure of silica. The resultant glass is used for the optical fiber due to low Rayleigh scattering compared with a pure silica glass.