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    표면 처리 금속 및 이를 위한 금속재의 표면 처리 방법
    1.
    发明公开
    표면 처리 금속 및 이를 위한 금속재의 표면 처리 방법 有权
    金属材料的表面处理金属材料和表面处理方法

    公开(公告)号：KR1020150075765A

    公开(公告)日：2015-07-06

    申请号：KR1020130164047

    申请日：2013-12-26

    申请人： 주식회사 포스코

    发明人： 정현주 ,  김경보 ,  박하선 ,  김무진 ,  김경식 ,  이현영

    IPC分类号： C23C28/00 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34

    CPC分类号： C23C22/62 ,  C23C14/185 ,  C23C22/64 ,  C23C22/73 ,  C23C22/78 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34

    摘要： 본발명은표면처리금속및 이를위한금속재의표면처리방법에관한것이다. 본발명에따른표면처리금속은수산화피막을통하여짧은시간내에다양한색상을균일하게구현할수 있다. 또한, 금속층및 클리어층을순차적으로형성함으로써수산화피막에의해구현된색상의변색없이금속재의내스크래치성및 내구성을향상시킬수 있다는이점이있다.

    摘要翻译： 本发明涉及一种表面处理金属及其金属材料的表面处理方法。 根据本发明，表面处理金属通过氢氧化物膜在短时间内均匀地实现各种颜色。 此外，通过顺序地形成金属和透明层，可以改善金属材料的耐擦伤性和耐久性，而不改变由氢氧化物膜实现的颜色。 表面处理金属包括：金属基体; 形成在所述金属基体的任一表面或两个表面上的氢氧化物膜; 相对于氢氧化物膜形成在金属基体的相对表面上的金属层; 以及在相对于金属层的外侧形成的透明层。

    복합 티탄산화피막과 그 형성방법 및 티탄 전해 콘덴서
    2.
    发明公开
    복합 티탄산화피막과 그 형성방법 및 티탄 전해 콘덴서 无效
    复合氧化钛膜，其形成方法和钛电解电容器

    公开(公告)号：KR1020040063908A

    公开(公告)日：2004-07-14

    申请号：KR1020047005512

    申请日：2002-11-08

    申请人： 도호 티타늄 가부시키가이샤

    发明人： 요시유키아라이

    IPC分类号： C23C22/64

    CPC分类号： H01G9/15 ,  C23C22/64 ,  C23C22/83 ,  H01G9/042

    摘要： 금속티탄상의 표면유도율이 커서 안정된 복합티탄산화피막을 이용한 소형이면서 대용량이고 더 나아가 누설전류가 적은 티탄전해 콘덴서의 제공.
    금속 티탄 기체(基體)표면에 형성된 하기 일반식 M
    x (Tio
    3 )
    y (여기서 M은 리튬, 마그네슘, 칼슘, 스트론티움, 바륨 및 란탄으로부터 선택된 적어도 한 종류의 금속이온이고,
    x 는 Tio
    3 의 원자가와 동등하고,
    y 는 금속이온 M의 원자가와 동등함.)로 표현된 복합 티탄 산화물의 피막이고, 당해 피막의 두께가 5
    m m이고 또한 평균 입자 지름이 5~250nm의 입자로 구성된 복합티탄 산화피막임. 이 복합 티탄 산화피막을 갖는 금속 티탄 기체를 양극으로 사용하는 티탄 전해 콘덴서임.