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    (티오)카르바모일-시클로헥산 유도체의 대사물질
    2.
    发明公开
    (티오)카르바모일-시클로헥산 유도체의 대사물질 无效
    （THIO）羧甲基环己烷衍生物的代谢物

    公开(公告)号：KR1020100028021A

    公开(公告)日：2010-03-11

    申请号：KR1020097022189

    申请日：2008-05-15

    Applicant: 리히터 게데온 닐트.

    Inventor： 아게네손거,에바 ,  커슈너,노르베르트,안탈 ,  슈미트에바 ,  기엘티안이스트반 ,  키스벨라

    IPC: C07D295/24 ,  C07D295/155 ,  A61K31/495 ,  A61P25/00

    Abstract: The present invention relates to metabolites of(thio)-carbamoyl cyclohexane derivatives, particularly, metabolites of trans-4-{2-[4-(2,3-dichlorophenyl)-piperazin-1-yl]- ethyl}-N,N-dimemylcarbamoyl-cyclohexylamine and pharmaceutically acceptable salts thereof, to pharmaceutical compositions containing the same and to their use in the treatment and/or prevention of a conditions which requires modulation of dopamine receptors.

    Abstract translation: 本发明涉及（硫代） - 氨基甲酰基环己烷衍生物的代谢物，特别是反式-4- {2- [4-（2,3-二氯苯基） - 哌嗪-1-基] - 乙基} -N，N - 二甲酰氨基甲酰基 - 环己胺及其药学上可接受的盐，用于含有该组合物的药物组合物及其在治疗和/或预防需要调节多巴胺受体的病症中的用途。

    포토레지스트 조성물
    3.
    发明授权
    포토레지스트 조성물 有权
    光电组合物

    公开(公告)号：KR101712683B1

    公开(公告)日：2017-03-06

    申请号：KR1020117024850

    申请日：2010-03-17

    Applicant: 바스프 에스이

    Inventor： 구라,히사또시 ,  사메시마,가오리 ,  구니모또,가즈히꼬 ,  네스바드바,페터 ,  오와,마사끼

    IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  C08F265/02 ,  C07D295/24

    CPC classification number: G03F7/028 ,  C07D211/94 ,  C07D491/113 ,  C08F110/02 ,  C08F110/06 ,  C08F265/02 ,  C08K5/3435 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/40 ,  C08L33/06

    Abstract: 본발명은컬러필터를제조하는데사용되는히드록실아민에스테르를포함하는라디칼중합성조성물에관한것이다. 본발명은또한신규히드록실아민에스테르에관한것이다. 본발명은또한후-베이킹을요구하는모든액정디스플레이요소에서의히드록실아민에스테르의용도에관한것이다. 본발명은 (a) 하나이상의알칼리현상성수지; (b) 하나이상의아크릴레이트단량체; (c) 하나이상의광개시제; (d) 화학식 I의하나이상의히드록실아민에스테르화합물을포함하는라디칼중합성조성물에관한것이다: 상기식에서, R는아실라디칼을나타내고; R및 R중하나는수소를나타내고다른하나는치환기를나타내거나; R및 R는둘 다수소또는동일하거나상이한치환기를나타내거나; R및 R는함께산소를나타내거나; R및 R는함께고리를형성하고; R내지 R는각각 C-C알킬을나타내고; R및 R은각각서로독립적으로수소, C-C알킬또는 C-C아릴을나타내거나; 또는 R및 R은함께산소를나타낸다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种可自由基聚合的组合物，其包含用于制造滤色器的羟胺酯。 本发明还涉及新的羟胺酯。 本发明还涉及在需要后烘烤的所有液晶显示组件中使用羟胺酯。 本发明涉及可自由基聚合的组合物，其包含：（a）至少一种碱性显影树脂; （b）至少一种丙烯酸酯单体; （c）至少一种光引发剂; （d）至少一种式（I）的羟胺酯化合物，其中R a表示酰基; Rb和Rc之一表示氢，另一个表示取代基; 或Rb和Rc都表示氢或相同或不同的取代基; 或Rb和Rc一起代表氧; 或Rb和Rc一起形成环; R1-R4各自表示C1-C6烷基; R 5和R 6各自独立地表示氢，C 1 -C 6烷基或C 6 -C 10芳基; 或R5和R6一起表示氧。

    포토레지스트 조성물
    6.
    发明公开
    포토레지스트 조성물 有权
    光电组合物

    公开(公告)号：KR1020120022800A

    公开(公告)日：2012-03-12

    申请号：KR1020117024850

    申请日：2010-03-17

    Applicant: 바스프 에스이

    Inventor： 구라,히사또시 ,  사메시마,가오리 ,  구니모또,가즈히꼬 ,  네스바드바,페터 ,  오와,마사끼

    IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  C08F265/02 ,  C07D295/24

    CPC classification number: G03F7/028 ,  C07D211/94 ,  C07D491/113 ,  C08F110/02 ,  C08F110/06 ,  C08F265/02 ,  C08K5/3435 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  C08L33/06

