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    使用矽氧烷共沸物之二步驟清潔或脫水
    32.
    发明专利
    使用矽氧烷共沸物之二步驟清潔或脫水 失效
    使用硅氧烷共沸物之二步骤清洁或脱水

    公开(公告)号：TW364017B

    公开(公告)日：1999-07-11

    申请号：TW083110026

    申请日：1994-10-29

    申请人： 道康寧公司

    发明人： 垂特.愛德華.威廉斯 ,  雪兒.安.馬可麥可

    IPC分类号： C11D

    CPC分类号： C11D7/261 ,  B01D12/00 ,  C11D3/43 ,  C11D7/263 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5031

    摘要： 說明一種表面清潔或脫水之方法，其中應用於表面的洗滌組合物包含如六甲基二矽氧烷或八甲基三矽氧烷之類的揮發性甲基矽氧烷及增強清潔或脫水之試劑，如乙二醇醚或表面活化劑。在以洗滌組合物使表面還是濕的時候，以含有六甲基二矽氧烷或八甲基三矽氧烷及2-戊醇，2-甲基-1-戊醇，3-甲基-3-戊醇，1-甲氧基-2-丙醇，1-丁氧基-2-丙醇，1-己醇，正丙氧基丙醇或乳酸乙酯的共沸物沖洗表面。接著弄乾表面或准許弄乾表面。

    简体摘要： 说明一种表面清洁或脱水之方法，其中应用于表面的洗涤组合物包含如六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷之类的挥发性甲基硅氧烷及增强清洁或脱水之试剂，如乙二醇醚或表面活化剂。在以洗涤组合物使表面还是湿的时候，以含有六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷及2-戊醇，2-甲基-1-戊醇，3-甲基-3-戊醇，1-甲氧基-2-丙醇，1-丁氧基-2-丙醇，1-己醇，正丙氧基丙醇或乳酸乙酯的共沸物冲洗表面。接着弄干表面或准许弄干表面。

    奈米電子及微電子清潔組合物 NANOELECTRONIC AND MICROELECTRONIC CLEANING COMPOSITIONS
    37.
    发明专利
    奈米電子及微電子清潔組合物 NANOELECTRONIC AND MICROELECTRONIC CLEANING COMPOSITIONS 有权
    奈米电子及微电子清洁组合物 NANOELECTRONIC AND MICROELECTRONIC CLEANING COMPOSITIONS

    公开(公告)号：TWI379174B

    公开(公告)日：2012-12-11

    申请号：TW094106074

    申请日：2005-03-01

    申请人： 艾萬拓股份有限公司

    发明人： 千萍 沙曼 許

    IPC分类号： G03F

    CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/3947 ,  C11D3/3956 ,  C11D7/22 ,  C11D7/261 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5004 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

    摘要： 本發明係關於提供用於在超臨界流體狀態條件下清潔奈米電子及微電子基材之奈米電子及微電子清潔組合物，特別是可用於且與奈米電子及微電子基材具有改良相容性之清潔組合物，其特徵為二氧化矽、敏感性低－κ或高－κ介電體、及銅、鎢、鉭、鎳、金、鈷、鈀、鉑、鉻、釕、銠、銥、鉿、鈦、鉬、錫、與其他金屬化，及Al或Al(Cu)金屬化基板，及先進互連技術，其包含：(1)一種在250℃或更低之溫度及600巴(592.2 atm, 8702.3 psi)或更低之壓力達到超臨界流體狀態之超臨界主流體，及(2)一種選自以下調配物之調節劑調配物作為第二流體：a)一種調配物，其包含：氧化劑；選自醯胺、碸、環丁烯碸、硒碸、與飽和醇組成之群組之極性有機溶劑；以及視情況其他成分；b)一種無矽酸鹽調配物，其包含：選自醯胺、碸、硒碸、與飽和醇組成之群組之極性有機溶劑；強鹼性鹼；以及視情況其他成分；c)一種調配物，其包含：約0.05%至30%重量比之一或多種含不產生銨之強鹼，其包含非親核性、帶正電抗衡離子；約0.5至約99.95%重量比之一或多種腐蝕抑制溶劑化合物，該腐蝕抑制溶劑化合物具有至少兩個可與金屬錯合之位置；以及視情況其他成分；d)一種調配物，其包含：約0.05至20%重量比之一或多種非銨產生、非HF產生氟化物鹽；約5至約99.95%重量比之水、有機溶劑、或水與有機溶劑；視情況地及其他成分；及e)一種調配物，其包含：約0.05%至30%重量比之一或多種含非銨產生強鹼、非親核性、帶正電抗衡離子；約5至約99.95%重量比之一或多種位阻醯胺溶劑；視情況地及其他成分。

