입자의 표면처리 방법 및 그에 따라 표면처리된 입자를 포함하는 현탁액 조성물
    2.
    发明公开
    입자의 표면처리 방법 및 그에 따라 표면처리된 입자를 포함하는 현탁액 조성물 有权
    表面处理颗粒和悬浮液组合物的方法,包括由此进行表面处理的颗粒

    公开(公告)号:KR1020180000248A

    公开(公告)日:2018-01-02

    申请号:KR1020160078238

    申请日:2016-06-22

    CPC classification number: C09C1/3669 C09C1/3063

    Abstract: 본발명의일 실시예는 (a) 금속입자또는세라믹입자를고리형화합물을포함하는비양성자성용매(aprotic solvent) 중에분산시켜분산액을제조하는단계; 및 (b) 상기분산액, 및산 또는염기을혼합한용액을가열하여상기고리형화합물을개환(ring opening)시키는단계;를포함하는, 입자의표면처리방법및 그에따라표면처리된입자를포함하는현탁액조성물을제공한다.

    Abstract translation: 本发明的一个实施方式是一种制造磁记录介质的方法,其包括以下步骤:(a)将金属颗粒或陶瓷颗粒分散在含有环状化合物的非质子溶剂中以制备分散体; 并且(b)加热通过混合分散体,酸或碱获得的溶液以使环状化合物开环,以及包含如此表面处理的颗粒的悬浮液组合物 Lt。

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