公开(公告)号：KR1020110107872A

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：KR1020117020126

申请日：2010-01-28

申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

发明人： 조,지안핑

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/41835 ,  G05B2219/32053 ,  G05B2219/32057 ,  G05B2219/32135 ,  G05B2219/32137 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/16 ,  Y02P90/185

摘要： 반도체 제조 설비에서 런-투-런 제어를 위한 컨텍스트 오프셋들을 추정하기 위한 방법 및 시스템이 기재된다. 일 실시예에서, 프로세스와 연관된 컨텍스트들은 식별된다. 프로세스는 하나 이상의 스레드들(thread)을 가지며, 각각의 스레드는 하나 이상의 컨텍스트들을 수반한다. 프로세스를 기술하는 한 세트의 입력-출력 방정식들은 정의된다. 각각의 입력-출력 방정식은 스레드에 대응하고 개별 컨텍스트 오프셋들의 합산으로서 표현된 스레드 오프셋을 포함한다. 상태-공간 모델은 생성되고 입력-출력 방정식들의 세트를 사용하여 프로세스의 에볼루션(evolution)을 기술한다. 상태-공간 모델은 개별 컨텍스트 오프셋들을 추정하게 한다.

摘要翻译： 描述了用于估计半导体制造设施中的运行控制的上下文偏移的方法和系统。 在一个实施例中，识别与过程相关联的上下文。 该进程具有一个或多个线程，每个线程涉及一个或多个上下文。 定义了一组描述该过程的输入 - 输出方程式。 每个输入 - 输出方程对应一个线程，并且包括一个线程偏移量，表示为各个上下文偏移量的总和。 创建状态空间模型，描述使用一组输入 - 输出方程的过程演变。 状态空间模型允许估计各个上下文偏移量。

公开(公告)号：KR1020120012766A

公开(公告)日：2012-02-10

申请号：KR1020110076666

申请日：2011-08-01

申请人： 내셔날 쳉쿵 유니버시티

发明人： 쳉,판티엔 ,  카오,치안 ,  우,웨이밍

IPC分类号： G05B19/418

CPC分类号： G05B13/042 ,  G05B19/41835 ,  G05B2219/32135 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/22

摘要： PURPOSE: An advanced process control system and a method utilizing virtual metrology with a reliance index are provided to overcome problems of manage management delay and the dependence of the VM feedback loop of an R2R control. CONSTITUTION: A processing tool(100) processes a plurality of history workpieces. The processing tool performs a plurality of process runs. An instrumentation tool(110) measures a plurality of sampling workpieces. The instrumentation tool measures a plurality of real measurement values of history measurement data and sampling work pieces. A virtual measurement module supplies a plurality of virtual measurement values of the process runs. A dependence index module generates the dependence index(RI) of the process runs.

摘要翻译： 目的：提供先进的过程控制系统和利用依赖指数的虚拟测量方法，以克服管理延迟管理和R2R控制的VM反馈回路依赖性的问题。 构成：处理工具（100）处理多个历史工件。 处理工具执行多个处理运行。 仪器工具（110）测量多个采样工件。 仪器工具测量历史测量数据和采样工件的多个实际测量值。 虚拟测量模块提供处理运行的多个虚拟测量值。 依赖指数模块生成过程运行的依赖指数（RI）。

公开(公告)号：KR101335896B1

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：KR1020110076666

申请日：2011-08-01

申请人： 내셔날 쳉쿵 유니버시티

发明人： 쳉,판티엔 ,  카오,치안 ,  우,웨이밍

IPC分类号： G05B19/418

CPC分类号： G05B13/042 ,  G05B19/41835 ,  G05B2219/32135 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/22

摘要： 가장 계측(VM)을 APC 안에 병합한 고급 공정 제어(APC) 시스템, APC 방법, 및 실행시 APC 방법을 수행하는 컴퓨터 프로그램 제품이 제공된다. 본 발명은 워크피스의 VM 값이 워크피스의 실제 측정값을 대체하기 위해 채택될 때 런-투-런(R2R) 제어기의 적어도 한 제어 이득을 조정하기 위해 의존 인덱스(RI) 및 전역 유사성 인덱스(GSI)를 이용한다. RI는 VM 값들의 신뢰성을 측정하는데 사용되며, GSI는 상기 가상 VM값을 생성하기 위한 공정 데이터의 상기 집합 및 상기 추측 모델을 만들기 위해 사용되는 이력 공정 데이터의 모든 집합 사이의 유사 정도를 평가하는데 사용된다.

公开(公告)号：KR1020170065448A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：KR1020160160041

申请日：2016-11-29

申请人： 악상스

发明人： 바데장-마르끄 ,  메뜨낭다미앙

IPC分类号： B01J8/00 ,  B01J19/00 ,  C07C11/04 ,  C07C11/08

CPC分类号： C07C2/26 ,  B01J31/00 ,  C07C2/32 ,  C07C2531/14 ,  G05B13/04 ,  G05B2219/32135 ,  G05D7/0617 ,  G05D16/20 ,  G05D23/1917 ,  Y02P20/584 ,  C07C11/08

摘要： 본발명은다변수예측제어기를사용하는, 액체상에서그리고버블포인트에서균질촉매의존재하에에틸렌의올리고머화에의한 1-부텐의생산을위한유닛의제어시스템을서술하며, 더양호한안정성을갖는유닛을제공한다.

摘要翻译： 本发明描述了一种用于通过使用多变量预测控制器在均相催化剂的存在下在液相和泡点处使乙烯低聚来生产1-丁烯的单元的控制系统， Lt。

公开(公告)号：KR101290199B1

公开(公告)日：2013-07-30

申请号：KR1020117020126

申请日：2010-01-28

申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

发明人： 조,지안핑

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/41835 ,  G05B2219/32053 ,  G05B2219/32057 ,  G05B2219/32135 ,  G05B2219/32137 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/16 ,  Y02P90/185

摘要： 반도체 제조 설비에서 런-투-런 제어를 위한 컨텍스트 오프셋들을 추정하기 위한 방법 및 시스템이 기술된다. 일 실시예에서, 프로세스와 연관된 컨텍스트들은 식별된다. 프로세스는 하나 또는 둘 이상의 스레드(thread)들을 가지며, 각각의 스레드는 하나 또는 둘 이상의 컨텍스트들을 포함한다. 프로세스를 기술하는 입력-출력 방정식들의 한 세트가 정의된다. 각각의 입력-출력 방정식은 스레드에 대응하고 개별 컨텍스트 오프셋들의 합산으로서 표현된 스레드 오프셋을 포함한다. 입력-출력 방정식들의 세트를 사용하여 프로세스의 에볼루션(evolution)을 기술하는 상태-공간 모델이 생성된다. 상태-공간 모델은 개별 컨텍스트 오프셋들을 추정하게 한다.

摘要翻译： 描述了用于估计半导体制造设施中的运行控制的上下文偏移的方法和系统。 在一个实施例中，识别与过程相关联的上下文。 该进程具有一个或多个线程，每个线程涉及一个或多个上下文。 定义了一组描述该过程的输入 - 输出方程式。 每个输入 - 输出方程对应一个线程，并且包括一个线程偏移量，表示为各个上下文偏移量的总和。 创建状态空间模型，描述使用一组输入 - 输出方程的过程演变。 状态空间模型允许估计各个上下文偏移量。