    简体摘要： 本发明系关于提供用于在超临界流体状态条件下清洁奈米电子及微电子基材之奈米电子及微电子清洁组合物，特别是可用于且与奈米电子及微电子基材具有改良兼容性之清洁组合物，其特征为二氧化硅、敏感性低－κ或高－κ介电体、及铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡、与其他金属化，及Al或Al(Cu)金属化基板，及雪铁龙互连技术，其包含：(1)一种在250℃或更低之温度及600巴(592.2 atm, 8702.3 psi)或更低之压力达到超临界流体状态之超临界主流体，及(2)一种选自以下调配物之调节剂调配物作为第二流体：a)一种调配物，其包含：氧化剂；选自酰胺、砜、环丁烯砜、硒砜、与饱和醇组成之群组之极性有机溶剂；以及视情况其他成分；b)一种无硅酸盐调配物，其包含：选自酰胺、砜、硒砜、与饱和醇组成之群组之极性有机溶剂；强碱性碱；以及视情况其他成分；c)一种调配物，其包含：约0.05%至30%重量比之一或多种含不产生铵之强碱，其包含非亲核性、带正电抗衡离子；约0.5至约99.95%重量比之一或多种腐蚀抑制溶剂化合物，该腐蚀抑制溶剂化合物具有至少两个可与金属错合之位置；以及视情况其他成分；d)一种调配物，其包含：约0.05至20%重量比之一或多种非铵产生、非HF产生氟化物盐；约5至约99.95%重量比之水、有机溶剂、或水与有机溶剂；视情况地及其他成分；及e)一种调配物，其包含：约0.05%至30%重量比之一或多种含非铵产生强碱、非亲核性、带正电抗衡离子；约5至约99.95%重量比之一或多种位阻酰胺溶剂；视情况地及其他成分。

    快速固定性材料噴灑設備之清潔方法 METHOD OF CLEANING FAST SETTING MATERIAL SPRAY EQUIPMENT
    38.
    发明专利
    快速固定性材料噴灑設備之清潔方法 METHOD OF CLEANING FAST SETTING MATERIAL SPRAY EQUIPMENT 审中-公开
    快速固定性材料喷洒设备之清洁方法 METHOD OF CLEANING FAST SETTING MATERIAL SPRAY EQUIPMENT

    公开(公告)号：TW200948483A

    公开(公告)日：2009-12-01

    申请号：TW098109203

    申请日：2009-03-20

    申请人： 格雷克明尼蘇達股份有限公司

    发明人： 堤克斯 約瑟夫 ,  維喬斯狄克 傑弗瑞 ,  理察 安德森

    IPC分类号： B05B ,  B08B

    CPC分类号： C11D11/0041 ,  B05B7/2402 ,  B05B15/55 ,  C09D9/005 ,  C11D7/263 ,  C11D7/5009

    摘要： 揭示一種清潔及沖洗快速固定材料噴槍10之方法，其在較佳具體實例中使用約62.5％DMSO、32.5％DBE及5％水之混合物。此混合物12在被霧化時是無毒的，且降低液體之冰點至低於10℉。因為溶劑與清洗用氣體混合且是以霧化形態自噴槍排出，重要的是使用無毒性溶劑，且也重要的是混合物的冰點夠低使得以在較冷氣候中能使用而不會凍結。

    简体摘要： 揭示一种清洁及冲洗快速固定材料喷枪10之方法，其在较佳具体实例中使用约62.5％DMSO、32.5％DBE及5％水之混合物。此混合物12在被雾化时是无毒的，且降低液体之冰点至低于10℉。因为溶剂与清洗用气体混合且是以雾化形态自喷枪排出，重要的是使用无毒性溶剂，且也重要的是混合物的冰点够低使得以在较冷气候中能使用而不会冻结。