    Abstract: 본 발명은 컬러 필터를 제조하는데 사용되는 히드록실아민 에스테르를 포함하는 라디칼 중합성 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 신규 히드록실아민 에스테르에 관한 것이다. 본 발명은 또한 후-베이킹을 요구하는 모든 액정 디스플레이 요소에서의 히드록실아민 에스테르의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 하나 이상의 알칼리 현상성 수지; (b) 하나 이상의 아크릴레이트 단량체; (c) 하나 이상의 광개시제; (d) 화학식 I의 하나 이상의 히드록실아민 에스테르 화합물을 포함하는 라디칼 중합성 조성물에 관한 것이다:


    상기 식에서, R
    a 는 아실 라디칼을 나타내고; R
    b 및 R
    c 중 하나는 수소를 나타내고 다른 하나는 치환기를 나타내거나; R
    b 및 R
    c 는 둘 다 수소 또는 동일하거나 상이한 치환기를 나타내거나; R
    b 및 R
    c 는 함께 산소를 나타내거나; R
    b 및 R
    c 는 함께 고리를 형성하고; R
    1 내지 R
    4 는 각각 C
    1 -C
    6 알킬을 나타내고; R
    5 및 R
    6 은 각각 서로 독립적으로 수소, C
    1 -C
    6 알킬 또는 C
    6 -C
    10 아릴을 나타내거나; 또는 R
    5 및 R
    6 은 함께 산소를 나타낸다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种可自由基聚合的组合物，其包含用于制造滤色器的羟胺酯。 本发明还涉及新的羟胺酯。 本发明还涉及在需要后烘烤的所有液晶显示组件中使用羟胺酯。 本发明涉及可自由基聚合的组合物，其包含：（a）至少一种碱性显影树脂; （b）至少一种丙烯酸酯单体; （c）至少一种光引发剂; （d）至少一种式（I）的羟胺酯化合物，其中R a表示酰基; Rb和Rc之一表示氢，另一个表示取代基; 或Rb和Rc都表示氢或相同或不同的取代基; 或Rb和Rc一起代表氧; 或Rb和Rc一起形成环; R1-R4各自表示C1-C6烷基; R 5和R 6各自独立地表示氢，C 1 -C 6烷基或C 6 -C 10芳基; 或R5和R6一起表示氧。

    피페라진 N-옥사이드 유도체
    7.
    发明公开
    피페라진 N-옥사이드 유도체 失效
    哌嗪N-氧化物衍生物

    公开(公告)号：KR1019980076946A

    公开(公告)日：1998-11-16

    申请号：KR1019970013862

    申请日：1997-04-15

    Applicant: 삼진제약주식회사

    Inventor： 조의환 ,  정순간 ,  김중영 ,  권호석 ,  이순환 ,  이재웅 ,  주정호 ,  강동욱 ,  이영희

    IPC: C07D295/24 ,  C07D401/12

    Abstract: 본 발명은 다음 일반구조식 (I)로 표시되는 신규 피페라진 N-옥사이드 유도체 및 그 제조방법에 관한 것이다.

    상기식에서 R
    1 , R
    2 , R
    3 , R
    4 , R
    5 ,는 각각 수소원자, 할로갠원자, 히드록시기, 니토로기, C
    1 -C
    4 의 저급에스테르기, C
    1 -C
    4 의 저급알킬기, C
    1 -C
    4 의 저급티오알킬기, C
    1 -C
    4 의 저급알콕시, C
    1 -C
    4 의 저급티오알콕시기, 아릴기, 아릴알콕시, 불포화아민기, C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기, 알릴기이며, Y는

    (여기서, C
    6 , C
    7 는 각각 수소원자, C
    1 -C
    8 의 알킬기, C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기, 불포화 알킬기, 케톤기, 치환된 알킬, 알릴하이드록시기, 치환된 카바메이트기, 우레아기 또는 티오우레아기이다.)이고, W는 수소원자 C
    1 -C
    8 의 알킬기, 및 C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기이며, X는 산소원자, 유황원자이며, 치환된 이민기이다. 본 발명에 따른 상기 일반구조식 (I)의 화합물은 탁월한 항암 효과를 나타내며, 독성이 극히 적어 새로운 항암제로서 크게 기대된다.

    프로드럭으로서 피페라진 및 피페리딘 유도체의 Ｎ-산화물
    9.
    发明公开
    프로드럭으로서 피페라진 및 피페리딘 유도체의 Ｎ-산화물 无效
    N-氧化物作为哌嗪和哌啶衍生物的制剂

    公开(公告)号：KR1020080046205A

    公开(公告)日：2008-05-26

    申请号：KR1020087006996

    申请日：2006-08-21

    Applicant: 애보트 헬스케어 프로덕츠 비.브이.

