公开(公告)号：KR102283710B1

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：KR1020207006063

申请日：2018-08-09

IPC分类号： C08L61/00 ,  C08L61/06 ,  C08L71/14 ,  C08L71/12 ,  C08G8/06 ,  C08G8/10 ,  C08G65/36 ,  C08G65/48 ,  C08K5/098 ,  C08K5/54 ,  C08K5/00 ,  C08J3/09 ,  B29C64/165 ,  B33Y70/00 ,  B33Y10/00

摘要： 30%-75% 질량분율의선형열가소성페놀수지와 25%-70% 질량분율의페놀변성푸란수지를포함하는적층제조용자경화유기합성수지혼합물을제공한다. 제조방법은 3단계로나뉘고제1 단계에서선형열가소성페놀수지를제조하는단계이고, 제2 단계는페놀변성푸란수지제조단계이고, 제3 단계는선형열가소성페놀수지와페놀변성푸란수지를일정한비율로혼합하고최종적으로적층제조용자경화유기합성수지혼합물을얻는다. 자경화유기합성수지혼합물은상온에서강도가높고내고온성능이우수하며활성이높고, 가축성능이우수한등 장점이있어적층제조용업계에적합하고특히 3D 프린팅통해주조용주형을생산하는데적합하다.

公开(公告)号：KR1020040062678A

公开(公告)日：2004-07-07

申请号：KR1020047009107

申请日：1999-03-05

申请人： 헥시온 인코포레이티드

发明人： 저버,아서,에이치.

IPC分类号： C08F6/10 ,  C08G8/08 ,  C08G8/06 ,  C08F8/00

CPC分类号： C08L61/06 ,  C08G8/04 ,  C08G14/04 ,  C08G14/12 ,  C08G59/08 ,  C08L61/14 ,  C08L63/00 ,  H05K1/0266 ,  H05K1/0269 ,  H05K1/0326 ,  H05K1/0373 ,  H05K3/285 ,  C08L2666/22 ,  C08L61/04

摘要： 본 발명은 UV 흡광도가 높은 형광성 폴리페놀계 생성물의 제조방법, 이의 에폭시화 및 폴리페놀계 생성물 및 에폭시화된 유도체 및 이들의 조성물에 관한 것이다. 상기 폴리페놀계 생성물은 약 170℃의 온도에서 반응 혼합물로부터 제거되는 산 촉매의 존재하에 몰과량의 페놀과 함께 약 80℃ 내지 약 100℃의 온도에서 글리옥살을 가열함으로써 제조된다. 반응 혼합물에 충전된 글리옥살 대 페놀의 전체 몰비는 페놀의 몰에 대하여 약 0.15 내지 0.22몰의 글리옥살이다. 상기 글리옥살은 페놀에 연속적으로 또는 단계적으로 첨가되어 폴리페놀을 제조하기 위해 충전되는 글리옥살 전체량의 알데히드 단위의 약 70% 미만으로 반응 혼합물중의 알데히드 단위를 유지시킨다. 물은 반응 혼합물로부터 단계적으로 또는 연속적으로 제거된다. 촉매는 일반적으로 고온에서 반응 혼합물을 추가로 증류시킴으로써 반응 혼합물로부터 제거된다.

公开(公告)号：KR100517221B1

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：KR1020047009107

申请日：1999-03-05

申请人： 헥시온 인코포레이티드

发明人： 저버,아서,에이치.

IPC分类号： C08F6/10 ,  C08G8/08 ,  C08G8/06 ,  C08F8/00

CPC分类号： C08L61/06 ,  C08G8/04 ,  C08G14/04 ,  C08G14/12 ,  C08G59/08 ,  C08L61/14 ,  C08L63/00 ,  H05K1/0266 ,  H05K1/0269 ,  H05K1/0326 ,  H05K1/0373 ,  H05K3/285 ,  C08L2666/22 ,  C08L61/04

