公开(公告)号：KR102408253B1

公开(公告)日：2022-06-13

申请号：KR1020140069645

申请日：2014-06-09

IPC: C07D333/28 ,  C07D333/50 ,  C07D307/77 ,  C07D209/48 ,  C07D241/04 ,  C07D495/04 ,  C01B32/182 ,  C01B32/194 ,  C01B32/198

Abstract: 용매에대한그래핀옥사이드의분산성, 그래핀옥사이드의열적특성, 및생성된그래핀의전기전도도를개선할수 있는할로겐치환화합물, 할로겐치환된기능화기를갖는그래핀옥사이드, 및이를이용한그래핀의제조방법이개시된다. 상기할로겐치환화합물은하기화학식 1로표시된다. [화학식 1] (X)p-Ar-E-L 상기화학식 1에서, X는각각독립적으로 F, Cl, Br 또는 I의할로겐원자이고, p는할로겐원자의개수로서 1 내지 5의정수이며, Ar은탄소수 4 내지 30의아릴기또는헤테로아릴기이고, L은그래핀옥사이드와반응할수 있는치환기로서, -NH2, -SH, -OH, 토실기(CH3C6H4SO2-) 또는하이드라진기(-NHNH2)이고, E는 Ar과 L을연결하는연결기로서, (i) 탄소수 1 내지 20 비고리형, 고리형또는헤테로고리형탄화수소기또는 (ii)카보닐기(C=O)를포함하는탄소수 1 내지 20의비고리형탄화수소기이다.

公开(公告)号：KR20210028143A

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：KR20207031475

申请日：2019-04-16

IPC: C07D209/44 ,  A61K31/4035 ,  A61P11/00 ,  A61P17/00 ,  A61P33/00 ,  A61P37/08 ,  C07D209/48 ,  C07D405/06

Abstract: 화학식 (I)의화합물및 이의입체이성체가개시되어있다: [화학식 (I)] JPEGpct00076.jpg4972 상기화학식 (I)에서, R1, R2, R3 및 R4는본 개시내용에정의된바와같다.

公开(公告)号：KR102135550B1

公开(公告)日：2020-07-21

申请号：KR1020197031340

申请日：2012-05-25

Applicant: 키노인 제트알티.

Inventor： 허버시가보르 ,  키시티보르 ,  호르토바지이이렌 ,  커르도시주전너 ,  라슬로피이슈트반 ,  비슈츠호프졸탄 ,  보디시아담

IPC: C07C405/00 ,  C07D207/46 ,  C07D209/48 ,  C07D209/50 ,  C07D233/60 ,  C07D307/935

公开(公告)号：KR101997656B1

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：KR1020160075919

申请日：2016-06-17

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 박종호 ,  이다미 ,  이재용

IPC: C07D405/14 ,  C07D405/12 ,  C07D311/80 ,  C07D209/48 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

公开(公告)号：KR101991753B1

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：KR1020157011404

申请日：2013-10-04

Applicant: 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이.

Inventor： 치옹헨드리치 ,  달리파르티수리아프라카사라오 ,  데스판데하레쉬샴라오 ,  구겐하임토마스린크 ,  쿠리파리드푸아드 ,  쿠마르마헤쉬스리니바스 ,  데카스트로미구엘앤젤나바로 ,  오들로이레이 ,  피.시바쿠마르 ,  에스.두말수닐 ,  스레라마기리시바쿠마르 ,  스미스브렌난알렉산더

IPC: C08G73/10 ,  C08G65/40 ,  C08L79/08 ,  C07D209/48

公开(公告)号：KR101892422B1

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：KR1020187002232

申请日：2016-07-01

Applicant: 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하

Inventor： 스리다르,락스미샤엠. ,  우즈,존쥐.

IPC: C08G73/12 ,  C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C07D403/14 ,  C09J179/04 ,  G02F1/1339

CPC classification number: C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C07D403/14 ,  C08G65/38 ,  C08G73/124 ,  C09J171/12 ,  C09J179/04 ,  G02F1/1339 ,  G02F2001/13415

Abstract: 본발명은경화성신규비스말레이미드수지및 예비중합체, 및제조방법에관한것이다. 특히유용한분야는액정어셈블리에사용되는원 드롭필(one drop fill) 실란트를포함한다. 특히, 본발명에따른중합체및 조성물은 LCD 패널의어셈블리에유용하다.

公开(公告)号：KR101888996B1

公开(公告)日：2018-08-20

申请号：KR1020147013978

申请日：2012-10-26

Applicant: 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이.

Inventor： 쿨만매튜엘. ,  하랄루르구룰링가무르시엠.

