코팅, 코팅 형성 방법 및 시스템, 냄비 및 조리 장치

    公开(公告)号:KR102482711B1

    公开(公告)日:2022-12-28

    申请号:KR1020207035975

    申请日:2019-03-01

    摘要: 본발명은코팅, 코팅형성방법및 시스템, 냄비및 조리장치를제공한다. 상기코팅은아래에서위로순차적으로적층설치되며준결정재료를포함하는복수의하위코팅을포함하며, 적어도하나의상기하위코팅의상기준결정재료의입자크기는그 윗측의적어도하나의상기하위코팅의상기준결정재료의입자크기보다크다. 본발명자는해당코팅에서먼저상기코팅의하층에입자의입자크기가비교적큰 준결정재료를형성하고, 계속하여상기코팅의상층에입자의입자크기가비교적작은준결정재료를형성하면해당코팅의비점착성이우수하고비용이저렴하며제조공정이간단하고산업화가용이하며특히조리장치에적합하다는사실을발견하였다.

    가스 터빈용 독립형 세라믹 시일

    公开(公告)号:KR102395009B1

    公开(公告)日:2022-05-04

    申请号:KR1020207003619

    申请日:2017-07-18

    摘要: 다양한실시예는가스터빈시일및 그러한시일을형성하는방법을포함한다. 시일을형성하는방법은, 세라믹층을형성하기위해세라믹재료를기재상에적용하고, 세라믹층으로부터기재를제거하고, 그리고독립형세라믹시일을형성하도록세라믹층을마무리함으로써, 가스터빈내의밀봉을위한독립형세라믹시일을형성하는단계를포함한다. 본방법은세라믹재료의입자를기재의표면상에용융또는증기상태중 하나로침착하는단계및 세라믹층을형성하도록세라믹재료를담금질하는단계를포함한다. 세라믹재료는 t' 정방정계구조를갖는이트리아안정화지르코니아를포함한다. 독립형세라믹시일을포함하는가스터빈이추가로개시된다.

    용사코팅 방법 및 그 장치

    公开(公告)号:KR1020210091007A

    公开(公告)日:2021-07-21

    申请号:KR1020200004493

    申请日:2020-01-13

    摘要: 다양한실시예들은용사코팅방법에관한것으로, 상기방법은알루미늄모재상에강자성의금속코팅층을형성하는용사코팅방법에있어서, 상기코팅층을형성할상기모재의일면을준비하는단계; 상기모재의타면을가열하여상기모재를소정의온도에도달시키는단계; 및상기소정의온도로유지되는상기모재의일면에상기강자성의금속코팅층을형성하는단계를포함할수 있다. 그밖의다양한실시예들이가능하다.

    구조화된 재료를 제조하기 위한 시스템 및 방법

    公开(公告)号:KR20210018525A

    公开(公告)日:2021-02-17

    申请号:KR20217003593

    申请日:2012-06-29

    摘要: 금속재료, 및절연재료의공급원으로부터절연된경계들을갖는벌크재료를형성시키기위한시스템이제공된다. 본시스템은가열장비, 침적장비, 코팅장비, 및벌크재료를지지하도록구성된지지체를포함한다. 가열장비는연화되거나용융된상태를갖는입자들을형성시키기위해금속재료를가열시키며, 코팅장비는금속재료를공급원으로부터의절연재료로코팅시키며, 침적장비는절연된경계들을갖는벌크재료를형성시키기위해지지체상에금속재료의입자들을연화되거나용융된상태로침적시킨다.

    아크 코팅공정에서의 파티클 감소방법 및 이에 의한 코팅층을 갖는 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치

    公开(公告)号:KR20210011532A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:KR20190088246

    申请日:2019-07-22

    发明人: 이명우 김형수

    摘要: 본발명은아크코팅공정에서의파티클감소방법및 이에의한코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치에관한것으로서, 알루미늄와이어를사용하여아크코팅을수행함으로써알루미늄또는스테인리스소재의모재에알루미늄아크코팅층을형성시킨제품에대해이를화학적폴리싱처리액에침지시킴으로써알루미늄아크코팅층의표면부를용해시켜폴리싱처리하되 60~100℃의온도에서 15초내지 3분동안처리하는화학적폴리싱단계;를포함하고, 상기화학적폴리싱처리액은인산류, 질산류또는황산류, 아세트산류를용매인물에첨가하여혼합한조성으로이루어지며; 상기인산류는인산(H3PO4) 또는인산염이고, 상기질산류는질산(HNO3) 또는질산염이고, 상기황산류는황산(H2SO4) 또는황산염이고, 상기아세트산류는아세트산(CH3COOH) 또는아세트산에과산화수소를혼합한조성을갖게하는아크코팅공정에서의파티클감소방법및 이에의한코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치를특징으로한다. 본발명에따르면, 화학적폴리싱처리액을이용한화학적폴리싱처리를통해아크코팅공정시알루미늄아크코팅층상에발생하는아크분진및 파티클을용이하게제거할수 있고, 알루미늄아크코팅층이갖는표면거칠기를감소시키면서표면평활도를갖게할 수있으며, 모재및 이에형성시킨알루미늄아크코팅층측 물성에는표면처리전후간에변화가발생되지않게처리할수 있으며, 스퍼터링시증착효율을향상시킬수 있는반도체제조공정의스퍼터링장치를제공할수 있다.

    내환경 배리어층의 형성방법

    公开(公告)号:KR102203857B1

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:KR1020180170953

    申请日:2018-12-27

    发明人: 이기성 서형일

    IPC分类号: C23C4/18 C23C4/11 C23C4/02

    摘要: 본발명의일 실시예는, 모재상에실리케이트파우더를포함하는내환경배리어층형성용조성물을코팅하여코팅층을형성하는단계; 및상기코팅층을후처리하여상기내환경배리어층을형성하는후처리단계;를포함하고, 상기후처리단계는, 상기코팅층을 1350℃내지 1500℃까지가열하는가열단계와실온까지냉각시키는냉각단계를 3000회내지 5000회반복하는내환경배리어층의형성방법을개시한다.