摘要： The specification discloses a method for the manufacture of a fluorescent polyphenolic product with high UV absorbance, its subsequent epoxidation as well as polyphenolic products and epoxidized derivatives and compositions thereof. The polyphenolic products are prepared by heating glyoxal at a temperature of about 80 DEG C. to about 100 DEG C. with a molar excess of a phenol in the presence of an acidic catalyst which is eliminated from the reaction mixture at a temperature below about 170 DEG C. The total mole ratio of glyoxal to phenol charged to the reaction mixture is about 0.15 to 0.22 moles of glyoxal for each mole of phenol. The glyoxal is added continuously or by stepwise additions to the phenol so as to keep the aldehyde units in the reaction mixture to less than about 70% of the aldehyde units in the total quantity of glyoxal to be charged for making the polyphenol. Water is distilled stepwise or continuously from the reaction mixture. The catalyst is removed from the reaction mixture by further distilling the reaction mixture, generally at higher temperatures. After removal of the catalyst, unreacted phenol is removed by distillation and the reaction mixture is heated at a temperature of about 175 DEG C. to 200 DEG C. for about 0.25 hours to about 3 hours to produce a polyphenolic reaction product having high fluorescence, high UV absorbance and high solubility in organic solvents. The polyphenolic reaction product can be epoxidized by conventional means and such epoxy products used in the manufacture of laminates, coatings and adhesives.

公开(公告)号：KR101854775B1

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：KR1020160084162

申请日：2016-07-04

申请人： 인하대학교 산학협력단

发明人： 권용구 ,  이경선

IPC分类号： C01B31/30 ,  C08K3/36 ,  C08G8/06 ,  B01J20/20 ,  B01D53/04 ,  B01D53/62

CPC分类号： Y02C10/04 ,  Y02C10/08 ,  Y02P20/152

摘要： 본발명은알킬기가긴 계면활성제를이용하여포어의사이즈가큰 할로우메조포러스실리카입자를제조하는단계; 상기할로우메조포러스실리카입자를용매존재하에서미네랄애시드를이용하여내부를약한산성으로개질시켜미네랄애시드를포함한메조포러스할로우실리카입자를제조하는단계; 상기미네랄애시드를포함한메조포러스할로우실리카입자에카본물질전구체를입자내부로침지시켜고분자화시켜실라카입자-고분자혼성전구체를제조하는단계; 및상기실리카입자-고분자혼성전구체에탄화조건하에서고분자를탄화시킨후, 실리카주형을용매로제거하는단계를포함하는것을특징으로하는메조포러스카본입자의제조방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020180004518A

公开(公告)日：2018-01-12

申请号：KR1020160084162

申请日：2016-07-04

申请人： 인하대학교 산학협력단

发明人： 권용구 ,  이경선

IPC分类号： C01B31/30 ,  C08K3/36 ,  C08G8/06 ,  B01J20/20 ,  B01D53/04 ,  B01D53/62

CPC分类号： Y02C10/04 ,  Y02C10/08 ,  Y02P20/152 ,  C01B32/90 ,  B01D53/04 ,  B01D53/62 ,  B01J20/205 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/16 ,  C08G8/06 ,  C08K3/36

摘要： 본발명은알킬기가긴 계면활성제를이용하여포어의사이즈가큰 할로우메조포러스실리카입자를제조하는단계; 상기할로우메조포러스실리카입자를용매존재하에서미네랄애시드를이용하여내부를약한산성으로개질시켜미네랄애시드를포함한메조포러스할로우실리카입자를제조하는단계; 상기미네랄애시드를포함한메조포러스할로우실리카입자에카본물질전구체를입자내부로침지시켜고분자화시켜실라카입자-고분자혼성전구체를제조하는단계; 및상기실리카입자-고분자혼성전구체에탄화조건하에서고분자를탄화시킨후, 실리카주형을용매로제거하는단계를포함하는것을특징으로하는메조포러스카본입자의제조방법에관한것이다.

摘要翻译： 本发明涉及通过使用具有烷基的表面活性剂来制造具有大孔径的中空介孔二氧化硅颗粒的方法， 使用无机酸在溶剂的存在下将中空介孔二氧化硅颗粒改性为弱酸性状态以制备含有无机酸的介孔中空二氧化硅颗粒; 通过将碳材料前体浸入到含有无机酸的中空中空二氧化硅颗粒中以使颗粒聚合，从而制备硅烷颗粒 - 聚合物混合物前体; 以及在碳化条件下使二氧化硅颗粒 - 聚合物混合物前体中的聚合物碳化，然后用溶剂除去二氧化硅模板的步骤。