IPC: C08G73/10 ,  C08L79/08 ,  C08G65/40 ,  C07D209/48 ,  C08J5/00

CPC classification number: C08G73/1003 ,  C07C63/04 ,  C07C63/22 ,  C07D209/48 ,  C08G65/40 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/1053 ,  C08L79/08 ,  Y10T428/2942 ,  Y10T428/3154

Abstract: 화학식 MO-Z-OM인디하이드록시방향족화합물의알칼리금속염과비스(할로프탈이미드) 조성물의반응으로제조된폴리에테르이미드로서, 여기서, M은알칼리금속염이고, Z는 1 내지 6개의 C알킬기, 1 내지 8개의할로겐원자또는이들의조합으로선택적으로치환된방향족 C단일고리또는다중고리모이어티이며, 상기비스(할로프탈이미드) 조성물은, 상기비스(할로프탈이미드) 조성물의중량을기준으로, 45 초과 75 중량% 미만의 3,3'-비스(할로프탈이미드), 10 중량% 미만의 3,4'-비스(할로프탈이미드), 및 45 초과 75 중량% 미만의 4,4'-비스(할로프탈이미드)를포함하는폴리에테르이미드를개시한다.

公开(公告)号：KR20180012875A

公开(公告)日：2018-02-06

申请号：KR20187002232

申请日：2016-07-01

Applicant: 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하

Inventor： 스리다르,락스미샤엠. ,  우즈,존쥐.

IPC: C08G73/12 ,  C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C07D403/14 ,  C09J179/04 ,  G02F1/1339

CPC classification number: C07D403/14 ,  C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C08G73/124 ,  C09J179/04 ,  G02F1/1339

Abstract: 본발명은경화성신규비스말레이미드수지및 예비중합체, 및제조방법에관한것이다. 특히유용한분야는액정어셈블리에사용되는원 드롭필(one drop fill) 실란트를포함한다. 특히, 본발명에따른중합체및 조성물은 LCD 패널의어셈블리에유용하다.

Abstract translation: 本发明涉及可固化的新型双马来酰亚胺树脂和预聚物，并涉及其制备方法。 一个特别有用的领域包括液晶组件中使用的一滴填充密封剂。 特别地，根据本发明的聚合物和组合物可用于LCD面板的组装。

公开(公告)号：KR1020170132752A

公开(公告)日：2017-12-04

申请号：KR1020177027003

申请日：2016-04-06

Applicant: 유니티카 가부시끼가이샤

Inventor： 후쿠바야시유메토 ,  나카이마코토 ,  시게타아키라 ,  야마다무네노리

IPC: C07D209/48 ,  C08G73/14 ,  C08G73/16

CPC classification number: C07D209/48 ,  B01J19/0013 ,  C07B43/06 ,  C07D403/10

Abstract: 본발명은, 실질적으로용매를이용함이없고, 반응종료후에입상화할필요도없는, 공업적으로유리한비스이미도다이카복실산의제조방법을제공하는것을목적으로한다. 해당목적은, 하기의공정(i), (ii)를포함하는, 트라이카복실산무수물과다이아민으로부터비스이미도다이카복실산을제조하는방법에의해달성된다: 공정(i): 트라이카복실산무수물또는다이아민중, 융점이높은성분을고융점성분, 융점이낮은성분을저융점성분으로했을때에, 고융점성분을고융점성분의융점미만저융점성분의융점이상에서가열하고, 고융점성분이그 고체상태를유지하도록, 고융점성분에저융점성분을첨가하여, 혼합물을얻는공정; 및공정(ii): 공정(i)에서얻어진혼합물을, 그고체상태를유지하도록가열하여, 비스이미도다이카복실산을얻는공정.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种工业上有利的制备基本上不使用溶剂且在反应完成后不需要造粒的双亚氨基二羧酸的方法。 该目的通过由三羧酸酐和二胺制备双亚氨基二羧酸的方法来实现，该方法包括以下步骤（i）和（ii）：步骤（i）：在三羧酸酐或二胺中， 高熔点组分在不高于高熔点组分的熔点和不高于低熔点组分的熔点的温度下加热，使得高熔点组分处于固态 将低熔点组分加入到高熔点组分中以获得混合物; 步骤（ii）：加热步骤（i）中获得的混合物以保持其固态以获得双亚氨基二羧酸的步骤。

公开(公告)号：KR1020160149168A

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：KR1020160075919

申请日：2016-06-17

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 박종호 ,  이다미 ,  이재용

IPC: C07D405/14 ,  C07D405/12 ,  C07D311/80 ,  C07D209/48 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC classification number: C09B11/24 ,  C07D405/14 ,  C07D209/48 ,  C07D311/80 ,  C07D405/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 본명세서에는신규한구조의잔텐계화합물및 이를포함하는감광성수지조성물, 이를이용하여제조된감광재, 컬러필터및 표시소자가제공된다.

Abstract translation: 在本说明书中提供了具有新颖结构的呫吨类化合物和包含其的感光树脂组合物，以及感光材料，滤色器和使用其制造的显示元件。