충전제를 포함하는 실리콘 조성물

    公开(公告)号:KR102477726B1

    公开(公告)日:2022-12-15

    申请号:KR1020207010593

    申请日:2017-09-29

    摘要: (A) 오가노폴리실록산, (B) 충전제및 (C) 충전제처리제를포함하며, 상기충전제처리제는일반화학식 I 및화학식 II를갖는 2가지오가노폴리실록산의혼합물을포함하는, 조성물: [화학식 I] R1R2R3Si-[(CH2)n1(Me2SiO)m1]r-[O-(Me2SiO)m3]p-(Me2Si)o(CH2)n2(Me2SiO)m2-(CH2)n3-Si(OR43)3(상기식에서, 'Me'는메틸기이고, R1, R2 및 R3은독립적으로, 1 내지 20개의탄소원자를갖는알킬기, 2 내지 4개의탄소원자를갖는알케닐기, 1 내지 3개의탄소원자를갖는알콕시기 또는 -(OSiR7R8R9)(여기서, R7, R8 및 R9는독립적으로, 1 내지 4개의탄소원자를갖는알킬기로부터선태됨)로부터선택되고, R4는 1 내지 4개의탄소원자를갖는알킬기이고, n1, n2, m1, m3 및 o는 1 내지 200의정수이고, m2, n3, r 및 p는 0 내지 200의정수이고, r 및 p는동시에 0이아님), [화학식 II] (R5O)3Si-[(CH2)n1(Me2SiO)m1]r-(CH2)n4-[O-(Me2SiO)m3]p-(Me2Si)o-(CH2)n2-(Me2SiO)m2-(CH2)n3-Si(OR6)3 (상기식에서, R5 및 R6은 1 내지 4개의탄소원자를갖는알킬기이고, n1, m1, m3, o 및 n2는 1 내지 200의정수이고, n3, n4, m2, r 및 p는 0 내지 200의정수이고, r 및 p는동시에 0이아님).

    수지 비즈의 제조 방법, 수지 비즈, 및 수지 비즈를 사용한 제품

    公开(公告)号:KR102471894B1

    公开(公告)日:2022-11-30

    申请号:KR1020227003817

    申请日:2020-07-07

    摘要: 우수한촉감, 피부에대한퍼짐성, 투명성, 및제품안정성이부여된화장료등의각종제품을제공할수 있는, 석유유래의합성계소재를포함하는수지입자와대체가능한수지비즈의제조방법을제공한다. 셀룰로오스유도체를주성분으로하는수지비즈의제조방법이다. 셀룰로오스유도체및 셀룰로오스유도체를용해하는, 수용해도가 0.1 내지 50.0g인유기용제를함유하는유상과, 분산안정화제를함유하는수상을혼합하고, 셀룰로오스유도체및 유기용제를함유하는유적을포함하는현탁액을조제하는현탁액조제공정과, 현탁액에물을첨가하여유적을수축시키는유적수축공정을갖고, 현탁액중의유기용제의함유량이, 유기용제의수 용해도이하로될 때까지는, 하기식 (A)를충족하도록현탁액에물을첨가한다. (W/S)/T≤1.00 …(A) W: 물의첨가량(질량부) S: 현탁액의양(질량부) T: 첨가시간(분)

    폴리테트라플루오로에틸렌 헥사페라이트 복합재

    公开(公告)号:KR102396967B1

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:KR1020207022310

    申请日:2019-02-14

    摘要: 본원에개시된것은헥사페라이트복합재로서, 헥사페라이트복합재는, 폴리테트라플루오로에틸렌; 및복수의 Co2Z 헥사페라이트입자를포함하는데, 복수의 Co2Z 헥사페라이트입자는무공극기준에서의폴리테트라플루오로에틸렌및 복수의 Co2Z 헥사페라이트입자의총 부피를기준으로 40 vol% 이상, 또는 40 내지 90 vol%로포함되고; 헥사페라이트복합재는헥사페라이트복합재의총 부피를기준으로공극율을 10 vol% 이상가지고; 헥사페라이트복합재는모두 500 MHz에서측정된 2.5 이상의투자율및 0.4 이상의투자율대 유전율의비를가진다.