    Inventor： 쿠프만테오도러스에스.엠. ,  코스터헨드릭제이. ,  반암스테르담페터에이치. ,  핀스트라로엘로프더블유. ,  베르하게마리누스 ,  맥크레아리앤드류씨. ,  헤쎄링크마이케비. ,  반샬렌버그구스타프제이.엠.

    IPC: C07D263/58 ,  C07D295/24 ,  A61K31/423 ,  A61P25/00

    CPC classification number: C07D263/58

    Abstract: The present invention relates to N-oxides of certain piperazine and piperidine derivatives and to methods for the preparation of these compounds. The invention also relates to the use of compounds disclosed herein for the manufacture of a medicament giving a beneficial effect. A beneficial effect is disclosed herein or apparent to a person skilled in the art from the specification and general knowledge in the art. The invention also relates to the use of a compound of the invention for the manufacture of a medicament for treating or preventing a disease or condition. More particularly, the invention relates to a new use for the treatment of a disease or condition disclosed herein or apparent to a person skilled in the art from the specification and general knowledge in the art. In embodiments of the invention specific compounds disclosed herein are used for the manufacture of a medicament useful in the treatment of CNS-disorders, in particular the treatment of anxiety disorders, including generalized anxiety disorder and panic disorder, obsessive compulsive disorder, aggression, addiction (including craving), depression, autism, vertigo, schizophrenia and other psychotic disorders, Parkinson's disease and disturbances of cognition and memory. The compounds have the general formula (1) wherein the symbols have the meanings given in the specification.

    Abstract translation: 本发明涉及某些哌嗪和哌啶衍生物的N-氧化物及其制备方法。 本发明还涉及本文公开的化合物在制备产生有益效果的药物中的用途。 本领域技术人员从本领域的说明书和一般知识中可以公开有益效果或显而易见的。 本发明还涉及本发明化合物在制备用于治疗或预防疾病或病症的药物中的用途。 更具体地，本发明涉及本领域技术人员从本领域技术人员的说明书和一般知识中治疗本文公开的疾病或病症的新用途。 在本发明的实施方案中，本文公开的具体化合物用于制备用于治疗中枢神经系统疾病的药物，特别是治疗焦虑症，包括广泛性焦虑障碍和惊恐障碍，强迫症，侵略，成瘾（ 包括渴望），抑郁症，自闭症，眩晕，精神分裂症等精神障碍，帕金森氏病和认知和记忆障碍。 化合物具有通式（1），其中符号具有说明书中给出的含义。

    피페라진 N-옥사이드 유도체
    10.
    发明授权
    피페라진 N-옥사이드 유도체 失效
    哌嗪N-氧化物衍生物

    公开(公告)号：KR100222106B1

    公开(公告)日：1999-10-01

    申请号：KR1019970013862

    申请日：1997-04-15

    Applicant: 삼진제약주식회사

    Inventor： 조의환 ,  정순간 ,  김중영 ,  권호석 ,  이순환 ,  이재웅 ,  주정호 ,  강동욱 ,  이영희

    IPC: C07D295/24 ,  C07D401/12

    Abstract: 본 발명은 다음 일반구조식(Ⅰ)로 표시되는 신규 피페라진 N-옥사이드 유도체 및 그 제조방법에 관한 것이다.

    상기식에서 R
    1 , R
    2 , R
    3 , R
    4 , R
    5 ,는 각각 수소원자, 할로겐원자, 히드록시기, 니토로기, C
    1 -C
    4 의 저급에스테르기, C
    1 -C
    4 의 저급알킬기, C
    1 -C
    4 의 저급티오알킬기, C
    1 -C
    4 의 저급알콕시, C
    1 -C
    4 의 저급티오알콕시기, 아릴기, 아릴알콕시, 불포화아민기, C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기, 알릴기이며, Y는

    (여기서, R
    6 , R
    7 는 각각 수소원자, C
    1 -C
    8 의 알킬기, C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기, 불포화 알킬기, 케톤기, 치환된 알킬, 알릴하이드록시기, 치환된 카바메이트기, 우레아기 또는 티오우레아기이다.)이고, W는 수소원자, C
    1 -C
    8 의 알킬기, 및 C
    3 -C
    8 의 치환 또는 비치환 사이클릭 알킬기이며, X는 산소원자, 유황원자이며, 치환된 이민기이다. 본 발명에 따른 상기 일반구조식(Ⅰ)의 화합물은 탁월한 항암 효과를 나타내며, 독성이 극히 적어 새로운 항암제로서 크게 기대된다.

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